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Volumn 17, Issue 6, 1999, Pages 3179-3184

Highly selective etching of silicon nitride over silicon and silicon dioxide

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EID: 0033444157     PISSN: 07342101     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.582097     Document Type: Article
Times cited : (98)

References (16)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.