Design, Synthesis, and Evaluation of a Novel Amphiphilic Alicyclic Polymer Having γ-Hydroxy Acid Structure

Chemistry of Materials

Volumn 10, Issue 7, 1998, Pages 1789-1794

  Hattori, Takashi ^a   Tsuchiya, Yuko ^a   Yamanaka, Ryoko ^a   Shiraishi, Hiroshi ^a  

^a HITACHI LTD   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0001531738     PISSN: 08974756     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cm9707420     Document Type: Article

References (26)

1. (a) Levenson, M. D.; Viswanathan, N. S.; Simpson, R. A. IEEE Trans. Electron Devices 1982, 29, 1828.
2. (b) Levenson, M. D.; Goodman, D. S.; Lindsey, S.; Bayer, P. W.; Santini, H. A. E. IEEE Trans. Electron Devices 1984, 31, 753.
3. Terasawa, T.; Hasegawa, N.; Kurosaki, T.; Tanaka, T. Proc. SPIE 1989, 1088, 25.
4. (a) Kaimoto, Y.; Nozaki, K.; Takechi, S.; Abe, N. Proc. SPIE 1992, 1672, 66.
5. (b) Takechi, S.; Takahashi, M.; Kotachi, A.; Nozaki, K.; Yano, E.; Hanyu, I. J. Photopolym. Sci. Technol. 1996, 9, 475.
6. Endo, M.; Hashimoto, K., Yamashita, K.; Katsuyama, A.; Matso, T.; Tani, Y.; Sasago, M.; Nomura, N. IEDM Tech. Dig.-Int. Electron Devices Meet. 1992, 1992, 45
7. (a) Wallraff, G. M.; Allen, R. D.; Hinsberg, W. D.; Larson, C. F.; Johnson, R. D.; DiPietro, R.; Breyta, G.; Hacher, N.; Kunz, R. R. J. Vac. Sci. Technol. 1993, B11, 2783.
8. (b) Allen, R. D.; Wan, I. Y.; Wallraff, G. M.; DiPietro, R. A., Hofer, D. C.; Kunz, R. R. J. Photopolym. Sci. Technol. 1995, 8, 623.
9. (a) Nakano, K.; Maeda, K.; Iwasa, S.; Yano, J.; Ogura, Y.; Hasegawa, E. Proc. SPIE 1994, 2195, 195.
10. (b) Maeda, K.; Nakano, K.; Ohfuji, T.; Hasegawa, E. Proc. SPIE 1996, 2724, 377.
11. (a) Allen, R. D.; Sooriyakumaran, R.; Opitz, J ; Wallraff, G. M.; DiPietro, R. A.; Breyta, G.; Hofer, D. C.; Kunz, R. R.; Jayaraman, S.; Shick, R.; Goodall, B., Okoroanyawu, U.; Willson, C. G. Proc. SPIE 1996, 2724, 334.
12. (b) Allen, R. D.; Sooriyakumaran, R.; Opitz, J.; Wallraff, G. M.; Breyta, G.; DiPietro, R. A., Hofer, D. C.; Kunz, R. R.; Okoroanyawu, U.; Willson, C. G. J. Photopolym. Sci. Technol. 1996, 9, 465.
13. Wallow, T. I.; Houlihan, F. M.; Nalamasu, O.; Chandross, E. A.; Neenan, T. X.; Reichmanis, E. Proc. SPIE 1996, 2724, 355.
14. Choi, S.-J.; Kang, Y.; Jung, D.-W ; Park C.-G; Moon, J.-T. Proc. SPIE 1997, 3049, 104.
15. Niu, Q. J.; Fréchet; J. M. J.; Okoroanyawu, U.; Byers, J. D.; Willson, C. G. Proc. SPIE 1997, 3049, 113.
16. Park, J.-H.; Kim, S-J.; Park, S.-Y., Lee, H.; Jung, J.-C.; Bok, C.-K.; Baik, K.-H. Proc. SPIE 1997, 3049, 485.
17. Hattori ,T.; Tsuchiya, Y.; Yamanaka, R.; Hattori, K.; Shiraishi, H. J. Photopolym. Sci. Technol. 1997, 10, 535.
18. (a) Fréchet, J. M. J.; Ito, H.; Willson, C. G. Proc. Microcircuit Engineering 1982, 260.
19. (b) Ito, H.; Willson, C. G.; Fréchet, J. M. J. Proc. Microcircuit Engineering 1982, 262.
20. Ito, H.; Willson, C. G. ACS Symposium Series 242; American Chemical Society: Washington, DC, 1984; p 11.
21. Tsuchiya, Y.; Hattori, T.; Yamanaka, R.; Shiraishi, H. J. Photopolym. Sci. Technol. 1997, 10, 579.
22. Pledger, H., Jr.; Butler, G. B. J. Macromol. Sci. Chem. 1971. A5, 1339.
23. Yamamoto, T.; Seita, T. J. Photopolym. Sci. Technol. 1994, 7, 141.
24. Bailey, D. M.; Johnson, R. E. J. Org. Chem. 1970, 35, 3574.
25. Soucy, C.; Favreau, P.; Kayser, M. M. J. Org. Chem. 1987, 52, 129.
26. Houlihan, F. M.; Wallow, T. I.; Nalamasu, O.; Reichmanis, E. Macromolecules 1997, 30, 6517.