Magnetic suppression of secondary electrons in plasma immersion ion implantation

Applied Physics Letters

Volumn 86, Issue 2, 2005, Pages

  Tan, Ing Hwie ^a   Ueda, Mario ^a   Dallaqua, Renato S ^a   Rossi, Jose O ^a  

^a INSTITUTO NACIONAL DE PESQUISAS ESPACIAIS   (Brazil)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

COPPER; ELECTRIC POTENTIAL; ION IMPLANTATION; MAGNETIC FIELDS; MAGNETIZATION; PLASMAS; VACUUM; X RAY ANALYSIS;

MAGNETIC SUPPRESSION; METALLIC PLASMA; VACCUM ARC; X-RAY RADIATIONS;

ELECTRONS;

EID: 19744383083     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1852704     Document Type: Article

References (13)

1. J. R. Conrad, J. L. Radtke, R. A. Dodd, F. J. Worzala, and N. C. Tran, J. Appl. Phys. 62, 4591 (1997).
2. M. Ueda, LA Berni, J. O. Rossi, J. J. Barroso, G. F. Gomes, A. F. Beloto, and E. Abramof, Surf. Coat. Technol. 136, 28 (2001)
3. R. J. Adler, and S. T. Picraux, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B 6, 123 (1985).
4. I. G. Brown, X. Godechot, and K. M. Yu, Appl. Phys. Lett. 58, 1392 (1991).
5. I. G. Brown, A. Anders, M. R. Dickinson, R. A. MacGill, and O. R. Monteiro, Surf. Coat. Technol. 112, 271 (1999).
6. M. M. Shamim, J. T. Scheuer, R. P. Fetherson, and J. R. Conrad, J. Appl. Phys. 70, 4756 (1991).
7. D. J. Rej, R. J. Faehl, and J. N. Matossian, Surf. Coat. Technol. 96, 45 (1997).
8. D. J. Rej, B. P. Wood, R. J. Faehl, and H. H. Fleishmann, J. Vac. Sci. Technol. B 12, 861 (1994).
9. K. G. Kostov, J. J. Barroso, and M Ueda, Braz. J. Phys. 34, 1689 (2004).
10. I. H. Tan, M. Ueda, R. S. Dallaqua, J. O. Rossi, A. F. Beloto, E. Abramof, Y. Inoue, and O. Takai, Plasma Sources Sci. Technol. 11, 317 (2002).
11. I. G. Brown, Rev. Sci. Instrum. 65, 3061 (1994).
12. M. J. Hole, R. S. Dallaqua, S. W. Simpson, and E. del Bosco, Phys. Rev. E 65, 046409 (2002).
13. M. Ueda, I. H. Tan, R. S. Dallaqua, J. O. Rossi, J. J. Barroso, and M. H. Tabacniks, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B 206, 760 (2003).