Polaron stability in semiconducting polymer neat films

Chemical Communications

Volumn 50, Issue 92, 2014, Pages 14425-14428

  Beatrup, Daniel ^a   Wade, Jessica ^a   Biniek, Laure ^a,b   Bronstein, Hugo ^a   Hurhangee, Michael ^a   Kim, Ji Seon ^a   McCulloch, Iain ^a   Durrant, James R ^a  

^a IMPERIAL COLLEGE LONDON   (United Kingdom)

^b UNIVERSITÉ DE STRASBOURG   (France)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

POLYMER; THIAZOLE; THIOPHENE; THIOPHENE DERIVATIVE;

ARTICLE; CHEMICAL STRUCTURE; CONJUGATION; ELECTROCHEMICAL ANALYSIS; MOLECULAR STABILITY; OXIDATIVE STRESS; POLARON STABILITY; SEMICONDUCTOR;

EID: 84908388185     PISSN: 13597345     EISSN: 1364548X     Source Type: Journal    
DOI: 10.1039/c4cc06193d     Document Type: Article

References (15)

1. M. Jørgensen, K. Norrman, F. C. Krebs, Sol. Energy Mater. Sol. Cells. 2008, 92, 686
2. M. Jørgensen, K. Norrman, S. A. Gevorgyan, T. Tromholt, B. Andreasen, F. k. C. Krebs, Adv. Mater. 2012, 24, 580
3. C. H. Peters, I. T. Sachs-Quintana, J. P. Kastrop, S. Beaupré, M. Leclerc, M. D. McGehee, Adv. Energy Mater. 2011, 1, 491
4. Y. W. Soon, H. Cho, J. Low, H. Bronstein, I. McCulloch, J. R. Durrant, Chem. Commun. 2013, 49, 1291
5. Y. W. Soon, S. Shoaee, R. S. Ashraf, H. Bronstein, B. C. Schroeder, W. Zhang, Z. Fei, M. Heeney, I. McCulloch, J. R. Durrant, Adv. Funct. Mater. 2014, 24, 1474
6. A. Tournebize, P.-O. Bussière, P. Wong-Wah-Chung, S. Thérias, A. Rivaton, J.-L. Gardette, S. Beaupré, M. Leclerc, Adv. Energy Mater. 2013, 3, 478
7. H. C. Wong, Z. Li, C. H. Tan, H. Zhong, Z. Huang, H. Bronstein, I. McCulloch, J. T. Cabral, J. R. Durrant, ACS Nano. 2014, 8, 1297
8. G. Wantz, L. L. Derue, O. Dautel, A. Rivaton, P. Hudhomme, C. Dagron-Lartigau, Polym. Int. 2014, 63, 1346
9. R. E. Palacios, F.-R. F. Fan, J. K. Grey, J. Suk, A. J. Bard, P. F. Barbara, Nat. Mater. 2007, 6, 680
10. D. M. de Leeuw, M. M. J. Simenon, A. R. Brown, R. E. F. Einerhand, Synth. Met. 1997, 87, 53
11. R. Di Pietro, H. Sirringhaus, Adv. Mater. 2012, 24, 3367
12. H. Sirringhaus, Adv. Mater. 2009, 21, 3859
13. H. Bronstein, M. Hurhangee, E. C. Fregoso, D. Beatrup, Y. W. Soon, Z. Huang, A. Hadipour, P. S. Tuladhar, S. Rossbauer, E.-H. Sohn, S. Shoaee, S. D. Dimitrov, J. M. Frost, R. S. Ashraf, T. Kirchartz, S. E. Watkins, K. Song, T. D. Anthopoulos, J. Nelson, B. P. Rand, J. R. Durrant, I. McCulloch, Chem. Mater. 2013, 25, 4239
14. C. M. Cardona, W. Li, A. E. Kaifer, D. Stockdale, G. C. Bazan, Adv. Mater. 2011, 23, 2367
15. M. J. Frisch, G. W. Trucks, H. B. Schlegel, G. E. Scuseria, M. A. Robb, J. R. Cheeseman, G. Scalmani, V. Barone, B. Mennucci, G. A. Petersson, H. Nakatsuji, M. Caricato, X. Li, H. P. Hratchian, A. F. Izmaylov, J. Bloino, G. Zheng, J. L. Sonnenberg, M. Hada, M. Ehara, K. Toyota, R. Fukuda, J. Hasegawa, M. Ishida, T. Nakajima, Y. Honda, O. Kitao, H. Nakai, T. Vreven, J. A. Montgomery, Jr., J. E. Peralta, F. Ogliaro, M. Bearpark, J. J. Heyd, E. Brothers, K. N. Kudin, V. N. Staroverov, R. Kobayashi, J. Normand, K. Raghavachari, A. Rendell, J. C. Burant, S. S. Iyengar, J. Tomasi, M. Cossi, N. Rega, J. M. Millam, M. Klene, J. E. Knox, J. B. Cross, V. Bakken, C. Adamo, J. Jaramillo, R. Gomperts, R. E. Stratmann, O. Yazyev, A. J. Austin, R. Cammi, C. Pomelli, J. W. Ochterski, R. L. Martin, K. Morokuma, V. G. Zakrzewski, G. A. Voth, P. Salvador, J. J. Dannenberg, S. Dapprich, A. D. Daniels, ö. Farkas, J. B. Foresman, J. V. Ortiz, J. Cioslowski and D. J. Fox, Gaussian 09, Revision D.01, Gaussian, Inc., Wallingford CT, 2009