Negative differential resistance in metallic and semiconducting clusters

Journal of Physical Chemistry B

Volumn 108, Issue 22, 2004, Pages 6915-6918

  Seminario, Jorge M ^a   Araujo, Roy A ^a   Yan, Liuming ^a  

^a University of South Carolina   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

NEGATIVE DIFFERENTIAL RESISTANCE; ORGANIC MOLECULES; SEMICONDUCTING CLUSTERS; SMALL CLUSTERS;

CURRENT VOLTAGE CHARACTERISTICS; ELECTRIC RESISTANCE; INTEGRATED CIRCUITS; NANOSTRUCTURED MATERIALS; SWITCHING; TRANSISTORS;

SEMICONDUCTOR DEVICES;

EID: 2942752195     PISSN: 15206106     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp037781l     Document Type: Article

References (27)

1. Kwok, K. S.; Ellenbogen, J. C. Mater. Today 2002, 5, 28.
2. Kwok, K. S. NanoToday 2003, December, 20.
3. Semiconductor Industry Association. http://public.itrs.net/Files/ 2001ITRS/ExecSum.pdf, 2001.
4. Seminario, J. M.; Cordova, L. E.; Derosa, P. A. Proc. IEEE 2003, 91, 1958.
5. Seminario, J. M.; Ma, Y.; Agapito, L. A.; Yan, L.; Araujo, R. A.; Bingi, S.; Vadlamani, N. S.; Chagarlamudi, K.; Sudarshan, T. S.; Myrick, M. L.; Colavita, P. E.; Franzon, P. D.; Nackashi, D. P.; Cheng, L.; Yao, Y.; Tour, J. M. J. Nanosci. Nanotech. In press, 2004.
6. Husband, C. P.; Husband, S. M.; Daniels, J. S.; Tour, J. M. IEEE Trans. Electron Devices 2003, 50, 1865.
7. 20-27
8. We use the practical definition of an NDR device in this work (i.e., a device that presents negative differential resistance in some operational range, regardless of its physical mechanism).
9. Tour, J. M.; Cheng, L.; Nackashi, D. P.; Yao, Y.; Flatt, A. K.; St. Angelo, S. K.; Mallouk, T. E.; Franzon, P. D. J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 13279.
10. Derosa, P. A.; Guda, S.; Seminario, J. M. J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 14240.
11. Seminario, J. M.; Zacarias, A. G.; Derosa, P. A. J. Chem. Phys. 2002, 116, 1671.
12. Seminario, J. M.; Derosa, P. A.; Cordova, L. E.; Bozard, B. H. IEEE Trans. Nanotechnol. 2004, 3, 215.
13. Seminario, J. M.; Zacarias, A. G.; Tour, J. M. J. Am. Chem. Soc. 2000, 122, 3015.
14. Seminario, J. M.; Zacarias, A. G.; Derosa, P. A. J. Chem. Phys. 2002, 116, 1671.
15. Seminario, J. M.; Derosa, P. A.; Bastos, J. L. J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 10266.
16. Derosa, P. A.; Seminario, J. M. J. Phys. Chem. B 2001, 105, 471.
17. Seminario, J. M.; De La Cruz, C. E.; Derosa, P. A. J. Am. Chem. Soc. 2001, 123, 5616.
18. Seminario, J. M.; Zacarias, A. G.; Tour, J. M. J. Phys. Chem. A 1999, 103, 7883.
19. Service, R. F. Science 2003, 302, 556.
20. Chen, J.; Reed, M. A.; Rawlett, A. M.; Tour, J. M. Science 1999. 286, 1550.
21. Chen, J.; Wang, W.; Reed, M. A.; Rawlett, A. M.; Price, D. W.; Tour, J. M. Appl. Phys. Lett. 2000, 77, 1224.
22. Gorman, C. B.; Carroll, L. R. L.; Fuierer, R. R. Lamgmuir 2001, 17, 6923.
23. Kratochvilov, I.; Kocirik, M.; Zambova, A.; Mbindyo, J.; Mallouk, T.; Mayer, T. J. Mater. Chem. 2002, 12, 2927.
24. Rawlett, A. M.; Hopson, T. J.; Nagahara, L. A.; Tsui, R. K.; Ramachandran, G. K.; Lindsay, S. M. Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 3043.
25. Amlani, I.; Rawlett, A. M.; Nagahara, L. A.; Tsui, R. Appl. Phys. Lett. 2002, 80, 2761.
26. Li, C.; Zhang, D.; Liu, X.; Han, S.; Tang, T.; Zhou, C.; Fan, W.; Koehne, J.; Han, J.; Meyyappan, M.; Rawlett, A. M.; D. P.; Tour, J. M. Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 645.
27. Rawlett, A. M.; Hopson, T. J.; Amlani, I.; Zhang, R.; Tresek, J.; Nagahara, L.; Tsui, R. K.; Goronkin, H. Nanotechnology 2003, 14, 377.