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Volumn 35, Issue 4, 2006, Pages 771-776

Digital etching of III-N materials using a two-step Ar/KOH technique

Author keywords

Digital etch; GaN; KOH

Indexed keywords

ARGON PLASMA EXPOSURE; DIGITAL ETCH; GAN; KOH;

EID: 33646718602     PISSN: 03615235     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1007/s11664-006-0137-6     Document Type: Conference Paper
Times cited : (8)

References (9)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.