Distinct nonequilibrium plasma chemistry of C2 affecting the synthesis of nanodiamond thin films from C2H2(1%)/H 2/Ar-rich plasmas

Journal of Applied Physics

Volumn 94, Issue 9, 2003, Pages 6085-6090

  Gordillo Vazquez F J ^a   Albella, J M ^b  

^a INSTITUTO DE ÓPTICA   (Spain)

^b INSTITUTO DE CIENCIA DE MATERIALES DE MADRID   (Spain)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ARGON; CARBON; DIAMONDS; HYDROCARBONS; HYDROGEN; NANOSTRUCTURED MATERIALS; PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; PLASMAS; REACTION KINETICS; SYNTHESIS (CHEMICAL);

PLASMA CHEMISTRY;

THIN FILMS;

EID: 17144435501     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1617362     Document Type: Article

References (30)

1. G. Amaratunga, A. Putnis, K. Clay, and W. Milne, Appl. Phys. Lett. 55, 634 (1989).
2. D. M. Gruen, S. Liu, A. R. Krauss, and X. Pan, J. Appl. Phys. 75, 1758 (1994).
3. D. M. Gruen, S. Liu, A. R. Krauss, J. Luo, and X. Pan, Appl. Phys. Lett. 64, 1502 (1994).
4. D. M. Gruen, C. D. Zuiker, A. R. Krauss, and X. Pan, J. Vac. Sci. Technol. A 13, 1628 (1995).
5. D. Zhou, T. G. McCauley, L. C. Qin, A. R. Krauss, and D. M. Gruen, J. Appl. Phys. 83, 540 (1998).
6. A. N. Goyette, J. E. Lawler, L. W. Andersen, D. M. Gruen, T. G. McCauley, D. Zhou, and A. R. Krauss, J. Phys. D 31, 1975 (1998).
7. D. Zhou, D. M. Gruen, L. C. Qin, T. G. McCauley, and A. R. Krauss, J. Appl. Phys. 84, 1981 (1998).
8. T. G. McCauley, D. M. Gruen, and A. R. Krauss, Appl. Phys. Lett. 73, 1646 (1998).
9. P. C. Redfern, D. A. Homer, A. A. Curtis, and D. M. Gruen, J. Phys. Chem. 100, 11654 (1996).
10. A. N. Goyette, J. E. Lawler, L. W. Anderson, D. M. Gruen, T. G. McCauley, D. Zhou, and A. R. Krauss, Plasma Sources Sci. Technol. 7, 149 (1998).
11. A. von Keudell, C. Hopf, T. Schwarz-Selinger, and W. Jacob, Nucl. Fusion 39, 1451 (1999).
12. V. Schulz-von der Gathen, J. Röpeke, T. Gans, M. Käning, C. Lukas, and H. F. Döbele, Plasma Sources Sci. Technol. 10, 530 (2001).
13. C. Riccardi, R. Barni, M. Fontanesi, and P. Tosi, Chem. Phys. Lett. 329, 66 (2000).
14. F. J. Gordillo-Vázquez and J. M. Albella, Plasma Sources Sci. Teehnol. 11, 498 (2002).
15. J. N. Brooks, Z. Wang, D. N. Ruzic, and D. A. Alman, Argonne National Laboratory (Fusion Power Plant) Report No. 297 (1999).
16. U. Fantz, S. Meir, and M. Berger, in Proceedings of the Sixteenth European Conference on Atomic and Molecular Physics of Ionized Gases (ESCAMPIG, Grenoble, France, 2002), Vol. 2, p. 123.
17. G. Theodorakopoulos and I. D. Petsalakis, J. Chem. Phys. 101, 194 (1994).
18. M. T. Jones, T. D. Dreiling, D. W. Setser, and R. N. MacDonald, J. Phys. Chem. 89, 4501 (1985).
19. M. Tsuji, H. Kouno, K. Matsumura, T. Funatsu, and Y. Nishimura, J. Chem. Phys. 98, 2011 (1993).
20. A. J. M. Buuron, Ph.D. thesis, Eindhoven University of Technology (1993).
21. H. Tahara, K. Minami, A. Murai, T. Yasui, and T. Yoshikawa, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 34, 1972 (1995).
22. L. E. Kline, W. D. Partlow, and W. E. Bies, J. Appl. Phys. 65, 70 (1989).
23. A. J. Dean, R. K. Hanson, and C. T. Bowman, J. Phys. Chem. 95, 3180 (1991).
24. R. A. Brownsword, A. Canosa, B. R. Rowe, I. R. Sims, I. W. M. Smith, D. W. A. Stewart, A. C. Symonds, and D. Travers, J. Chem. Phys. 106, 7662 (1997).
25. A. Bogaerts and R. Gijbels, Phys. Rev. A 52, 3743 (1995).
26. W. L. Morgan, J. P. Boeuf, and L. C. Pitchford, BOLSIG, a Two-Term Boltzmann Solver, Kinema Software, 1997 (http://www.kinema.com).
27. M. Heintze and M. Magureanu, J. Appl. Phys. 92, 2276 (2002).
28. H. Reisler, M. S. Mangir, and C. Wittig, J. Chem. Phys. 73, 2280 (1980).
29. G. Dinescu, A. de Graaf, E. Aldea, and M. C. M. van de Sanden, Plasma Sources Sci. Technol. 10, 513 (2001).
30. A. M. Derkatch, A. Al-Khalili, L. Vikor, A. Neau, W. Shi, H. Donared, M. af Ugglas, and M. Larsson, J. Phys. B 32, 3391 (1999).