Effect of Bi surfactant on atomic ordering of GaAsSb

Applied Physics Letters

Volumn 85, Issue 23, 2004, Pages 5589-5591

  Jiang, W Y ^a   Liu, J Q ^a   So, M G ^a,b   Rao, T S ^a   Thewalt, M ^a   Kavanagh, K L ^a   Watkins, S P ^a  

^a SIMON FRASER UNIVERSITY   (Canada)

^b Kangwon National University   (South Korea)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

BISMUTH; ELECTRON DIFFRACTION; IMAGE PROCESSING; MICROSTRUCTURE; ORGANOMETALLICS; PYRITES; SURFACE ACTIVE AGENTS; VAPOR PHASE EPITAXY;

ATOMIC ORDERING; CHALCOPYRITE; EPILAYERS; LATTICE SPACINGS;

SEMICONDUCTING GALLIUM;

EID: 12844274487     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1830687     Document Type: Article

References (17)

1. S. W. Jim, C. M. Fetzer, R. T. Lee, J. K. Shurtleff, and G. B. Stringfellow, Appl. Phys. Lett. 76, 2716 (2000).
2. J. K. Shurtleff, R. T. Lee, C. M. Fetzer, and G. B. Stringfellow, Appl. Phys. Lett. 75, 1914 (1999).
3. S. H. Lee, C. Y. Fetzer, G. B. Stringfellow, D. H. Lee, and T. Y. Seong, J. Appl. Phys. 85, 3590 (1999).
4. C. R. Bolognesi, N. Matine, X. G. Xu, G. Soerensen, and S. P. Watkins, Microelectron. Reliab. 39, 1833 (1999).
5. H. R. Jen, M. J. Cherng, and G. B. Stringfellow, Appl. Phys. Lett. 48, 1603 (1986).
6. I. J. Murgatroyd, A. G. Norman, and G. R. Booker, J. Appl. Phys. 67, 2310 (1990).
7. T. S. Kuan, T. F. Kuech, W. I. Wang, and E. L. Wilkie, Phys. Rev. Lett. 54, 201 (1985).
8. I. G. Batyrev, A. G. Norman, S. B. Zhang, and S. Wei, Phys. Rev. Lett. 90, 026102 (2003).
9. H. R. Jen, M. J. Jou, Y. T. Cherng, and G. B. Stringfellow, J. Cryst. Growth 85, 175 (1987).
10. V. Fink, E. Chevalier, O. J. Pitts, M. W. Dvorak, K. L. Kavanagh, C. R. Bolognesi, S. P. Watkins, S. Hummel, and N. Moll, Appl. Phys. Lett. 79, 2384 (2001).
11. Y. Kawamura, A. Gomyo, T. Suzuki, T. Higashino, and N. Inoue, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 41, L447 (2002).
12. S.-H. Wei and A. Zunger, Appl. Phys. Lett. 56, 662 (1990).
13. C. A. Chang, R. Ludeke, L. L. Chang, and L. Esaki, Appl. Phys. Lett. 31, 759 (1977).
14. T. H. Chiu and T. Tsang, J. Appl. Phys. 57, 4572 (1985).
15. Z. Kollonitsch, K. Möller, H.-J. Schimper, Ch. Giesen, M. Heuken, F. Willig, and T. Hannappel, J. Cryst. Growth 261, 289 (2004).
16. T.-Y. Seong, G. R. Booker, A. G. Norman, and I. T. Ferguson, Appl. Phys. Lett. 64, 3593 (1994).
17. C. M. Fetzer, R. T. Lee, J. K. Shurtleff, G. B. Stringfellow, S. M. Lee, and T. Y. Seong, Appl. Phys. Lett. 76, 1440 (2000).