Microstructure optimization and optical properties modulation of sputtering-derived ZnO thin films

Science of Advanced Materials

Volumn 6, Issue 5, 2014, Pages 908-914

  Li, T S ^a   He, G ^a   Li, W D ^a   Deng, B ^a   Zhang, M ^a   Zheng, C Y ^a   Sun, Z Q ^a  

^a ANHUI UNIVERSITY   (China)

Author keywords

Annealing temperature; Crystal quality; Sputtering power; ZnO

Indexed keywords

EID: 84902354621     PISSN: 19472935     EISSN: 19472943     Source Type: Journal    
DOI: 10.1166/sam.2014.1846     Document Type: Article

References (29)

1. J. Wang, W. Chen, and M. R. Wang, J. Alloys Comp. 449, 44 (2008).
2. X. T. Zhang, Y. C. Liu, J. Y. Zhang, Y. M. Lu, D. Z. Shen, X. W. Fan, and X. G. Kong, J. Cryst. Growth. 254, 80 (2003).
3. F. R. Blom, F. C. M. Van de Pol, G. Bauhuis, and T. J. A. Popma, Thin Solid Films 204, 365 (1991).
4. S. Deka and P. A. Joy, Appl. Phys. Lett. 89, 032508 (2006).
5. W. E. Devaney, W. S. Chen, J. M. Stewart, and R. A. Mickelsen, IEEE Trans. Electron Devices 37, 428 (1990).
6. C. H. Chen, S. J. Chang, Y. K. Su, G. C. Chi, J. Y. Chi, C. A. Chang, J. K. Sheu, and J. F. Chen, Photon. Technol. Lett. 13, 848 (2001).
7. C. R. Gorla, N. W. Emanetoglu, S. Liang, W. E. Mayo, Y. Lu, M. Wraback, and H. Shen, J. Appl. Phys. 85, 2595 (1999).
8. M. N. Kamalasanan and S. Chandra, Thin Solid Films 288, 112 (1996).
9. K. J. Chen, F. Y. Hung, S. J. Chang, and S. J. Young, J. Alloys Comp. 479, 674 (2009).
10. F. D. Paraguay, W. L. Estrada, D. R. N. Acosta, E. Andrade, and M. Yoshida, Thin Solid Films 350, 192 (1999).
11. K. Nakamura, T. Shoji, and H. B. Kang, J. J. Appl. Phys. 39, L534 (2000).
12. T. Minami, H. Sonohara, S. Takata, and H. Sato, J. Appl. Phys. 33, L743 (1994).
13. R. L. Liu, Y. X. Huang, A. H. Xiao, and H. Q. Liu, J. Alloys Comp. 503, 103 (2010).
14. S. Maniv and A. Zangvil, J. Appl. Phys. 49, 2787 (1978).
15. B. D. Cullity and S. R. Stock, Element of X-Ray Diffraction, Prentice Hall, New Jersey (2001), p. 170.
16. V. Gupta and A. Mansingh, J. Appl. Phys. 80, 1063 (1996).
17. C. Lee, Y. Park, A. Park, and C. Kim, Mater. Sci. Forum. 670, 510 (2006).
18. W. Z. Tang, The Theory and Technology of the Thin Film Production, Metallurgical Industry Press, Beijing (2003), p. 169.
19. G. He, Q. Fang, G. H. Li, J. P. Zhang, and L. D. Zhang, Appl. Surf. Sci. 253, 8483 (2007).
20. M. Liu, Q. Fang, G. He, L. Q. Zhu, and L. D. Zhang, Appl. Surf. Sci. 252, 8673 (2006).
21. C. W. Sun, Z. W. Liu, F. W. Qin, Q. Y. Zhang, K. Liu, and S. F. Wu, Acta Physica Sinica 3, 1390 (2006).
22. K. Lovchinov, O. Angelov, H. Nichev, V. Mikli, and D. Dimova-Malinovska, Energy Procedia 10, 282 (2011).
23. M. Yang, Z. B. Huang, G. F. Yin, X. M. Liao, Y. D. Yao, Y. Q. Kang, and J. W. Gu, J. Alloys Comp. 495, 275 (2010).
24. J. H. Xu, L. H. Yu, and I. Kojima, J. Appl. Phys. 94, 5605 (2003).
25. K. Lovchinov, O.Angelov, and D. Dimova-Malinovska, J. Phys: Conf. Ser. 356, 012026 (2012).
26. B. Lin and Z. Fu, Appl. Phys. Lett. 79, 943 (2001).
27. D. X. Zhao, Y. C. Liu, D. Z. Shen, Y. M. Lu, L. G. Zhang, and X. W. Fan, J . Appl. Phys. 94, 6827 (2003).
28. V. Rakhesh, M. Junaid. Bushiri, and V. K. Vaidyan, J. Optoelectron. Adv. Mater. 9, 3740 (2007).
29. L. Cui, H. Y. Zhang, G. G. Wang, F. X. Yang, X. P. Kuang, R. Sun, and J. C. Han, Appl. Surf. Sci. 258, 2479 (2012).