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Volumn 79, Issue 14, 2001, Pages 2145-2147

Pulsed inductively coupled chlorine plasmas in the presence of a substrate bias

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EID: 0035473564     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1406139     Document Type: Article
Times cited : (26)

References (10)
  • 9
    • 0039483518 scopus 로고    scopus 로고
    • Kuck and Associates, Inc., http://www.kai.com/parallel/kappro


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.