Suppression of interdiffusion in GaAs/AlGaAs quantum-well structure capped with dielectric films by deposition of gallium oxide

Journal of Applied Physics

Volumn 92, Issue 7, 2002, Pages 3579-3583

  Fu, L ^a   Wong Leung, J ^a   Deenapanray, P N K ^a   Tan, H H ^a   Jagadish, C ^a   Gong, Bin ^b   Lamb, R N ^b   Cohen, R M ^c   Reichert, W ^c   Dao, L V ^b   Gal, M ^b  

^a AUSTRALIAN NATIONAL UNIVERSITY   (Australia)

^b UNIVERSITY OF NEW SOUTH WALES   (Australia)

^c UNIVERSITY OF UTAH   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

DIELECTRIC CAPPING LAYERS; DIELECTRIC CAPS; GAAS; GAAS/ALGAAS; GAAS/ALGAAS QUANTUM WELL; GALLIUM OXIDES; IMPURITY FREE VACANCY DISORDERING; MASK MATERIALS; QUANTUM WELL STRUCTURES; THERMAL STRESS EFFECTS; VACANCY DIFFUSION;

DIELECTRIC FILMS; RAPID THERMAL ANNEALING; SINGLE CRYSTALS; VACANCIES;

GALLIUM;

EID: 18644384833     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1503857     Document Type: Article

References (27)

1. Quantum Well Intermixing for Photonics, edited by E. H. Li (SPIE, Bellingham, WA, 1997).
2. W. D. Laidig, N. Holonyak, Jr., M. D. Camras, K. Hess, J. J. Coleman, P. D. Dapkus, and J. Berdeen, Appl. Phys. Lett. 38, 776 (1981). apl APPLAB 0003-6951
3. P. Gavrilovic, D. G. Deppe, K. Meehan, N. Holonyak, and J. J. Coleman, Superlattices Microstruct. 47, 130 (1985). sum SUMIEK 0749-6036
4. D. Kirillov, J. L. Merz, P. D. Dapkus, and J. J. Coleman, J. Appl. Phys. 55, 1105 (1984). jap JAPIAU 0021-8979
5. H. H. Tan, J. S. Williams, C. Jagadish, P. T. Burke, and M. Gal, Appl. Phys. Lett. 68, 2401 (1996). apl APPLAB 0003-6951
6. A. C. Bryce, F. Camacho, P. Cusumano, and J. H. Marsh, IEEE J. Sel. Top. Quantum Electron. 3, 885 (1997). isq IJSQEN 1077-260X
7. J. H. Marsh, P. Cusumano, A. C. Bryce, B. S. Ooi, and S. G. Ayling, Proc. SPIE 74, 2401 (1995). spi PSISDG 0277-786X
8. W. J. Choi, J. I. Lee, I. K. Han, K. N. Kang, Y. Kim, H. L. Park, and K. Cho, J. Mater. Sci. Lett. 13, 326 (1994). jml JMSLD5 0261-8028
9. W. J. Choi, S. Lee, Y. Kim, S. K. Kim, J. I. Lee, K. N. Kang, N. Park, H. L. Park, and K. Cho, J. Mater. Sci. Lett. 14, 1433 (1995). jml JMSLD5 0261-8028
10. P. Cusumano, B. S. Ooi, A. Saher Helmy, S. G. Ayling, A. C. Bryce, J. H. Marsh, B. Voegele, and M. J. Rose, J. Appl. Phys. 81, 2445 (1997). jap JAPIAU 0021-8979
11. R. M. Cohen, G. Li, C. Jagadish, P. T. Burke, and M. Gal, Appl. Phys. Lett. 73, 803 (1998). apl APPLAB 0003-6951
12. A. Saher Helmy, S. K. Murad, A. C. Bryce, J. S. Aitichison, J. H. Marsh, S. E. Hicks, and C. D. W. Wilkinson, Appl. Phys. Lett. 74, 732 (1999). apl APPLAB 0003-6951
13. L. Fu, R. W. v. d. Heijden, H. H. Tan, C. Jagadish, L. V. Dao, and M. Gal, Appl. Phys. Lett. 80, 1171 (2002). apl APPLAB 0003-6951
14. A. Pépin, C. Vieu, M. Schneider, H. Launois, and Y. Nissim, J. Vac. Sci. Technol. B 15, 142 (1997). jvb JVTBD9 0734-211X
15. P. N. K. Deenapanray and C. Jagadish, Electrochem. Solid-State Lett. 4, G11 (2001); 8sw ESLEF6 1099-0062
16. J. Vac. Sci. Technol. B 19, 1962 (2001). jv2 JVTBD9 1071-1023
17. L. J. Eckert and R. C. Bradt, J. Am. Ceram. Soc. 56, 229 (1973). jac JACTAW 0002-7820
18. P. N. K. Deenapanray, H. H. Tan, M. I. Cohen, K. Gaff, M. Petravic, and C. Jagadish, J. Electrochem. Soc. 147, 1950 (2000). jes JESOAN 0013-4651
19. S. Bürkner, M. Maier, E. C. Larkins, W. Rothemund, E. P. O'Reilly, and J. D. Ralston, J. Electron. Mater. 24, 805 (1995). jem JECMA5 0361-5235
20. L. Fu, P. N. K. Deenapanray, H. H. Tan, C. Jagadish, L. V. Dao, and M. Gal, Appl. Phys. Lett. 76, 837 (2000). apl APPLAB 0003-6951
21. P. N. K. Deenapanray, H. H. Tan, L. Fu, and C. Jagadish, Electrochem. Solid-State Lett. 3, 196 (2000). 8sw ESLEF6 1099-0062
22. A. Witvrouw and F. Spaepen, J. Appl. Phys. 73, 7344 (1993). jap JAPIAU 0021-8979
23. M. Katayama, Y. Tokuda, N. Ando, Y. Inoue, A. Usami, and T. Wada, Appl. Phys. Lett. 54, 2559 (1989). apl APPLAB 0003-6951
24. I. Gontijo, T. Krauss, R. M. De La Rue, J. S. Roberts, and J. H. Marsh, Electron. Lett. 30, 145 (1994). ell ELLEAK 0013-5194
25. I. Gontijo, T. Krauss, J. H. Marsh, and R. M. De La Rue, IEEE J. Quantum Electron. 30, 1189 (1994). ejq IEJQA7 0018-9197
26. J. H. Teng, S. J. Chua, G. Li, A. S. Helmy, and J. H. Marsh, Appl. Phys. Lett. 76, 1582 (2000). apl APPLAB 0003-6951
27. J. H. Teng, S. J. Chua, Y. H. Huang, G. Li, Z. H. Zhang, A. S. Helmy, and J. H. Marsh, J. Appl. Phys. 88, 3458 (2000). jap JAPIAU 0021-8979