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Volumn 42, Issue SUPPL.2, 2003, Pages

ICP etching of Pt thin films for fabrication of SAW devices

Author keywords

Pt thin film, Cl2 Ar O2 plasma; SAW devices; TCP

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EID: 0037310388     PISSN: 03744884     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: None     Document Type: Conference Paper
Times cited : (15)

References (17)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.