Chemically sensitive field-effect transistors and chemiresistors: New materials and device structures

Electroanalysis

Volumn 16, Issue 22, 2004, Pages 1837-1842

  Katz, Howard E ^a,b  

^a LUCENT TECHNOLOGIES   (United States)

^b JOHNS HOPKINS UNIVERSITY   (United States)

Author keywords

Chemically sensitive resistors; Differential conductivity sensors; Inorganic sensors; Nanostructured sensors; Organic field effect transistors

Indexed keywords

ORGANIC FIELD EFFECT TRANSISTORS; PROCESS MONITORING; RESISTORS; YARN;

CHEMICALLY SENSITIVE RESISTOR; CHEMIRESISTORS; CONDUCTIVITY SENSORS; DIFFERENTIAL CONDUCTIVITY; DIFFERENTIAL CONDUCTIVITY SENSOR; ELECTRONIC SENSORS; INORGANIC SENSOR; INORGANICS; NANOSTRUCTURED SENSORS; ORGANIC FIELD-EFFECT TRANSISTORS;

CHEMICALLY SENSITIVE FIELD EFFECT TRANSISTORS;

BIOPOLYMER;

AQUEOUS SOLUTION; CONDUCTANCE; ELECTRONIC SENSOR; NANOTUBE; PROCESS MONITORING; REVIEW; SEMICONDUCTOR; SENSOR;

EID: 10844257248     PISSN: 10400397     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/elan.200403071     Document Type: Review

References (44)

1. J. J. Lavigne, E. V. Anslyn, Angew. Chem. 2001, 40, 3118.
2. K. J. Albert, Chem. Rev. 2000, 100, 2595.
3. C. Hagleitner, A. Hierlemann, D. Lange, A. Kummer, N. Kerness, O. Brand, H. Baltes, Nature 2001, 414, 293.
4. S. M. Drew, D. Janzen, C. Buss, D. I. MacEwan, K. M. Dublin, K. R. Mann, J. Am. Chem. Soc. 2001, 123, 8414.
5. A. Khanna, R. Kumar, S. S. Bhatti, Applied Physics Letters 2003, 82, 4388.
6. M. A. Aronova, K. S. Chang, I. Takeuchi, H. Jabs, D. Westerheim, A. Gonzalez-Martin, J. Kim, B. Lewis, Appl. Phys. Lett. 2003, 83, 1255.
7. D. G. Wu, D. Cahen, P. Graf, R. Naaman, A. Nitzan, D. Shvarts, Chemistry-a European J. 2001, 7, 1743.
8. D. G. Wu, G. Ashkenasy, D. Shvarts, R. V. Ussyshkin, R. Naaman, A. Shanzer, D. Cahen, Angew. Chem.-Int. Ed. 2000, 39, 4496.
9. P. N. Bartlett, Y. Astier, Chem. Commun. 2000, 105.
10. M. C. Lonergan, E. J. Severin, B. J. Doleman, S. A. Beaber, R. H. Grubbs, N. S. Lewis, Chem. Mater. 1996, 8, 2298.
11. G. A. Sotzing, J. N. Phend, R. H. Grubbs, N. S. Lewis, Chem. Mater. 2000, 12, 593.
12. L. L. Miller, D. C. Boyd, A. J. Schmidt, S. C. Nitzkowski, S. Rigaut, Chem. Mater. 2001, 13, 9.
13. D. Nilsson, T. Kugler, P. O. Svensson, M. Berggren, Sens. Actuators B-Chem. 2002, 86, 193.
14. G. Guillaud, J. Simon, J. P. Germain, Coordination Chem. Rev. 1998, 178-180, 1433.
15. A. Assadi, G. Gustafsson, M. Willander, C. Svensson, O. Inganas, Synthetic Metals 1990, 37, 123.
16. W. e. a. Hu, Thin Solid Films 2000, 360, 256.
17. M. Bouvet, G. Guillaud, A. Leroy, A. Maillard, S. Spirkovitch, F. G. Tournilhac, Sens. Actuators B-Chem. 2001, 73, 63.
18. L. Torsi, A. Dodabalapur, L. Sabbatini, P. G. Zambonin, Sens. Actuators B-Chem. 2000, 67, 312.
19. L. Torsi, A. Dodabalapur, N. Cioffi, L. Sabbatini, P. G. Zambonin, Sens. Actuators B-Chem. 2001, 77, 7.
20. B. Crone, A. Dodabalapur, A. Gelperin, L. Torsi, H. E. Katz, A. J. Lovinger, Z. Bao, Appl. Phys. Lett. 2001, 78, 2229.
21. B. K. Crone, A. Dodabalapur, R. Sarpeshkar, A. Gelperin, H. E. Katz, Z. Bao, J. Appl. Phys. 2002, 91, 10140.
22. T. Someya, A. Dodabalapur, A. Gelperin, H. E. Katz, Z. Bao, Langmuir 2002, 18, 5299.
23. T. Someya, H. E. Katz, A. Gelperin, A. J. Lovinger, A. Dodabalapur, Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 3079.
24. L. Torsi, A. J. Lovinger, B. Crone, T. Someya, A. Dodabalapur, H. E. Katz, A. Gelperin, J. Phys. Chem. B 2002, 106, 12563.
25. L. Torsi, M. C. Tanese, N. Cioffi, M. C. Gallazzi, L. Sabbatini, P. G. Zambonin, G. Raos, S. V. Meille, M. M. Giangregorio, J. Phys. Chem. B 2003, 107, 7589.
26. M. Zayats, M. Lahav, A. B. Kharitonov, I. Willner, Tetrahedron 2002, 58, 815.
27. M. Lahav, A. B. Kharitonov, I. Willner, Chemistry-a European J. 2001, 7, 3992.
28. C. Bartic, A. Campitelli, S. Borghs, Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 475.
29. C. Bartic, B. Palan, A. Campitelli, G. Borghs, Sens. Actuators B-Chem. 2002, 83, 115.
30. S. Martinoia, N. Rosso, M. Grattarola, L. Lorenzelli, B. Margesin, M. Zen, Biosens. Bioelectron. 2001, 16, 1043.
31. Y. Cui, Q. Q. Wei, H. K. Park, C. M. Lieber, Science 2001, 293, 1289.
32. X. T. Zhou, J. Q. Hu, C. P. Li, D. D. D. Ma, C. S. Lee, S. T. Lee, Chem. Phys. Lett. 2003, 369, 220.
33. O. H. Elibol, D. Morisette, D. Akin, J. P. Denton, R. Bashir, Appl. Phys. Lett. 2003, 83, 4613.
34. J. Kong, N. R. Franklin, C. W. Zhou, M. G. Chapline, S. Peng, K. J. Cho, H. J. Dai, Science 2000, 287, 622.
35. Q. F. Pengfei, O. Vermesh, M. Grecu, A. Javey, O. Wang, H. J. Dai, S. Peng, K. J. Cho, Nano Lett. 2003, 3, 347.
36. J. Li, Y. J. Lu, Q. Ye, M. Cinke, J. Ran, M. Meyyappan, Nano Lett. 2003, 3, 929.
37. J. P. Novak, E. S. Snow, E. J. Houser, D. Park, J. L. Stepnowski, R. A. McGill, Appl. Phys. Lett. 2003, 83, 4026.
38. T. Someya, J. Small, P. Kim, C. Nuckolls, J. T. Yardley, Nano Lett. 2003, 3, 877.
39. K. Besteman, J. O. Lee, F. G. M. Wiertz, H. A. Heering, C. Dekker, Nano Lett. 2003, 3, 727.
40. M. S. Arnold, P. Avouris, Z. W. Pan, Z. L. Wang, J. Phys. Chem. B 2003, 107, 659.
41. Y. L. Wang, X. C. Jiang, Y. N. Xia, J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 16176.
42. C. Li, D. H. Zhang, B. Lei, S. Han, X. L. Liu, C. W. Zhou, J. Phys. Chem. B 2003, 107, 12451.
43. C. Li, B. Lei, D. H. Zhang, X. L. Liu, S. Han, T. Tang, M. Rouhanizadeh, T. Hsiai, C. W. Zhou, Appl. Phys. Lett. 2003, 83, 4014.
44. C. Li, D. H. Zhang, X. L. Liu, S. Han, T. Tang, J. Han, C. W. Zhou, Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 1613.