Tunneling characteristics of octadecyl derivatives on tin and indium electrodes

Langmuir

Volumn 20, Issue 3, 2004, Pages 855-861

  Liu, Yuhong ^a   Fan, Xiaolin ^a   Yang, Deliang ^a   Wang, Chen ^a   Wan, Lijun ^a   Bai, Chunli ^a  

^a INSTITUTE OF CHEMISTRY   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ANGLE MEASUREMENT; ATOMIC FORCE MICROSCOPY; CONTACT ANGLE; ELECTRIC CONDUCTANCE; ELECTRODES; ELECTRON TUNNELING; OXIDES; TUNNEL JUNCTIONS; X RAY DIFFRACTION ANALYSIS; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

CAPILARY TUNNEL JUNCTIONS; IODOOCTADECANE; MOLECULAR JUNCTIONS; NONDECANOIC ACID; OCTADECANOL; OCTADECYLAMINE; OCTADECYLMERCAPTAN; SELF ASSEMBLED MONOLAYERS;

ORGANIC COMPOUNDS;

EID: 1242288141     PISSN: 07437463     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/la0353529     Document Type: Article

References (49)

1. (a) Carter, F. L., Ed. Molecular Electronic Designs I; Marcel Dekker; New York, 1987.
2. (b) Carter, F. L., Ed.; Molecular Electronic Designs II; Marcel Dekker: New York, 1987.
3. Aviram A.; Ratner, M. A. Chem. Phys. Lett. 1974, 29, 277-283.
4. Mann, B.; Kuhn, H. J. Appl. Phys. 1971, 42, 4389-4405.
5. Reed M. A.; Zhou, C.; Muller C. J.; Burgin, T. P.; Tour, J. M. Science 1997, 278, 252-254.
6. Kergueris, C.; Bourgoin, J. P.; Palacin, S.; Esteve, D.; Urbina, C.; Magoga, M.; Joachim, C. Phys. Rev. B 1999, 59, 12505-12513.
7. Rampi, M. A.; Schueller, O. J. A.; Whitesides, G. M. Appl. Phys. Lett. 1998, 72, 1781-1783.
8. Haag, R.; Rampi, M. A.; Holmin, R. E.; Whitesides, G. M. J. Am. Chem. Soc. 1999, 121, 7895-7906.
9. Holmlin, R. E.; Haag, R.; Chabinyc, M. L.; Ismagilov, R. F.; Cohen, A. E.; Terfort, A.; Rampi, M. A.; Whitesides, G. M. J. Am. Chem. Soc. 2001, 123, 5075-5085.
10. (a) Slowinske, K.; Slowinska, K. U.; Majda, M. J. Phys. Chem. B 1999, 103, 8544-8551.
11. (a) Slowinski, K.; Fong, H. K. Y.; Majda, M. J. Am. Chem. Soc. 1999, 121, 7257-7261.
12. Mbindyo, J. K. N.; Mallouk, T. E.; Mattzela, J. B.; Kratochvilova, I.; Razavi, B.; Jackson, T. N.; Mayer, T. S. J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 4020-4026.
13. Zhou, C.; Deshpande, M. R.; Reed, M. A.; Jones, L.; Tour, J. M. Appl. Phys. Lett. 1997, 71, 611-613.
14. Fan, X. L.; Wang, C.; Yang, D. L.; Wan, L. J.; Bai, C. L. Chem. Phys. Lett. 2002, 361, 465-468.
15. Xue, Y. Q.; Datta, S.; Hong, S. H.; Reifenberger, R.; Henderson, J. I.; Kubiak, C. P. Phys. Rev. B 1999, 59, R7852-R7855.
16. Bumm, L. A.; Arnold, J. J.; Cygan, M. T.; Dunbar, T. D.; Burgin, T. P.; Jones, L.; Allara, D. L.; Tour, J. M.; Weiss, P. S. Science 1996, 271, 1705-1707.
17. Wold, D. J.; Haag, R.; Rampi, M. A.; Frisbie, C. D. J. Phys. Chem. B 2002, 106 2813-2816.
18. Fan, F. R. F.; Yang, J. P.; Cai, L. T.; Price, D. W.; Dirk, S. M.; Kosynkin, D. V.; Yao, Y. X.; Rawlett, A. M.; Tour, J. M.; Bard, A. J. J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 5550-5560.
19. Zeng, C. G.; Wang, H. Q.; Wang, B.; Yang, J. L.; Hou, J. G. Appl. Phys. Lett. 2000, 77, 3595-3597.
20. Takanashi, K.; Mitani, S.; Chiba, J.; Fujimori, H. J. Appl. Phys. 2000, 87, 6331-6333.
21. Datta, S.; Tian, W. D.; Hong, S. H.; Reifenberger, R.; Henderson, J. I.; Kubiak, C. P. Phys. Rev. Lett. 1997, 79, 2530-2533.
22. Cui, X. D.; Primak, A.; Zarate, X.; Tomfohr, J.; Sankey, O. F.; Moore, A. L.; Moore, T. A.; Gust, D.; Harris, G.; Lindsay, S. M. Science 2001, 294, 571-574.
23. Bumm, L. A.; Arnold, J. J.; Dunbar, T. D.; Allara, D. L.; Weiss, P. S. J. Phys. Chem. B 1999, 103, 8122-8127.
24. Yaliraki, S. N.; Kemp, M.; Ratner, M. A. J. Am. Chem. Soc. 1999, 121, 3428-3434.
25. Evans, D.; Wampler, R. J. Phys. Chem. B 1999, 103, 4666-4671.
26. Hamberg, I.; Granqvist, C. G. J. Appl. Phys. 1986, 60, R123-R159.
27. Bellingham, J. R.; Phillips, W. A.; Adkins, C. J. Mater. J. Sci. Lett. 1992, 11, 263-265.
28. Bellingham, J. R.; Phillips, W. A.; Adkins, C. J. J. Phys.: Condens. Matter 1990, 2, 6207-6221.
29. Thornton, E. W.; Harrison, P. G. J. Chem. Soc., Faraday Trans. 1975, 71, 461-472.
30. De Waals, H.; Simmons, F. Thin Solid Films 1981, 77, 253-258.
31. Shanthi, E.; Dutta, V.; Banerjee, A.; Chopra, K. L. J. Appl. Phys. Phys. 1980, 51, 6243-6251.
32. Kojima, M.; Kato, H.; Imai, A. J. Appl. Phys. 1988, 64, 1902-1905.
33. Meyer, T. J.; Meyer, G. J.; Pfennig, B. W.; Schoonover, J. R.; Timpson, C. J.; Wall, J. F.; Kobusch, C.; Chen, X. H.; Peek, B. M.; et al. Inorg. Chem. 1994, 33, 3952-3964.
34. Purvis, K. L.; Lu, G.; Schwartz, J.; Bernasek, S. L. J. Am. Chem. Soc. 122, 2000, 1808-1809.
35. Bruner, E. L.; Koch, N.; Span, A. R.; Bernasek, S. L.; Kahn, A.; Schwartz, J. J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 3192-3193.
36. Tosatti, S.; Michel, R.; Textor, M.; Spencer, N. D. Langmuir 2002, 8, 3537-3548.
37. Obeng, Y. S.; Bard, A. J. Langmuir 1991, 7, 195-201.
38. Kondo, T.; Takechi, M.; Sato, Y.; Uosaki, K. J. Electroanal. Chem. 1995, 381, 203-209.
39. Gardner, T. J.; Friesbie, C. D.; Wrighton, M. S. J. Am. Chem. Soc. 1995, 117, 6927-6933.
40. Zotti, G.; Schiavon, G.; Zecchin, S.; Berlin, A.; Pagani, G.; Canavesi, A. Langmuir 1997, 13, 2694-2698.
41. Chen, S. H.; Frank, C. W. Langmuir 1989, 5, 978-987.
42. Weisbecker, C. S.; Merritt, M. V.; Whitesides, G. M. Langmuir 1996, 12, 3763-3772.
43. Dhirani, A.; Lin, P. H.; Guyot-Sionnest, P.; Zehner, R. W.; Sita, L. R. J. Chem. Phys. 1997, 106, 5249-5253.
44. Feenstra, R. M. Phys. Rev. B 1994, 50, 4561-4570.
45. Henrich, V. E.; Cox, P. A. The Surface Science of Metal Oxides; Cambridge University Press: Cambridge, U.K. 1994.
46. Weiss, W.; Ranke, W. Prog. Surf. Sci. 2002, 70, 1.
47. Nüesch, F.; Rotherg, L. J.; Forsythe, E. W.; Le, Q. T.; Gao, Y. Appl. Phys. Lett. 1999, 74, 880.
48. Jacobs, H.; Mokwa, W.; Kohl, D.; Heiland, G. Vacuum 1983, 33, 869.
49. Hamberg, I.; Granqvist, C. G. J. Appl. Phys. 1986, 80 R123 and references therein.