Nanopatterning of polyfluorene derivative using electron-beam lithography

Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures

Volumn 23, Issue 5, 2005, Pages 2051-2055

  Doi, Yusuke ^a   Saeki, Akinori ^a   Koizumi, Yoshiko ^a   Seki, Shu ^a   Okamoto, Kazumasa ^a   Kozawa, Takahiro ^a   Tagawa, Seiichi ^a  

^a OSAKA UNIVERSITY   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CATALYSIS; ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY; OPTIMIZATION; SYNTHESIS (CHEMICAL);

NANOPATTERNING; POLYFLUORENE DERIVATIVES;

ORGANIC POLYMERS;

EID: 31144467739     PISSN: 10711023     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.2050655     Document Type: Article

References (41)

1. Y. Ohmori, M. Uchida, K. Muro, and K. Yoshino, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 30, L1941 (1991).
2. H. Sirringhaus, R. J. Wilson, R. H. Friend, M. Inbasekaran, W. Wu, E. P. Woo, M. Grell, and D. D. C. Bradley, Appl. Phys. Lett. 77, 406 (2000).
3. A. J. Campbell, D. D. C. Bradley, and H. Antoniadis, Appl. Phys. Lett. 79, 2133 (2001).
4. N. Godbert, P. L. Burn, S. Gilmour, J. P. J. Markham, and I. D. W. Samuel, Appl. Phys. Lett. 83, 5347 (2003).
5. M. Grel, D. D. C. Bradley, G. Ungar, J. Hill, and K. S. Whitehead, Macromolecules 32, 5810 (1999).
6. Y. Koizumi, S. Seki, A. Acharya, A. Saeki, and S. Tagawa, Chem. Lett. 33, 1290 (2004).
7. M. D. McGehee, M. A. Díaz-García, F. Hide, R. Gupta, E. K. Miller, D. Moses, and A. J. Heeger, Appl. Phys. Lett. 72, 1536 (1998).
8. S. V. Frolov, Z. V. Vardeny, and K. Yoshino, Appl. Phys. Lett. 72, 1802 (1998).
9. G. Heliotis, R. Xia, D. D. C. Bradley, G. A. Turnbull, I. D. W. Samuel, P. Andrew, and W. L. Barnes, Appl. Phys. Lett. 83, 2118 (2003).
10. X. Liu, C. Py, Y. Tao, Y. Li, J. Ding, and M. Day, Appl. Phys. Lett. 84, 2727 (2004).
11. M. Gaal, C. Gadermaier, H. Plank, E. Moderegger, A. Pogantsch, G. Leising, and E. J. W. List, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.) 15, 1165 (2003).
12. M. Angelopoulos, J. M. Shaw, R. D. Kaplan, and S. Perreault, J. Vac. Sci. Technol. B 7, 1519 (1989).
13. H. Tomozawa, Y. Saida, Y. Ikenoue, F. Murai, Y. Suzuki, T. Tawa, and Y. Ohta, J. Photopolym. Sci. Technol. 9, 707 (1996).
14. M. A. Z. Hupcey and C. K. Ober, J. Vac. Sci. Technol. B 16, 3701 (1998).
15. S. Holdcroft, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.) 13, 1753 (2001).
16. M. L. Renak, G. C. Bazan, and D. Roitman, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.) 9, 392 (1997).
17. M. Deutsch, Y. A. Vlasov, and D. J. Norris, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.) 12, 1176 (2000).
18. F. A. Boroumand, P. W. Fry, and D. G. Lidzey, Nano Lett. 5, 67 (2005).
19. M. Anni, L. Manna, R. Cingolani, D. Valerini, A. Cretí, and M. Lomascolo, Appl. Phys. Lett. 85, 4169 (2004).
20. L. S. Roman, O. Inganäs, T. Granlund, T. Nyberg, M. Svensson, M. R. Andersson, and J. C. Hummelen, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.) 12, 189 (2000).
21. B. J. Matterson, J. M. Lupton, A. F. Safonov, M. G. Salt, W. L. Barnes, and I. D. W. Sammuel, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.) 13, 123 (2001).
22. H. Kogelnik and C. V. Shank, Appl. Phys. Lett. 18, 152 (1971).
23. H. Ito and C. G. Wilson, Polym. Eng. Sci. 23, 1012 (1983).
24. F. Zhang, T. Nyberg, and O. Inganäs, Nano Lett. 2, 1373 (2002).
25. C. Kranz, M. Ludwig, H. E. Gaub, and W. Schuhmann, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.) 7, 38 (1995).
26. R. Riehn, A. Charas, J. Morgado, and F. Cacialli, Appl. Phys. Lett. 82, 526 (2003).
27. S. Seki, S. Tsukuda, K. Maeda, Y. Matsui, A. Saeki, and S. Tagawa, Phys. Rev. B 70, 144203 (2004).
28. N. Miyaura and A. Suzuki, Chem. Rev. (Washington, D.C.) 95, 2457 (1995).
29. Q. D. Ling, E. T. Kang, K. G. Neoh, and W. Huang, Macromolecules 36, 6995 (2003).
30. J. Ding, M. Day, G. Robertson, and J. Roovers, Macromolecules 35, 3474 (2002).
31. T. Kozawa, Y. Yoshida, M. Uesaka, and S. Tagawa, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 31, 4301 (1992).
32. J. W. Thackeray, T. Adams, M. F. Cronin, M. Denison, T. H. Fedynyshyn, J. Georger, J. M. Mori, G. W. Orsula, and R. Sinta, J. Photopolym. Sci. Technol. 7, 619 (1994).
33. T. Kozawa, A. Saeki, A. Nakano, Y. Yoshida, and S. Tagawa, J. Vac. Sci. Technol. B 21, 3419 (2003).
34. T. Kozawa, A. Saeki, and S. Tagawa, J. Vac. Sci. Technol. B 22, 3489 (2004).
35. H. Yamamoto, T. Kozawa, A. Nakano, K. Okamoto, Y. Yamamoto, T. Ando, M. Sato, H. Komano, and S. Tagawa, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 43, L848 (2004).
36. U. Scherf and E. J. W. List, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.) 14, 477 (2002).
37. M. Ariu, D. G. Lidzey, M. Sims, A. J. Cadby, P. A. Lane, and D. D. C. Bradley, J. Phys.: Condens. Matter 14, 9975 (2002).
38. V. N. Bliznyuk, S. A. Carter, J. C. Scoot, G. Klärner, R. D. Miller, and D. C. Miller, Macromolecules 32, 361 (1999).
39. J. C. de Mello, H. F. Wittmann, and R. H. Friend, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.) 9, 230 (1997).
40. J. Teetsov and D. A. V. Bout, J. Am. Chem. Soc. 123, 3605 (2001).
41. J. Nakamura, H. Ban, K. Deguchi, and A. Tanaka, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 30, 2619 (1992).