The role of atomic layer deposited aluminum oxide on SnO2 based dye-sensitized solar cells performance

Science of Advanced Materials

Volumn 7, Issue 1, 2015, Pages 120-126

  Dong, Wan ^a   Meng, Tao ^a   Chen, Qiang ^a  

^a BEIJING INSTITUTE OF GRAPHIC COMMUNICATION   (China)

Author keywords

ALD parameters; Alumina oxide; Model; SnO2 photoelectrode

Indexed keywords

EID: 84922061837     PISSN: 19472935     EISSN: 19472943     Source Type: Journal    
DOI: 10.1166/sam.2015.2090     Document Type: Article

References (24)

1. I. Chung, B. H. Lee, J. Q. He, R. P. H. Chang, and M. G. Kanatzidis, Nature 485, 486 (2012).
2. Y. Kim, C. Yoon, K. Kim, and Y. Lee, J. Vac. Sci. Technol. A 25, 1219 (2007).
3. Y. Kim, B. Yoo, R. Vittal, Y. Lee, N. G. Park, and K. J. Kim, J. Power Sources 175, 914 (2008).
4. T. Y. Cho, S. G. Yoon, S. S. Sekhon, M. G. Kang, and B. Korean, Chem. Soc. 32, 3629 (2011) .
5. Q. B. Meng, K. Takahashi, X. T. Zhang, I. Sutanto, T. N. Rao, and O. Sato, Langmuir 19, 3572 (2003).
6. M. K. I. Senevirathnaa, P. K. D. D. P. Pitigala, E. V. A. Premalal, and K. Tennakone, Sol. Energy Mater. Sol. Cells 91, 544 (2007).
7. X. T. Zhang, H. W. Liu, T. Taguchi, Q. B. Meng, O. Sato, and A. Fujishima, Sol. Energy Mater. Sol. Cells 81, 197 (2004).
8. A. I. Kontos, A. G. Kontos, D. S. Tsoukleris, M. C. Bernard, N. Spyrellis, and P. Falaras, J. Mater. Process. Technol. 196, 243 (2008).
9. T. N. Murakami, Y. Kijitori, N. Kawashima, and T. J. Miyasaka, Photochem. Photobiol. 164,187 (2004).
10. J. Kim, S. H. Kang, H. S. Kim, and Y. Sung, Langmuir 26, 2864 (2010).
11. S. Ito, N. L. C. Ha, G. Rothenberger, P. Liska, P. Comte, S. M. Zakeeruddin, P. Pechy, M. K. Nazeeruddin, and M. Gratzel, Chem. Commun. 38, 4004 (2006).
12. T. C. Tien, F. M. Pan, and L. P. Wang, Nanotechnology 20, 305201 (2009).
13. J. F. Qian, P. Liu, Y. Xiao, and Y. Jiang, Adv. Mater. 21, 3663 (2009).
14. A. Kay and M. Gratzel, Chem. Mater. 14, 2930 (2002).
15. A. W. Ott, J. W. Klaus, J. M. Johnson, and S. M. George, Thin Solid Films 292, 135 (1997).
16. R. L. Puurunen, W. F. A. Besling, O. Richard, H. Bender, and T. Conard, J. Appl. Phys. 96, 4878 (2004).
17. S. C. Ha, E. Choi, S. H. Kim, and J. S. Roh, Thin Solid Films 476, 252 (2005).
18. V. Ganapathy, B. Karunagaran, and S. W. Rhee, J. Power Sources 195, 5138 (2010).
19. E. Palomares, J. N. Clifford, S. A. Haque, and T. J. Lutz, J. Am. Chem. Soc. 475 (2003).
20. X. T. Zhang, H. W. Liu, T. Taguchi, Q. B. Meng, and O. Sato, Sol. Energy Mater. Sol. Cells 81, 187 (2004).
21. Z. Liu, K. Pan, M. Liu, M. Wang, Q. Lu, J. Li, Y. Bai, and T. Li, Electrochim. Acta 50, 2583 (2005) .
22. R. L. Puurunen and W. Vandervorst, J. Appl. Phys. 96, 7686 (2004).
23. A. Hagfeldt and M. Grätzel, Chem. Rev. 95, 49 (1995).
24. C. A. Wilson, R. K. Grubbs, and S. M. George, Chem. Mater. 17, 5625 (2005).