Investigation of acid-catalyzed insolubilization reactions for alicyclic polymers with carboxyl groups

Journal of Photopolymer Science and Technology

Volumn 10, Issue 4, 1997, Pages 579-584

  Tsuchiya, Yuko ^a   Hattori, Takashi ^a   Yamanaka, Ryoko ^a   Shiraishi, Hiroshi ^a  

^a HITACHI LTD   (Japan)

Author keywords

Aliphatic carbinol; Amphiphilic alicyclic polymers; ArF single layer negative resist; Etherification

Indexed keywords

EID: 0000671881     PISSN: 09149244     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.2494/photopolymer.10.579     Document Type: Article

References (19)

1. M. D. Levenson, N. S. Viswanathan, and R. A. Simpson, IEEE Trans. Electron Devices, ED-29 (1982) 1828;
2. M. D. Levenson, D. S. Goodman, S. Lindsey, P. W. Bayer, and H. A. E. Santini, IEEE Trans. Electron Devices, ED-31 (1984) 753.
3. T. Terasawa, N. Hasegawa, T. Kurosaki, and T. Tanaka, Proc. SPIE, 1088 (1989) 25.
4. Y. Kaimoto, K. Nozaki, S. Takechi, and N. Abe, Proc. SPIE, 1672 (1992) 66;
5. S. Takechi, M. Takahashi, A. Kotachi, K. Nozaki, E. Yano, and I. Hanyu, J. Photopolym. Sci. Technol., 9 (1996) 475.
6. M. Endo, K. Hashimoto, K. Yamashita, A. Katsuyama, T. Matsuo, Y. Tani, M. Sasago, and N. Nomura, IEDM Tech. Digest 1992, (1992) 45.
7. G. M. Wallraff, R. D. Allen, W. D. Hinsberg, C. F. Larson, R. D. Johnson, R. DiPietro, G. Breyta, N. Hacker, and R. R. Kunz, J. Vac. Sci. Technol., B11 (1993) 2783;
8. R. D. Allen, I. Y. Wan, G. M. Wallraff, R. A. DiPietro, D. C. Hofer, and R. R. Kunz, J. Photopolym. Sci. Technol., 8 (1995) 623.
9. K. Nakano, K. Maeda, S. Iwasa, J. Yano, Y. Ogura, and E. Hasegawa, Proc. SPIE, 2195 (1994) 194;
10. K. Maeda, K. Nakano, T. Ohfuji, and E. Hasegawa, Proc. SPIE, 2724 (1996) 377.
11. R. D. Allen, R. Sooriyakumaran, J. Opitz, G. M. Wallraff, R.A. DiPietro, G. Breyta, D. C. Hofer, R. R. Kunz, S. Jayaraman, R. Shick, B. Goodall, U. Okoroanyanwu, and C. G. Willson, Proc. SPIE, 2724 (1996) 334;
12. R. D. Allen, R. Sooriyakumaran, J. Opitz, G. M. Wallraff, G. Breyta, R. A. DiPietro, D. C. Hofer, R. R. Kunz, U. Okoroanyanwu, and C. G. Willson, J. Photopolym. Sci. Technol., 9 (1996) 465.
13. T. I. Wallow, F. M. Houlihan, O. Nalamasu, E. A. Chandross, T. X. Neenan, and E. Reichmanis, Proc. SPIE, 2724 (1996) 355.
14. T. Hattori, Y. Tsuchiya, R. Yamanaka, K. T. Hattori, and H. Shiraishi, J. Photopolym. Sci. Technol., submitted.
15. J. W. Thackeray, G. W. Orsula, M. M. Rajaratnam, R. Sinta, D. Herr, and E. Pavelchek, Proc. SPIE, 1466 (1991) 39.
16. S. Uchino, T. Iwayanagi, T. Ueno, and N. Hayashi, Proc. SPIE, 1466 (1991) 429.
17. S. Uchino, M. Katoh, T. Sakamizu, and M. Hashimoto, Microelectronic Eng., 18 (1992) 341.
18. T. Ueno, S. Uchino, K. T. Hattori, T. Onozuka, S. Shirai, N. Moriuchi, M. Hashimoto, and S. Koibuchi, Proc. SPIE, 2195 (1994) 173.
19. S. Migitaka, S. Uchino, T. Ueno, J. Yamamoto, K. Kojima, M. Hashimoto, and H. Shiraishi, Proc. SPIE, 2724 (1996) 613.