Nanostructured palladium thin films prepared by pulsed laser deposition: Structural characterizations and hydrogen electrosorption properties

Journal of the Electrochemical Society

Volumn 152, Issue 1, 2005, Pages

  Paillier, Jérôme ^a   Roué, Lionel ^a  

^a INRS EMT   (Canada)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ANISOTROPY; DESORPTION; ELASTIC MODULI; ELECTROCHEMISTRY; FILM GROWTH; GRAIN BOUNDARIES; HYDRIDES; NANOSTRUCTURED MATERIALS; PALLADIUM; PHOTOEMISSION; PLASTIC DEFORMATION; PULSED LASER DEPOSITION; REDUCTION; RUTHERFORD BACKSCATTERING SPECTROSCOPY; X RAY DIFFRACTION ANALYSIS; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

ATOMIC RATIOS; ELECTROCHEMICAL HYDRIDING; NANOSTRUCTURED PALLADIUM THIN FILMS; STRUCTURAL REARRANGEMENT;

THIN FILMS;

EID: 12844272323     PISSN: 00134651     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1149/1.1825952     Document Type: Article

References (67)

1. P. H. L. Notten, M. Kremers, and R. Griessen, J. Electrochem. Soc., 143, 3348 (1996).
2. E. S. Kooij, A. T. M. van Gogh, and R. Griessen, J. Electrochem. Soc., 146, 2990 (1999).
3. E. Matveeva and V. Parkhutik, J. Electrochem. Soc., 149, D148 (2002).
4. S. J. van der Molen, J. W. J. Ketssemakers, J. H. Rector, N. J. Koeman, B. Dam, and R. Griessen, J. Appl. Phys., 86, 6107 (1999).
5. J. Isidorsson, I. A. M. E. Giebels, E. S. Kooij, N. J. Koeman, J. H. Rector, A. T. M. van Gogh, and R. Griessen, Electrochim. Acta, 46, 2179 (2001).
6. A. T. M. van Gogh, D. G. Nagengtst, E. S. Kooij, N. J. Koeman, and R. Griessen, Phys. Rev. Lett., 85, 2156 (2000).
7. T. P. L. Pedersen, C. Salinga, H. Weis, and M. Wuttig, J. Appl. Phys., 93, 6034 (2003).
8. K. Yamamoto, K. Higuchi, H. Kajioka, H. Sumida, S. Orimo, and H. Fujii, J. Alloys Compd., 330-332, 352 (2002).
9. A. Krozer and B. Kasemo, J. Less-Common Met., 160, 323 (1990).
10. K. von Rottkay, M. Rubin, F. Michalak, R. Armitage, T. Richardson, J. Slack, and P. A. Duine. Electrochim. Acta. 44, 3093 (1999).
11. B. Farangis, P. Nachimuthu, T. J. Richardson, J. L. Slack, B. K. Meyer, R. C. C. Perera, and M. D. Rubin, Solid State Ionics, 165, 309 (2003).
12. F. A. Lewis, K. Kandasamy, and X. Q. Tong, Solid Stale Phenom., 73-75, 272 (2000).
13. T. B. Flanagan and W. A. Dates, Annu. Rev. Mater. Sci., 21, 269 (1991).
14. G. A. Frazier and R. Glosser, J. Less-Common Met., 74, 89 (1980).
15. M. W. Lee and R. Glosser, J Appl. Phys., 57, 5236 (1985).
16. S. Kishimoto, M. Inoue, N. Yoshida, and T. B. Flanagan, J. Chem. Soc., Faraday Trans. 1, 82, 2175 (1986).
17. M. Nicolas, L. Dumoulin, and J. P. Burger, J. Appl. Phys., 60, 3125 (1986).
18. E. M. Salomons, R. Feenstra, D. G. D. Groot, and J. H. Rector, J. Less-Common Met., 130, 415 (1987).
19. T. Mütschele and R. Kirchheim, Scr. Metall., 21, 135 (1987).
20. J. A. Eastman, L. J. Thompson, and B. J. Kestel, Phys. Rev. B. 48, 84 (1993).
21. H. Hagi, Mater. Trans., JIM, 31, 954 (1990).
22. Y. Li and Y. T. Cheng, Int. J. Hidrogen Energy. 21, 281 (1996).
23. S. Y. Liu, Y. H. Kao, Y. O. Su, and T. P. Perng, J. Alloys Compd., 311, 283 (2000).
24. S. Aggarwal, A. P. Monga, S. R. Perusse, R. Ramesh, V. Ballarotto, E. D. Williams, B. R. Chalamala, Y. Wei, and R. H. Reuss, Science, 287, 2235 (2000).
25. D. B. Chrisey and G. K. Hubler, Pulsed Laser Deposition of Thin Films, John Wiley & Sons, New York (1994).
26. D. H. Lowndes, D. B. Geohegan, A. A. Puretzky, D. P. Norton, and C. M. Rouleau, Science, 273, 898 (1996).
27. R. J. Bird and P. Swift, J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom., 21, 227 (1980).
28. A. N. Correia, L. H. Mascaro, S. A. S. Machado, and L. A. Avaca, Eltctrochim. Acta, 42, 493 (1997).
29. A. Zuttel, C. Nutzenadel, G. Schmid, C. Emmenegger, P. Sudan, and L. Schlap-bach, Appl. Surf. Sci. 162-163, 571 (2000).
30. M. Stormer and H. U. Krebs, J. Appl. Phys., 78, 7080 (1995).
31. C. Kuhrt and R. Anton. Thin Solid Films, 198, 301 (1991).
32. M. A. Meyers and K. K. Chawla, Mechanical Behavior of Materials. Prenctice-Hall, Upper Saddle River, NJ (1999).
33. J. A. Rayne, Phys. Rev., 118, 1545 (1960).
34. T. Kuji, Y. Matsumura, H. Uchida, and T. Aizawa, J. Alloys Compd., 330-332, 718 (2002).
35. R. Lamber, S. Wetjen, and N. I. Jaeger, Phys. Rev. B, 51, 10958 (1995).
36. F. Spaepen, Acta Mater., 48, 31 (2000).
37. C. E. Krill, R. Haberkorn, and R. Birringer, in Handbook of Nanostructured Materials and Technology, H. S. Nalwa, Editor, p. 155, Academic Press, San Diego, CA (2000).
38. Y. S. Shi, Phys. Lett. A, 319, 555 (2003).
39. R. Nyholm, M. Qvarford, J. N. Andersen, S. L. Sorensen, and C. Wigren, J. Phys.: Condens. Matter, 4, 277 (1992).
40. M. Brun, A. Berthet, and J. C. Bertolini, J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom., 104, 55 (1999).
41. S. Hufner, G. K. Wettheim, and D. N. E. Buchanan, Chem. Phys. Lett., 24, 527 (1974).
42. K. Noack, H. Zbinden, and R. Schlogl, Catal. Lett., 4, 145 (1990).
43. W. E. Moddeman, W. C. Bowling, D. C. Carter, and D. R. Grove, Surf. Interface Anal., 11, 317 (1988).
44. C. V. Thompson. Annu. Rev. Mater. Sci., 30, 159 (2000).
45. W. D. Nix and B. M. Clemens, J. Mater. Res., 14, 3467 (1999).
46. M. G. Norton and C. B. Carter, Physica C, 172, 47 (1990).
47. A. Kumar, M. R. Alam, J. J. Weimar, and L. Sandereon, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process., 69, S917 (1999).
48. J. Hockars, J. Eleclroanal. Chem. Interfacial Electrochem., 209, 371 (1986).
49. M. Elam and B. E. Conway, J. Electrochem. Soc., 135, 1678 (1988).
50. J. McBreen, J. Electroanal. Chem. Interfacial Electrochem., 287, 279 (1990).
51. A. Czerwinski and R. Marassi, J. Eleclroanal. Chem. Interfacial Electrochem., 322, 373 (1992).
52. L. D. Burke and K. J. Casey, J. Electrochem. Soc., 140, 1292 (1993).
53. M. C. Jeong, C. H. Pyun, and I. N. Yeo, J. Eleatrochem. Soc., 140, 1986 (1993).
54. C. C. Hu and T. C. Wen, J. Eleclrochem. Soc., 141, 2996 (1994).
55. A. E. Bolzan, J. Electroanal. Chem., 380, 127 (1995).
56. T. H. Yang and S. I. Pyun, J. Electroanal. Chem., 414, 127 (1996).
57. A. Czerwinski, I. Kiersztyn, and M. Grden, J. Electroanal. Chem., 492, 128 (2000).
58. P. C. Searson, Acta Metall. Mater., 39, 2519 (1991).
59. W. S. Zhang, X. W. Zhang, and X. G. Zhao, J. Electroanal. Chem., 458, 107 (1998).
60. M. H. Grosjean, M. Zidoune, L. Roué, J. Huot. and R. Schulz, Electrochim. Acta, 49, 2461 (2004).
61. D. F. Untereker and S. Bruckenstein, Anal. Chem., 44, 1009 (1972).
62. R. J. Behm, V. Penka, M. G. Cattania, K. Christmann, and G. Ertl, J. Chem. Phys., 78, 7486 (1983).
63. A. L. Cabrera, E. Morales, J. Hasen, and J. K. Schuller, Appl. Phys. Lett., 66, 1216 (1995).
64. L. E. A. Berlouis, P. J. Hall, A. J. MacKinnon, A. W. Wark, D. Manuclli, V. Gervais, and J. E. Robertson, J. Alloys Compd., 253-254, 207 (1997).
65. W. S. Zhang, Z. L. Zhang, X. W. Zhang, and F. Wu, J. Electroanal. Chem., 474, 123 (1999).
66. T. Kessler, A. Visintin, A. E. Bolzan, G. Andreasen, R. C. Salvarezza, W. E. Triaca, and A. J. Arvia, Langmuir, 12, 6587 (1996).
67. P. H. L. Notten, J. L. C. Daams, and R. E. F. Einerhand, J. Alloys Compd., 210, 233 (1994).