Si-rich/SiO2 nanostructured multilayers by reactive magnetron sputtering

Applied Physics Letters

Volumn 78, Issue 20, 2001, Pages 3058-3060

  Gourbilleau, F ^a   Portier, X ^a   Ternon, C ^a   Voivenel, P ^a   Madelon, R ^a   Rizk, R ^a  

^a LERMAT Laboratoire d'Etude et de Recherche sur les Materiaux   (France)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0035858350     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1371794     Document Type: Article

References (20)

1. L. T. Canham, Appl. Phys. Lett. 57, 1046 (1996).
2. L. Rebohle, J. Von Borany, R. A. Yankov, W. Skorupa, I. E. Tyschenko, H. Froh, and K. Leo, Appl. Phys. Lett. 68, 2410 (1996).
3. L. S. Liao, X. M. Bao, X. Q. Zheng, N. S. Li, and N. B. Min, Appl. Phys. Lett. 68, 850 (1996).
4. T. Inokuma, Y. Wakayama, T. Muramoto, R. Aoki, Y. Kurata, and S. Hasegawa, J. Appl. Phys. 83, 2228 (1998).
5. A. J. Kenyon, P. F. Trwoga, and C. W. Pitt, J. Appl. Phys. 79, 9291 (1996).
6. S. Charvet, R. Madelon, F. Gourbilleau, and R. Rizk, J. Lumin. 80, 257 (1999).
7. Y. Kansagawa, T. Kageyama, S. Takeoka, M. Fugiti, S. Hayashi, and K. Yamamoto, Solid State Commun. 102, 533 (1997).
8. S. Charvet, R. Madelon, F. Gourbilleau, and R. Rizk, J. Appl. Phys. 85, 4032 (1999).
9. A. G. Cullis, L. T. Canham, and P. D. J. Calcott, J. Appl. Phys. 82, 909 (1997).
10. Y. Kanemitsu, T. Ogawa, K. Shiraishi, and K. Takeda, Phys. Rev. B 54, R14329 (1996).
11. B. Garrido, M. Lopez, O. Gonzalez, A. Pérez.-Rodrigez, and J. R. Morante, Appl. Phys. Lett. 77, 3143 (2000).
12. L. Tsybeskov, K. D. Hirschman, S. P. Dutlagupta, M. Zacharias, P. M. Fauchet, J. P. McCaffrey, and D. J. Lockwood, Appl. Phys. Lett. 72, 43 (1998).
13. M. Zacharias, J. Bläsing, P. Veit, L. Tsybeskov, K. Hirschman, and P. Fauchet, Appl. Phys. Lett. 74, 2614 (1999).
14. B. T. Sullivan, D. J. Lockwood, H. J. Labbé, and Z. H. Lu, Appl. Phys. Lett. 69, 3149 (1996).
15. D. W. Berrmann, Phys. Rev. 130, 2193 (1963).
16. J. E. Olsen and J. Shimura, J. Appl. Phys. 66, 1353 (1989).
17. C. T. Kirk, Phys. Rev. B 38, 1255 (1986).
18. C. Delerue, G. Allan, and M. Lannoo, Phys. Rev. B 48, 11024 (1993).
19. L. W. Wang and A. Zunger, J. Phys. Chem. 98, 2158 (1994).
20. T. Van Buuren, L. N. Dinh, L. L. Chase, W. J. Siekhaus, and L. J. Terminello, Phys. Rev. Lett. 80, 3803 (1998).