Effects of hydrogen during molecular beam epitaxy of GaN

Physica Status Solidi C: Conferences

Volumn 2, Issue 7, 2005, Pages 2183-2186

  Dong, Y ^a   Feenstra, R M ^a  

^a CARNEGIE MELLON UNIVERSITY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

HYDROGEN; MOLECULAR BEAM EPITAXY; PLASMA APPLICATIONS; SURFACE STRUCTURE;

GA-RICH CONDITIONS; KINK SITES; RF PLASMA SOURCE;

GALLIUM NITRIDE;

EID: 27344452495     PISSN: 16101634     EISSN: None     Source Type: Conference Proceeding    
DOI: 10.1002/pssc.200461464     Document Type: Conference Paper

References (14)

1. B. Heying, E. J. Tarsa, C. R. Elsass, P. Fini, S. P. DenBaars, and J. S. Speck, J. Appl. Phys. 85, 6470 (1999).
2. A. Thamm, O. Brandt, Y. Takemura, A. Trampert, and K. H. Ploog, Appl. Phys. Lett. 75, 944 (1999).
3. A. R. Smith, R. M. Feenstra, D. W. Greve, M. -S. Shin, M. Skowronski, J. Neugebauer, and J. E. Northrup, J. Vac. Sci. Technol. B 16, 2242 (1998).
4. A. Munkholm, G. B. Stephenson, J. A. Eastman, C. Thompson, P. Fini, J. S. Speck, O. Auciello, P. H. Fuoss, and S. P. DenBaars, Phys. Rev. Lett. 83, 741 (1999).
5. Zhonghai Yu, S. L. Buczkowski, N. C. Giles, T. H. Myers, and M. R. Richards-Babb, Appl. Phys. Lett. 69, 2731 (1996).
6. B. L. VanMil, H. Guo, L. J. Holbert, K. Lee, T. H. Myers, T. Liu, and D. Korakakis, J. Cryst. Growth (2004), (in press).
7. Chris G. Van de Walle, and J. Neugebauer, Phys. Rev. Lett. 88, 066103 (2002).
8. John E. Northrup, Phys. Rev. B 66, 045204 (2002).
9. A. Krtschil, A. Dadgar, and A. Krost, J. Cryst. Growth 248, 542 (2003).
10. A. R. Smith, V. Ramachandran, R. M. Feenstra, D. W. Greve, A. Ptak, T. H. Myers, W. Sarney, L. Salamanca-Riba, M. Shin, and M. Skowronski, MRS Internet J. Nitride Semicond. Res. 3, 12 (1998).
11. M. H. Xie, S. H. Cheung, L. Zheng, Y. Ng, H. Wu, N. Ohtani, and S. Y. Tong, Phys. Rev. B 61, 9983 (2000).
12. M. V. Ramana Murty, P. Fini, G. B. Stephenson, C. Thompson, J. A. Eastman, A. Munkholm, O. Auciello, R. Jothilingam, S. P. DenBaars, and J. S. Speck, Phys. Rev. B 62, 10661 (2000).
13. R. Np̈tzel, H. Schönherr, Z. Nui, L. Däweritz, and K. H. Ploog, J. Cryst. Growth 201, 814 (1999).
14. J. W. P. Hsu, M. J. Manfra, S. N. G. Chu, C. H. Chen, L. N. Pfeiffer, and R. J. Molnar, Appl. Phys. Lett. 78, 3980 (2001).