Reflectance anisotropy of uracil covered Si(0 0 1) surfaces: Ab initio predictions

Surface Science

Volumn 548, Issue 1-3, 2004, Pages 183-186

  Seino, K ^a   Schmidt, W G ^a  

^a FRIEDRICH SCHILLER UNIVERSITY JENA   (Germany)

Author keywords

Density functional calculations; Reflection spectroscopy; Semiconducting surfaces; Silicon

Indexed keywords

ANISOTROPY; ATTENUATION; ELECTRON DIFFRACTION; INTERFACES (MATERIALS); PROBABILITY DENSITY FUNCTION; REFLECTION; SEMICONDUCTOR MATERIALS; SILICON; SPECTROSCOPIC ANALYSIS;

REFLECTANCE ANISOTROPY; REFLECTION SPECTROSCOPY;

SURFACE CHEMISTRY;

EID: 0347622642     PISSN: 00396028     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1016/j.susc.2003.11.002     Document Type: Article

References (27)

1. Wolkow R.A. Annu. Rev. Phys. Chem. 50:1999;413.
2. Aspnes D.E. Solid State Commun. 101:1997;85.
3. Richter W., Zettler J.T. Appl. Surf. Sci. 101:1996;465.
4. Lu W., Schmidt W.G., Briggs E.L., Bernholc J. Phys. Rev. Lett. 85:2000;4381.
5. Schmidt W.G., Hahn P.H., Bechstedt F., Esser N., Vogt P., Wange A., Richter W. Phys. Rev. Lett. 90:2003;126101.
6. Sassella A., Borghesi A., Meinardi F., Tubono R., Gurioli M., Botta C., Porzio W., Barbarella G. Phys. Rev. B. 62:2000;11170.
7. Paraian A.M., Rossow U., Park S., Salvan G., Friedrich M., Kampen T.U., Zahn D.R.T. J. Vac. Sci. Technol. B. 19:2001;1658.
8. Lopez A., Chen Q., Richardson N.V. Surf. Interface Anal. 33:2002;441.
9. Seino K., Schmidt W.G., Preuss M., Bechstedt F. J. Phys. Chem. B. 107:2003;5031.
10. Kresse G., Furthmüller J. Comp. Mater. Sci. 6:1996;15.
11. Perdew J.P., Chevary J.A., Vosko S.H., Jackson K.A., Pederson M.R., Singh D.J., Fiolhais C. Phys. Rev. B. 46:1992;6671.
12. Furthmüller J., Käckell P., Bechstedt F., Kresse G. Phys. Rev. B. 61:2000;4576.
13. M. Preuss, W.G. Schmidt, K. Seino, J. Furthmüller, F. Bechstedt, J. Comp. Chem., in press.
14. Adolph B., Furthmüller J., Bechstedt F. Phys. Rev. B. 63:2001;125108.
15. Del Sole R. Solid State Commun. 37:1981;537.
16. Manghi F., Del Sole R., Selloni A., Molinari E. Phys. Rev. B. 41:1990;9935.
17. Hahn P.H., Schmidt W.G., Bechstedt F. Phys. Rev. Lett. 88:2002;016402.
18. Schmidt W.G., Glutsch S., Hahn P.H., Bechstedt F. Phys. Rev. B. 67:2003;085307.
19. Schmidt W.G., Bechstedt F., Bernholc J. J. Vac. Sci. Technol. B. 18:2000;2215.
20. Shioda R., van der Weide J. Phys. Rev. B. 57:1998;R6823.
21. Kipp L., Biegelsen D.K., Northrup J.E., Swartz L.-E., Bringans R.D. Phys. Rev. Lett. 76:1996;2810.
22. Yasuda T., Mantese L., Rossow U., Aspnes D.E. Phys. Rev. Lett. 74:1995;3431.
23. Jaloviar S.G., Lin J.-L., Liu F., Zielasek V., McCaughan L., Lagally M.G. Phys. Rev. Lett. 82:1999;791.
24. Schmidt W.G., Bechstedt F., Bernholc J. Phys. Rev. B. 63:2001;045322.
25. W. Schmidt, K. Seino, P. Hahn, F. Bechstedt, W. Lu, S. Wang, J. Bernholc, Thin Solid Films, submitted for publication.
26. Shioda R., van der Weide J. Appl. Surf. Sci. 130-132:1998;266.
27. Schmidt W.G., Esser N., Frisch A.M., Vogt P., Bernholc J., Bechstedt F., Zorn M., Hannappel T., Visbeck S., Willig F., Richter W. Phys. Rev. B. 61:2000;R16335.