Plasma chemistry in the CVD synthesis of nanodiamond films

Proceedings - Electrochemical Society

Volumn PV 2005-09, Issue , 2005, Pages 415-426

  Gordillo Vazquez, F J ^a   Gomez Aleixandre C ^b   Albella, J M ^b  

^a INSTITUTO DE ÓPTICA   (Spain)

^b INSTITUTO DE CIENCIA DE MATERIALES DE MADRID   (Spain)

Author keywords

Acetylene; Kinetic modelling; Nanodiamond; Plasma chemistry; Radio Frequency

Indexed keywords

ACETYLENE; CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; PLASMA THEORY; SYNTHESIS (CHEMICAL); THIN FILMS;

KINETIC MODELING; NANODIAMOND FILMS; PLASMA CHEMISTRY; RADIO FREQUENCY;

DIAMOND FILMS;

EID: 31744448779     PISSN: None     EISSN: None     Source Type: Conference Proceeding    
DOI: None     Document Type: Conference Paper

References (24)

1. G. Amaratunga, A. Putnis, K. Clay and W. Milne, Appl. Phys. Lett. 55, 634 (1989)
2. D. M. Gruen, S. Liu, A. R. Krauss and X. Pan, J. Appl. Phys. 75, 1758 (1994)
3. D. M. Gruen, S. Liu, A. R. Krauss, J. Luo and X. Pan, Appl. Phys. Lett. 64, 1502 (1994)
4. D. M. Gruen, C. D. Zuiker, A. R.Krauss and X. Pan, J. Vac. Sci. Technol. A 13, 1628 (1995)
5. D. Zhou, T. G. McCauley, L. C. Qin, A. R. Krauss and D. M. Gruen J. Appl. Phys. 83, 540 (1998)
6. A. N. Goyette, J. E. Lawler, L. W. Anderson, D. M. Gruen, T. G. McCauley, D. Zhou and A. R. Krauss J. Phys. D: Appl. Phys. 31, 1975 (1998)
7. D. Zhou, D. M. Gruen, L. C. Qin, T. G. McCauley and A. R. Krauss, J. Appl. Phys. 84, 1981 (1998)
8. T. G. McCauley, D. M. Gruen and A. R. Krauss, Appl. Phys. Lett. 73, 1646 (1998)
9. P. C. Redfern, D. A. Homer, A. A. Curtis and D. M. Gruen, J. Phys. Chem. 100, 11654 (1996)
10. A. N. Goyette, J. E. Lawler, L. W. Anderson, D. M. Gruen, T. G. McCauley, D. Zhou and A. R. Krauss, Plasma Sources Sci. Technol. 7, 149 (1998)
11. V. Schulz-von der Gathen, J. Röpcke, T. Gans, M. Käning, C. Lukas and H. F. Döbele, Plasma Sources Sci. Technol. 10, 530 (2001)
12. C. Riccardi, R. Barni, M. Fontanesi and P. Tosi, Chem. Phys. Lett. 329, 66 (2000)
13. F. J. Gordillo-Vázquez and J. M. Albella, Plasma Sources Sci. Technol. 11, 498 (2002)
14. T. Schwarz-Selinger, A. von Keudell and W. Jacob, J. Appl. Phys. 86, 3988 (1999)
15. F. J. Gordillo-Vázquez and J. M. Albella, J. Appl. Phys. 94, 6085 (2003)
16. F. J. Gordillo-Vázquez and J. M. Albella, Plasma Sources Sci. Technol. 13, 50 (2004)
17. BOLSIG, a two-term Boltzmann solver W. L. Morgan (Kinema Software) and J. P. Boeuf and L. C. Pitchford (CPAT) 1997.
18. A. M. Derkatch, A. Al-Khalili, L. Vikor, A. Neau, W. Shi, H. Donared, M. af Ugglas and M. Larsson, J. Phys. B: At. Mol. Opt. Phys. 32, 3391 (1999)
19. U. Fantz, S. Meir and M. Berger, in Proceedings of the Sixteenth European Conference on Atomic and Molecular Physics of Ionized Gases (ESCAMP1G, Grenoble, France, 2002), vol 2, p. 123).
20. J. N. Brooks, Z. Wang, D. N. Ruzic and D. A. Alman, 1999 ANF/FPP/TM-297.
21. S. Naito, M. Ikeda, N. Ito, T. Hattori and T. Goto, Jpn J. Appl. Phys. 32, 5721 (1993).
22. K. D. Dobbs and D. A. Dixon, J. Phys. Chem 98, 5290 (1997)
23. M. Heintze and M. Magureanu J. Appl. Phys. 92, 2276 (2002)
24. J. B. Wills, J. A. Smith, W. E. Boxford, J. M. F. Elks, M. N. R. Ashfold and A. J. OrrEwing, J. Appl. Phys. 92, 4213 (2002)