Cyclization reaction in acrylonitrile-contained acrylic copolymers and its possible application for the improvement of dry etch resistance for photoresists

Journal of Photopolymer Science and Technology

Volumn 11, Issue 3, 1998, Pages 525-532

  Zhao, Wenwei ^a   Sakurai, Yusuke ^b   Ohfiij, Takeshi ^a   Sasago, Masaru ^b   Tagawa, Seiichi ^a  

^a OSAKA UNIVERSITY   (Japan)

^b ASSOCIATION OF SUPER ADVANCED ELECTRONICS TECHNOLOGIES ASET   (Japan)

Author keywords

Cyclization; Dry etch resistance; Photoresist; Thermal treatment

Indexed keywords

EID: 33645042562     PISSN: 09149244     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.2494/photopolymer.11.525     Document Type: Article

References (25)

1. H. Gokan, S. Esho, Y. Ohnishi, J. Electrochem. Soc. 130(1983) 143.
2. N. Abe, S. Takechi, Y. Kaimoto, S. Takeshi, K. Nozaki, J. Photopolym. Sei. Technol. 8 (1995) 637.
3. R. R. Kunz, S. C. Palmateer, A. R. Forte, R. D.Allen, G. M. Wallraff, R. A. DiPietro, D. C. Hofer, Proc. SPIE , 2724 (1996) 365.
4. Y. Kaimoto, K. Nozaki, S. Takechi, N. Abe, Proc. SP/£ 1672 (1992) 66.
5. G. M. Wallraff, R. D. Allen, W. D. Hinsberg, C. F. Larson, R. D. Johnson, R. DiPietro, G. Breyta, N. Hacker, J. Vac. Sei. Technol. Bll (1993) 2783.
6. K. Nozaki, Y. Kaimoto, M. Takahashi, S. Takechi, N. Abe, Chem. Mater. 6 (1994) 1492.
7. M. Takahashi, S. Takechi, I. Hanyu, N. Abe, Proc. SPIE243S (1995) 2438, 422.
8. R. D. Allen, G. M. Wallraff, R. A. DiPietro, D. C. Hofer, R. R. Kunz, J. Photopolym. Sei. Technol. 7 (1994) 507.
9. K. Nozaki, K. Watanabe, T. Namiki, M. Igarashi, Y. Kuramitsu, E. Yano, Jpn. J. Appl. Phys. 35 (1996) L528.
10. K. Nakano, K. Maeda, S. Iwasa, J. Yano, Y. Ogura, E. Hasegawa, Proc. SPIE2195 (1994) 194.
11. K. Maeda, K. Nakano, T. Ohfuji, E. Hasegawa, Proc. SPIE 2724 (1996) 377.
12. (a) T. I. Wallow, F. M. Houlihan, O.Nalamasu, E. D. Chandross, T. X. Neenan, E. Reichmanis, Proc. SP2724 (1996) 355;
13. (b) F. M. Houlihan, T. I. Wallôw, O. Nalamasu, E. Reichmanis, Macromolecule 30 (1997) 6517.
14. (a) R. D. Allen, R. Sooriyakumaran, J. Optiz, G. M. Wallraff, R. DiPietro, G. Breyta, D. C. Hofer, R. R. Kunz, U. Okoroanyanwu, C. G. Willson, Proc. SPIE2724 (1996) 334;
15. (b) B. Alien, T. Wallow, J. Opitz, R. DiPietro, D. Hofer, S. Jayaraman, K. Hullihan, L. Rhodes, B. Goodall, R. Shick, Proc. SP/E3333 (1998), in press.
16. M. Suwa, H. Iwasawa,T. Kajita, M. Yamamoto, S. Iwanaga, Proc. SP/E3333 (1998), in press.
17. J. C. Jung,C. K. Bok, K. H. Baik.Proc. SPIE 3333 (1998), in press.
18. W. Zhao, T. Ohfuji, M. Sasago, S. Tagawa, Proc. SPIE, 3333 (1998), in press.
19. N. Grassie, J. N. Hay, J. Polym. Sei. 56(1962) 189.
20. N. Grassie, R. McGuchan, Eur. Polym. J. 8 (1972); 865.
21. W. Watt, W. Johnson, Nature 257 (1975),210.
22. M. M. Coleman.R. J. Petcavich.J. Polym, Sei. -Polym. Phys. Ed. 16(1977) 821.
23. B. Bashir, Carbon 29 (1991) 1081, and references therein.
24. H. Kakida, K. Tashiro, M. Kobayashi, Polym. J. 28(1996)30.
25. J. Brandrup, E. H. Immergut, eds., Polymer Handbook, second edition, John Wiley & Sons, New York, (l974) 11-387.