Switching adhesion and friction by light using photosensitive guest-host interactions

Chemical Communications

Volumn 51, Issue 10, 2015, Pages 1830-1833

  Blass, Johanna ^a   Bozna, Bianca L ^a   Albrecht, Marcel ^a   Krings, Jennifer A ^b   Ravoo, Bart Jan ^b   Wenz, Gerhard ^a   Bennewitz, Roland ^a  

^a SAARLAND UNIVERSITY   (Germany)

^b UNIVERSITY OF MÜNSTER   (Germany)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

AZOBENZENE; BETA CYCLODEXTRIN; SILICON;

ADHESION; ARTICLE; ATOMIC FORCE MICROSCOPE; COMPLEX FORMATION; CONTROLLED STUDY; FRICTION; LIGHT; MOLECULE; PHOTOSENSITIVITY; SURFACE PROPERTY;

EID: 84921670094     PISSN: 13597345     EISSN: 1364548X     Source Type: Journal    
DOI: 10.1039/c4cc09204j     Document Type: Article

References (26)

1. J. Lahann, S. Mitragotri, T. N. Tran, H. Kaido, J. Sundaram, I. S. Choi, S. Hoffer, G. A. Somorjai and R. Langer, Science, 2003, 299, 371.
2. (a) Y. F. Dufrêne, W. R. Barger, J. B. D. Green and G. U. Lee, Langmuir, 1996, 13, 4779;
3. (b) D. J. Díaz, J. E. Hudson, G. D. Storrier, H. D. Abruña, N. Sundararajan and C. K. Ober, Langmuir, 2001, 17, 5932;
4. (c) M. Lemieux, D. Usov, S. Minko, M. Stamm, H. Shulha and V. V. Tsukruk, Macromolecules, 2003, 36, 7244;
5. (d) V. Kolivoška, M. Mohos, I. V. Pobelov, S. Rohrbach, K. Yoshida, W. J. Hong, Y. C. Fu, P. Moreno-Garcia, G. Mészáros, P. Broekmann, M. Hromadová, R. Sokolová, M. Valàšek and T. Wandlowski, Chem. Commun., 2014, 50, 11757.
6. (a) T. Kobayashi, E. O. Degenkolb and P. M. Rentzepis, J. Phys. Chem., 1979, 83, 2431;
7. (b) I. K. Lednev, T. Q. Ye, R. E. Hester and J. N. Moore, J. Phys. Chem., 1996, 100, 13338;
8. (c) W. R. Browne and B. L. Feringa, Annu. Rev. Phys. Chem., 2009, 60, 407.
9. K. G. Yager and C. J. Barrett, J. Photochem. Photobiol., A, 2006, 182, 250.
10. Z. Liu and M. Jiang, J. Mater. Chem., 2007, 17, 4249.
11. J. Voskuhl, S. Sankaran and P. Jonkheijm, Chem. Commun., 2014, 50, 15144.
12. N. B. Holland, T. Hugel, G. Neuert, A. Cattani-Scholz, C. Renner, D. Oesterhelt, L. Moroder, M. Seitz and H. E. Gaub, Macromolecules, 2003, 36, 2015.
13. S. K. M. Nalluri and B. J. Ravoo, Angew. Chem., Int. Ed., 2010, 49, 5371.
14. (a) H. Schönherr, M. W. J. Beulen, J. Bugler, J. Huskens, F. van Veggel, D. N. Reinhoudt and G. J. Vancso, J. Am. Chem. Soc., 2000, 122, 4963;
15. (b) S. Zapotoczny, T. Auletta, M. R. de Jong, H. Schonherr, J. Huskens, F. van Veggel, D. N. Reinhoudt and G. J. Vancso, Langmuir, 2002, 18, 6988;
16. (c) T. Auletta, M. R. de Jong, A. Mulder, F. van Veggel, J. Huskens, D. N. Reinhoudt, S. Zou, S. Zapotoczny, H. Schönherr, G. J. Vancso and L. Kuipers, J. Am. Chem. Soc., 2004, 126, 1577;
17. (d) A. Gomez-Casado, H. H. Dam, M. D. Yilmaz, D. Florea, P. Jonkheijm and J. Huskens, J. Am. Chem. Soc., 2011, 133, 10849;
18. (e) O. Kaftan, S. Tumbiolo, F. Dubreuil, R. Auzely-Velty, A. Fery and G. Papastavrou, J. Phys. Chem. B, 2011, 115, 7726.
19. G. Wenz, C. Strassnig, C. Thiele, A. Engelke, B. Morgenstern and K. Hegetschweiler, Chem. - Eur. J., 2008, 14, 7202.
20. A. Samanta and B. J. Ravoo, Chem. - Eur. J., 2014, 20, 4966.
21. C. Green, H. Lioe, J. Cleveland, R. Proksch, P. Mulvaney and J. Sader, Rev. Sci. Instrum., 2004, 75, 1988.
22. H. Wang and L. M. Gee, Ultramicroscopy, 2014, 136, 193.
23. E. Tocha, J. Song, H. Schönherr and G. J. Vancso, Langmuir, 2007, 23, 7078.
24. A. Mulder, T. Auletta, A. Sartori, S. Del Ciotto, A. Casnati, R. Ungaro, J. Huskens and D. N. Reinhoudt, J. Am. Chem. Soc., 2004, 126, 6627.
25. E. Gnecco, R. Bennewitz, T. Gyalog and E. Meyer, J. Phys.: Condens. Matter, 2001, 13, R619.
26. S. K. M. Nalluri, J. Voskuhl, J. B. Bultema, E. J. Boekema and B. J. Ravoo, Angew. Chem., 2011, 123, 9921.