Thickness and oxygen pressure dependent structural characteristics of BaTiO3 thin films grown by laser molecular beam epitaxy

Journal of Applied Physics

Volumn 87, Issue 10, 2000, Pages 7442-7447

  Zhao, Tong ^a   Chen, Fan ^a   Lu, Huibin ^a   Yang, Guozhen ^a   Chen, Zhenghao ^a  

^a INSTITUTE OF PHYSICS   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0001609356     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.373007     Document Type: Article

References (25)

1. H. Shigetani, K. Kobayashi, M. Fujimoto, W. Sugimura, Y. Matsui, and J. Tanaka, J. Appl. Phys. 81, 693 (1997).
2. K. Iijima, T. Terashima, K. Yamamoto, K. Hirata, and Y. Bando, Appl. Phys. Lett. 56, 527 (1990).
3. Y. Yoneda, T. Okabe, K. Sakaue, H. Terauchi, H. Kasatani, and K. Deguchi, J. Appl. Phys. 83, 2458 (1998).
4. K. Ueda, H. Tabata, and T. Kawai, Appl. Phys. Lett. 75, 555 (1999).
5. S. Trolier-McKinstry, C. A. Randall, J. P. Maria, C. Theis, D. G. Schlom, J. Shepard, Jr., and K. Yamakawa, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 433, 363 (1996).
6. Y. Yano, K. Iijima, Y. Daitoh, T. Terashima, Y. Bando, Y. Watanabe, H. Kasatani, and H. Terauchi, J. Appl. Phys. 76, 7833 (1994).
7. D. M. Smyth, M. P. Harmer, and P. Peng, J. Am. Ceram. Soc. 72, 2276 (1989).
8. Y. Fukuda, H. Haneda, I. Sakaguchi, K. Nuwata, K. Aoki, and A. Nishimura, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 36, L1514 (1997).
9. T. Tambo, K. Maeda, A. Shimizu, and C. Tatsuyama, J. Appl. Phys. 86, 3213 (1999).
10. H. Funakubo, D. Nagano, A. Saiki, Y. Inagaki, K. Shinozaki, and N. Mizutani, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 36, 5879 (1997).
11. W. Pompe, X. Gong, Z Suo, and J. S. Speck, J. Appl. Phys. 74, 6012 (1993).
12. J. S. Speck and W. Pompe, J. Appl. Phys. 76, 466 (1994).
13. J. S. Speck, A. Seifert, W. Pompe, and R. Ramesh, J. Appl. Phys. 76, 477 (1994).
14. J. S. Speck, A. C. Daykin, A. Seifen, A. E. Romanov, and W. Pompe, J. Appl. Phys. 78, 1696 (1995).
15. C. Li, D. Cui, Y. Zhou, H. Lu, Z. Chen, D. Zhang, and F. Wu, Appl. Surf. Sci. 136, 173 (1998).
16. P. K. Schenck, M. D. Vaudin, B. W. Lee, D. W. Bonnell, J. W. Hastin, and A. J. Paul, in Ferroelectric Thin Film IV, edited by S. B. Desu, B. A. Tuttle, R. Ramesh, and T. Shiosaki (Materials Research Society, Pittsburgh, PA, 1995), p. 527.
17. H. Shigetani, M. Fujimoto, W. Sugimura, Y. Matsui, and J. Tanaka, Mater. Sci. Eng., B 41, 148 (1996).
18. G. Z. Yang, H. B. Lu, Y. L. Zhou, Z. L. Lei, and Z. H. Chen, Acta Phys. Sin. (Overseas Edition) 7, 623 (1998).
19. G. Z. Yang, H. B. Lu, H. S. Wang, D. F. Cui, H. Q. Yang, H. Wang, Y. L. Zhou, and Z. H. Chen, Chin. Phys. Lett. 14, 478 (1997).
20. D. Taylor, Br. Ceram. Trans. J. 84, 181 (1985).
21. W. D. Nix, Metall. Trans. A 20A, 2217 (1989).
22. H. Terauchi, Y. Watanabe, H. Kasatani, K. Kamigaki, Y. Yano, T. Terashima, and Y. Bando, J. Phys. Soc. Jpn. 61, 2194 (1992).
23. K. Iijima, R. Takayama, Y. Tomita, and I. Ueda, J. Appl. Phys. 60, 2914 (1986).
24. N. Y. Lee, T. Sekine, Y. Ito, and K. Uchino, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 33, 1484 (1994).
25. C. H. Park and D. J. Chadi, Phys. Rev. B 57, R13 961 (1998).