Effect of substrate temperature in SiOxNy films deposited by electron cyclotron resonance

Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films

Volumn 17, Issue 4, 1999, Pages 1263-1268

  Del Prado, A ^a   Martinez F L ^a   Martil I ^a   Gonzalez Diaz G ^a   Fernandez M ^b  

^a UNIVERSIDAD COMPLUTENSE DE MADRID   (Spain)

^b INSTITUTO DE CIENCIA DE MATERIALES DE MADRID   (Spain)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0006301320     PISSN: 07342101     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.582039     Document Type: Article

References (22)

1. S. V. Hattangady, H. Niimi, and G. Lucovsky, J. Vac. Sci. Technol. A 14, 3017 (1996).
2. J.-I. Yeh and S.-H. Lee, J. Appl. Phys. 79, 656 (1996).
3. P. V. Bulkin, P. L. Swart, and B. M. Lacquet, J. Non-Cryst. Solids 187, 484 (1995).
4. S. García, J. M. Martín, M. Fernández, I. Mártil, and G. González-Díaz, Philos. Mag. B 73, 487 (1996).
5. F. L. Martínez, I. Mártil, G. González-Díaz, B. Selle, and I. Sieber, J. Non-Cryst. Solids 227-230, 523 (1998).
6. W. A. Lanford and M. J. Rand, J. Appl. Phys. 49, 2473 (1978).
7. D. V. Tsu, G. Lucovsky, M. J. Mantini, and S. S. Chao, J. Vac. Sci. Technol. A 5, 1998 (1987).
8. L.-N. He, T. Inokuma, and S. Hasegawa, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 35, 1503 (1996).
9. W. A. P. Claassen, H. A. J. Th. v. d. Pol, A. H. Goemans, and A. E. T. Kuiper, J. Electrochem. Soc. 133, 1458 (1986).
10. C. M. M. Denisse, K. Z. Troost, J. B. Oude Elferink, F. H. P. M. Habraken, W. F. van der Weg, and M. Hendriks, J. Appl. Phys. 60, 2536 (1986).
11. W. R. Knolle, Thin Solid Films 168, 123 (1989).
12. F. H. P. M. Habraken and A. E. T. Kuiper, Mater. Sci. Eng., R. 12, 123 (1994).
13. R. Hezel and N. Lieske, J. Appl. Phys. 51, 2566 (1980).
14. S. S. Chao, J. E. Tyler, D. V. Tsu, G. Lucovsky, and M. J. Mantini, J. Vac. Sci. Technol. A 5, 1283 (1987).
15. A. del Prado, I. Mártil, M. Fernández, and G. González-Díaz, Thin Solid Films (in press).
16. Y. Ma and G. Lucovsky, J. Vac. Sci. Technol. B 12, 2504 (1994).
17. C. M. M. Denisse, K. Z. Troost, F. H. P. M. Habraken, W. F. Van der Weg, and M. Hendriks, J. Appl. Phys. 60, 2543 (1986).
18. R. C. Budhani, S. Prakash, H. J. Doerr, and R. F. Bunshah, J. Vac. Sci. Technol. A 5, 1644 (1987).
19. P. G. Pai, S. S. Chao, Y. Takagi, and G. Lucovsky, J. Vac. Sci. Technol. A 4, 689 (1986).
20. T. T. Chau, S. R. Mejia, and K. C. Kao, Can. J. Phys. 69, 165 (1991).
21. D. Landheer, Y. Tao, J. E. Hulse, T. Quance, and D.-X. Xu, J. Electrochem. Soc. 143, 1681 (1996).
22. S. García, J. M. Martín, I. Mártil, and G. González-Díaz, Thin Solid Films 317, 116 (1998).