Theoretical study of luminescence degradation by oxidation in Si(001) and Si(111) ultrathin films: Gap states induced by oxidation

Physical Review B - Condensed Matter and Materials Physics

Volumn 60, Issue 12, 1999, Pages 8902-8908

  Nishida, Masahiko ^a  

^a KANAZAWA INSTITUTE OF TECHNOLOGY   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0001301198     PISSN: 10980121     EISSN: 1550235X     Source Type: Journal    
DOI: 10.1103/PhysRevB.60.8902     Document Type: Article

References (54)

1. L. T. Canham, Appl. Phys. Lett., 57, 1046, (1990)
2. A. G. Cullis, L. T. Canham and P. D. J. Calcott, J. Appl. Phys., 82, 909, (1997), and references therein.
3. A. Bsiesy, J. C. Vial, F. Gaspard, R. Herino, M. Ligeon, F. Muller, R. Romestain, A. Wasiela, A. Halimaoui and G. Bomchil, Surf. Sci., 254, 195, (1991).
4. E. B. Vazsonyi, M. Koos, G. Jalsovszky and I. Pocsik, J. Lumin., 57, 121, (1993)
5. S. Shih, K. H. Jung, J. Yan, D. L. Kwong, M. Kovar, J. M. White, M. George and S. Kim, Appl. Phys. Lett., 63, 3306, (1993)
6. M. A. Hory, R. Herino, M. Ligeon, F. Muller, F. Gaspard, L. Mihalcescu and J. C. Vial, Thin Solid Films, 255, 200, (1995).
7. Y. Xiao, M. J. Heben, J. M. McCullough, Y. S. Tsuo, J. I. Pankove and S. K. Deb, Appl. Phys. Lett., 62, 1152, (1993).
8. P. O’Keeffe, S. Komuro, T. Kato, T. Morikawa and Y. Aoyagi, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, 33, 7117, (1994)
9. P. O’Keeffe, S. Komuro, T. Kato, T. Morikawa, Y. Aoyagi, Appl. Phys. Lett., 66, 836, (1995)
10. H. Chen, X. Hou, G. Li, F. Zhang, M. Yu and X. Wang, J. Appl. Phys., 79, 3282, (1996).
11. M. Nishida, Phys. Rev. B, 58, 7103, (1998).
12. M. A. Tischler, R. T. Collins, J. H. Stathis and J. C. Tsang, Appl. Phys. Lett., 60, 639, (1992).
13. Z. Y. Xu, M. Gal and M. Gross, Appl. Phys. Lett., 60, 1375, (1992).
14. S. Gardelis and B. Hamilton, J. Appl. Phys., 76, 5327, (1994).
15. E. A. Konstantinova, Th. Dittrich, V. Yu. Timoshenko and P. K. Kashkarov, Thin Solid Films, 276, 265, (1996).
16. L. T. Canham, M. R. Houlton, W. Y. Leoun, C. Pickering and J. M. Keen, J. Appl. Phys., 70, 422, (1991).
17. X. L. Zheng, H. C. Chen and W. Wang, J. Appl. Phys., 72, 3841, (1992).
18. Y. Suda, T. Koizumi, K. Obata, Y. Tezuka, S. Shin and N. Koshida, J. Electrochem. Soc., 143, 2502, (1996)
19. T. Koizumi, K. Obata, Y. Tezuka, S. Shin, N. Koshida and Y. Suda, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2, 35, L803, (1996).
20. I. P. Batra, P. S. Bagus and K. Hermann, Phys. Rev. Lett., 52, 384, (1984)
21. I. P. Batra, P. S. Bagus, K. Hermann, J. Vac. Sci. Technol. A, 2, 1075, (1984).
22. Y. Ogata, H. Niki, T. Sakata and M. Iwasaki, J. Electrochem. Soc., 142, 1595, (1995).
23. H. Kageshima, Surf. Sci., 357/358, 312, (1996).
24. V. Barone, F. Lelj, N. Russo and M. Toscano, Surf. Sci., 162, 230, (1985)
25. V. Barone, F. Lelj, N. Russo, M. Toscano, Phys. Lett., 113A, 321, (1985).
26. X. M. Zheng and P. V. Smith, Surf. Sci., 232, 6, (1990).
27. M. Nishida, (unpublished).
28. K. Yamamoto and M. Hasegawa, J. Vac. Sci. Technol. B, 12, 2493, (1994)
29. T. Takahagi, I. Nagai, A. Ishitani, H. Kuroda and Y. Nagasawa, J. Appl. Phys., 64, 3516, (1988)
30. N. Hiroshita, M. Kinoshita, I. Aikawa and T. Ajioka, Appl. Phys. Lett., 56, 451, (1990).
31. E. G. Keim, L. Wolterbeek and A. V. Silfhout, Surf. Sci., 180, 565, (1987).
32. M. Nishida, (unpublished).
33. X. M. Zheng and P. L. Cao, Surf. Sci., 219, L543, (1989).
34. J. A. Schaefer, D. J. Frankel, F. Stucki, W. Göpel and G. J. Lapeyre, Surf. Sci., 139, L209, (1984)
35. T. Takahagi, A. Ishitani, H. Kuroda, Y. Nagasawa, H. Ito and S. Wakao, J. Appl. Phys., 68, 2187, (1990)
36. M. Niwano, J. Kageyama, K. Kinashi, J. Sawahata and N. Miyamoto, Surf. Sci., 301, L245, (1994)
37. Y. Yasuda, H. Ikeda and S. Zaima, Appl. Surf. Sci., 113/114, 579, (1996).
38. T. Hattori, Crit. Rev. Solid State Mater. Sci., 20, 339, (1995)
39. H. Ikeda, Y. Nakagawa, M. Toshima, S. Furuta, S. Zaima and Y. Yasuda, Appl. Surf. Sci., 117/118, 109, (1997).
40. K. Teraishi, H. Takaba, A. Yamada, A. Endou, I. Gunji, A. Chatterjee, M. Kubo and A. Miyamoto, J. Chem. Phys., 109, 1495, (1998)
41. K. Sakata, A. Tachibana, S. Zaima and Y. Yasuda, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, 37, 4962, (1998), and references therein.
42. T. Ito and A. Hiraki, J. Lumin., 57, 331, (1993).
43. P. Gupta, V. L. Colvin and S. M. George, Phys. Rev. B, 37, 8234, (1988)
44. M. B. Robinson, A. C. Dillon, D. R. Haynes and S. M. George, Appl. Phys. Lett., 61, 1414, (1992)
45. N. H. Zoubir, M. Vergnat, T. Delatour, A. Burneau, P. de Donato and O. Barres, Thin Solid Films, 255, 228, (1995).
46. C. Tsai, K. H. Li, J. C. Campbell, B. K. Hance and J. M. White, J. Electron. Mater., 21, 589, (1992)
47. R. T. Collins, M. A. Tischler and J. H. Stathis, Appl. Phys. Lett., 61, 1649, (1992).
48. G. Hollinger, J. F. Morar, F. J. Himpsel, G. Hughes and J. L. Jordan, Surf. Sci., 168, 609, (1986)
49. M. Tabe, T. T. Chiang, I. Lindau and W. E. Spicer, Phys. Rev. B, 34, 2706, (1986)
50. P. Avouris, I.-W. Lyo and F. Bozso, J. Vac. Sci. Technol. B, 9, 424, (1991).
51. M. Nishida, Phys. Rev. B, 59, 15 789, (1999).
52. T. Ito, T. Ohta and A. Hiraki, Jpn. J. Appl. Phys, Part 2, 31, L1, (1992)
53. Jpn. J. Appl. Phys., Part 2, M. Yamada and K. Kondo, 31, L993, (1992)
54. V. Petrova-Koch, T. Muschik, A. Kux, B. K. Meyer, F. Koch and V. Lehmann, Appl. Phys. Lett., 61, 943, (1992).