Time-of-flight secondary ion mass spectrometry study of zinc oxide micropatterning on self-assembled monolayer template

Journal of the Electrochemical Society

Volumn 153, Issue 3, 2006, Pages

  Saito, N ^a   Haneda, H ^a   Komatsu, M ^a   Koumoto, K ^b  

^a NATIONAL INSTITUTE FOR MATERIALS SCIENCE   (Japan)

^b NAGOYA UNIVERSITY   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

IONS; MONOLAYERS; SECONDARY ION MASS SPECTROMETRY; SELF ASSEMBLY; ULTRAVIOLET RADIATION;

ANGLE MEASUREMENTS; CATALYZED REGIONS; MICROPATTERNING PROCESS; WETTING ANGLE;

ZINC OXIDE;

EID: 32044470641     PISSN: 00134651     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1149/1.2161547     Document Type: Article

References (26)

1. K. Koumoto, S. Seo, T. Sugiyama, W. S. Seo, and W. J. Dressick, Chem. Mater., 11, 2305 (1999).
2. Y. Masuda, Y. Jinbo, T. Yonezawa, and K. Koumoto, Chem. Mater., 14, 1236 (2002).
3. P. X. Zhu, M. Ishikawa, W. S. Seo, A. Hozumi, Y. Yokogawa, and K. Koumoto, J. Biomed. Mater. Res., 59, 294 (2002).
4. N. Saito, H. Haneda, W. S. Seo, and K. Koumoto, Langmuir, 17, 1461 (2001).
5. P. G. Clem, N. L. Jeon, R. G. Nuzzo, and D. A. Payne, J. Am. Ceram. Soc., 80, 2821 (1997).
6. R. J. Collins, H. Shin, M. R. DeGuire, A. H. Heuer, and C. N. Sukenik, Appl. Phys. Lett., 69, 860 (1996).
7. B. C. Bunker, P. C. Rieke, B. J. Tarasevich, A. A. Campbell, G. E. Fryxell, G. L. Graff, L. Song, J. Liu, J. W. Virden, and G. L. McVay, Science, 264, 48 (1994).
8. N. Saito, H. Haneda, T. Sekiguchi, N. Ohashi, I. Sakaguchi, and K. Koumoto, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.), 14, 418 (2002).
9. N. Saito, H. Haneda, D. Li, and K. Koumoto, J. Ceram. Soc. Jpn., 110, 386 (2002).
10. N. Saito, H. Haneda, T. Sekiguchi, T. Ishigaki, and K. Koumoto, J. Electrochem. Soc., 151, H169 (2004).
11. C. S. Dulcey, J. H. Georger, V. Krauthamer, D. A. Stenger, T. L. Fare, and J. M. Calvert, Science, 252, 551 (1991).
12. W. J. Dressick and J. M. Calvert, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, 32, 5829 (1993).
13. C. S. Dulcey, J. H. Georger, M. S. Chen, S. W. McElvancy, C. E. O'Ferrall, V. I. Benezra, and J. M. Calvert, Langmuir, 12, 1638 (1996).
14. M. Izaki and T. Omi, J. Electrochem. Soc., 144, L3 (1997).
15. M. Izaki and J. Katayama, J. Electrochem. Soc., 147, 210 (2000).
16. Y. Y. Lua, T. L. Niederhauser, B. A. Wacaser, I. A. Mowat, A. T. Woolley, R. C. Davis, H. A. Fishman, and M. R. Linford, Langmuir, 19, 985 (2003).
17. E. Cooper and G. J. Leggett, Langmuir, 15, 1024 (1999).
18. K. Uosaki, M. E. Quayum, S. Nihonyanagi, and T. Kondo, Langmuir, 20, 1207 (2004).
19. M. Froment, E. Queau, J. R. Martin, and G. Stremsdoerfer, J. Electrochem. Soc., 142, 3373 (1995).
20. R. L. Cohen and K. W. West, Chem. Phys. Lett., 16, 128 (1972).
21. R. L. Cohen, R. L. Meek, and K. W. West, Plat. Surf. Finish., 63, 52 (1976).
22. N. B. Colthup, L. H. Daly, and S. E. Wiberley, Introduction to Infrared and Raman Spectroscopy, 3rd ed., Academic Press, New York (1990).
23. G. A. Parks, Chem. Rev. (Washington, D.C.), 65, 177 (1965).
24. J. E. A. M. van den Meerakker, J. Appl. Electrochem., 11, 395 (1981).
25. T. Homma, H. Nakai, M. Onishi, and T. Osaka, J. Phys. Chem. B, 103, 1774 (1999).
26. H. A. Storms, K. F. Brown, and J. D. Stein, Anal. Chem., 49, 2023 (1977).