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Volumn 73, Issue 2, 1998, Pages 256-258

Electronic properties of defects introduced in p-type Si1-xGex during ion etching

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EID: 0142137400     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.121772     Document Type: Article
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References (21)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.