Role of wrinkles in the corrosion of graphene domain-coated Cu surfaces

Applied Physics Letters

Volumn 104, Issue 14, 2014, Pages

  Zhang, Y H ^a   Zhang, H R ^a   Wang, B ^a,b   Chen, Z Y ^a   Zhang, Y Q ^a   Sui, Y P ^a   Zhu, B ^a   Tang, C M ^a   Li, X L ^a   Xie, X M ^a   Yu, G H ^a   Jin, Z ^c   Liu, X Y ^c  

^a SHANGHAI INSTITUTE OF MICROSYSTEM AND INFORMATION TECHNOLOGY   (China)

^b DALIAN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY   (China)

^c INSTITUTE OF MICROELECTRONICS   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; CORROSION; GRAIN BOUNDARIES;

CHEMICAL VAPOR DEPOSITIONS (CVD); CU SURFACES; CVD GRAPHENE; DOMAIN BOUNDARY; EXPOSED TO; INFERIOR QUALITY; PRIMARY FACTORS;

GRAPHENE;

EID: 84898951013     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.4871000     Document Type: Article

References (24)

1. A. K. Geim and K. S. Novoselov, Nat. Mater. 6, 183 (2007). 10.1038/nmat1849
2. A. H. Castro Neto, F. Guinea, N. M. R. Peres, K. S. Novoselov, and A. K. Geim, Rev. Mod. Phys. 81, 109 (2009). 10.1103/RevModPhys.81.109
3. X. Wang, L. Zhi, and K. Mullen, Nano Lett. 8, 323 (2008). 10.1021/nl072838r
4. Y. M. Lin, C. Dimitrakopoulos, K. A. Jenkins, D. B. Farmer, H. Y. Chiu, A. Grill, and Ph. Avouris, Science 327, 662 (2010). 10.1126/science.1184289
5. F. Bonaccorso, Z. Sun, T. Hasan, and A. C. Ferrari, Nat. Photonics 4, 611 (2010). 10.1038/nphoton.2010.186
6. E. Stolyarova, D. Stolyarov, K. Bolotin, S. Ryu, L. Liu, K. T. Rim, M. Klima, M. Hybertsen, I. Pogorelsky, I. Pavlishin, K. Kusche, J. Hone, P. Kim, H. L. Stormer, V. Yakimenko, and G. Flynn, Nano Lett. 9, 332 (2009). 10.1021/nl803087x
7. O. Leenaerts, B. Partoens, and F. M. Peeters, Phys. Rev. B 79, 235440 (2009). 10.1103/PhysRevB.79.235440
8. J. S. Bunch, S. S. Verbridge, J. S. Alden, A. Zande, J. M. Parpia, H. G. Craighead, and L. M. Paul, Nano Lett. 8, 2458 (2008). 10.1021/nl801457b
9. X. S. Li, W. W. Cai, J. H. An, S. Kim, J. Nah, D. X. Yang, R. Piner, A. Velamakanni, I. Jung, E. Tutuc, S. K. Banerjee, L. Colombo, and R. S. Ruoff, Science 324, 1312 (2009). 10.1126/science.1171245
10. X. S. Li, W. W. Cai, I. H. Jung, J. H. An, D. X. Yang, A. Velamakanni, R. Piner, L. Colombo, and R. S. Ruoff, ECS Trans. 19, 41 (2009). 10.1149/1.3119526
11. K. S. Kim, Y. Zhao, H. Jang, S. Y. Lee, J. M. Kim, J. H. Ahn, P. Kim, J. Y. Choi, and B. H. Hong, Nature 457, 706 (2009). 10.1038/nature07719
12. W. W. Cai, Y. W. Zhu, X. S. Li, R. D. Piner, and R. S. Ruoff, Appl. Phys. Lett. 95, 123115 (2009). 10.1063/1.3220807
13. T. Fujita, W. Kobayashi, and C. Oshima, Surf. Interface Anal. 37, 120 (2005). 10.1002/sia.1945
14. J. Coraux, A. T. N'Diaye, C. Busse, and T. Michely, Nano Lett. 8, 565 (2008). 10.1021/nl0728874
15. S. Chen, L. Brown, M. Levendorf, W. Cai, S. Y. Ju, J. Edgeworth, X. Li, C. Magnuson, A. Velamakanni, R. D. Piner, J. Kang, J. Park, and R. S. Ruoff, ACS Nano 5, 1321 (2011). 10.1021/nn103028d
16. D. Prasai, J. C. Tuberquia, R. R. Harl, G. K. Jennings, and K. I. Bolotin, ACS Nano 6, 1102 (2012). 10.1021/nn203507y
17. R. K. S. Raman, P. C. Banerjee, D. E. Lobo, H. Gullapalli, M. Sumandasa, A. Kumar, L. Choudhary, R. Tkacz, P. M. Ajayan, and M. Majumder, Carbon 50, 4040 (2012). 10.1016/j.carbon.2012.04.048
18. I. Wlasny, P. Dabrowski, M. Rogala, P. J. Kowalczyk, I. Pasternak, W. Strupinski, J. M. Baranowski, and Z. Klusek, Appl. Phys. Lett. 102, 111601 (2013). 10.1063/1.4795861
19. Y. H. Zhang, Z. Y. Chen, B. Wang, Y. W. Wu, Z. Jin, X. Y. Liu, and G. H. Yu, Mater. Lett. 96, 149 (2013). 10.1016/j.matlet.2013.01.024
20. D. L. Duong, G. H. Han, S. I. Lee, F. Gunes, E. S. Kim, S. T. Kim, H. Kim, Q. H. Ta, K. P. So, S. J. Yoon, S. J. Chae, Y. W. Jo, M. H. Park, S. H. Chae, S. C. Lim, J. Y. Choi, and Y. H. Lee, Nature 490, 235 (2012). 10.1038/nature11562
21. J. Li, K. N. Kudin, M. J. McAllister, R. K. Prud'homme, I. A. Aksay, and R. Car, Phys. Rev. Lett. 96, 176101 (2006). 10.1103/PhysRevLett.96.176101
22. Z. Y. Li, W. H. Zhang, Y. Luo, J. L. Yang, and J. G. Hou, J. Am. Chem. Soc. 131, 6320 (2009). 10.1021/ja8094729
23. L. Ma, J. L. Wang, and F. Ding, Angew. Chem., Int. Ed. 51, 1161 (2012). 10.1002/anie.201105920
24. W. Zhu, T. Low, V. Perebeinos, A. A. Bol, Y. Zhu, H. Yan, J. Tersoff, and P. Avouris, Nano Lett. 12, 3431 (2012). 10.1021/nl300563h