Fine tuning work function of indium tin oxide by surface molecular design: Enhanced hole injection in organic electroluminescent devices

Applied Physics Letters

Volumn 79, Issue 2, 2001, Pages 272-274

  Ganzorig, Chimed ^a   Kwak, Kwang Joo ^a   Yagi, Kazuto ^a   Fujihira, Masamichi ^a  

^a TOKYO INSTITUTE OF TECHNOLOGY   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0035832965     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1384896     Document Type: Article

References (36)

1. C. W. Tang and S. A. VanSlyke, Appl. Phys. Lett. 51, 913 (1987).
2. R. H. Friend, R. W. Gymer, A. B. Holmes, J. H. Burroughes, R. N. Marks, C. Taliani, D. D. C. Bradley, D. A. Dos Santos, J. L. Bredas, M. Lögdlund, and W. R. Salaneck, Nature (London) 397, 121 (1999).
3. H. Ishii, K. Sugiyama, E. Ito, and K. Seki, Adv. Mater 11, 605 (1999).
4. M. Fujihira, Annu. Rev. Mater. Sci. 29, 353 (1999).
5. C. W. Tang, S. A. VanSlyke, and C. H. Chen, J. Appl. Phys. 65, 3610 (1989).
6. C. C. Wu, C. I. Wu, J. C. Sturn, and A. Kahn, Appl. Phys. Lett. 70, 1348 (1997).
7. F. Li, H. Tang, J. Shinar, O. Resto, and S. Z. Weisz, Appl. Phys. Lett. 70, 2741 (1997).
8. T. Osada, Th. Kugler, P. Bröms, and W. R. Salaneck, Synth. Met. 96, 77 (1998).
9. F. Nüesch, L. J. Rothberg, E. W. Forsythe, Q. T. Le, and Y. Gao, Appl. Phys. Lett. 74, 880 (1999).
10. J. S. Kim, M. Granström, R. H. Friend, N. Johansson, W. R. Salaneck, R. Daik, W. J. Feast, and F. Cacialli, J. Appl. Phys. 84, 6859 (1998).
11. F. Steuber, J. Staudigel, M. Stössel, J. Simmerer, and A. Winnacker, Appl. Phys. Lett. 74, 3558 (1999).
12. M. G. Mason, L. S. Hung, C. W. Tang, S. T. Lee, K. W. Wong, and M. Wang, J. Appl. Phys. 86, 1688 (1999).
13. K. Sugiyama, H. Ishii, Y. Ouchi, and K. Seki, J. Appl. Phys. 87, 295 (2000).
14. D. J. Milliron, I. G. Hill, C. Shen, A. Kahn, and J. Schwartz, J. Appl. Phys. 87, 572 (2000).
15. I. H. Campbell, J. D. Kress, R. L. Martin, D. L. Smith, N. N. Barashkov, and J. P. Ferraris, Appl. Phys. Lett. 71, 3528 (1997).
16. L. Zuppiroli, L. Si-Ahmed, K. Kamaras, F. Nüesch, M. N. Bussac, D. Ades, A. Siove, E. Moons, and M. Grätzel, Eur. Phys. J. B 11, 505 (1999).
17. S. F. J. Appleyard, S. R. Day, R. D. Pickford, and M. R. Willis, J. Mater. Chem. 10, 169 (2000).
18. P. K. H. Ho, J.-S. Kim, J. H. Burroughes, H. Becker, S. F. Y. Li, T. M. Brown, F. Cacialli, and R. H. Friend, Nature (London) 404, 481 (2000).
19. M. Fujihira, N. Ohishi, and T. Osa, Nature (London) 268, 226 (1977).
20. M. Fujihira, T. Kubota, and T. Osa, J. Electroanal. Chem. 119, 379 (1981).
21. N. R. Armstrong, A. W. C. Lin, M. Fujihira, and T. Kuwana, Anal. Chem. 48, 741 (1976).
22. M. Fujihira, in Topics in Organic Electrochemistry, edited by A. J. Fry and W. E. Britton (Plenum, New York, 1986), pp. 255-294.
23. P. E. Laibinis, J. J. Hickman, M. S. Wrighton, and G. M. Whitesides, Science 245, 845 (1989).
24. V. Vogel and D. Möbius, J. Colloid Interface Sci. 126, 408 (1988).
25. M. Fujihira and H. Kawate, Thin Solid Films 242, 163 (1994).
26. M. Bruening, E. Moons, D. Yaron-Marcovich, D. Cahen, J. Libman, and A. Shanzer, J. Am. Chem. Soc. 116, 2972 (1994).
27. A. Vilan, A. Shanzer, and D. Cahen, Nature (London) 404, 166 (2000).
28. C. Ganzorig and M. Fujihira, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 38, L1348 (1999).
29. L. S. Hung, C. W. Tang, and M. G. Mason, Appl. Phys. Lett. 70, 152 (1997).
30. C. Ganzorig and M. Fujihira, Appl. Phys. Lett. 77, 4211 (2000).
31. M. Fujihira, Adv. Chem. Ser. 240, 373 (1994).
32. P. W. Atkins, Physical Chemistry, 5th ed. (Oxford University Press, Oxford, 1995).
33. M. Fujihira and H. Inokuchi, Chem. Phys. Lett. 17, 554 (1972).
34. M. Fujihira, T. Hirooka, and H. Inokuchi, Chem. Phys. Lett. 19, 584 (1973).
35. R. W. Zehner, B. F. Parsons, R. P. Hsung, and L. R. Sita, Langmuir 15, 1121 (1999).
36. A. L. McClellan, Tables of Experimental Dipole Moments (W. H. Freeman and Company, San Francisco, 1963).