SCOPUS 정보 검색 플랫폼

Journal of Materials Chemistry C

Volumn 1, Issue 36, 2013, Pages 5607-5618

Metal-ion doped luminescent thin films for optoelectronic applications

(2) Zhang, Yang a Hao, Jianhua a

a HONG KONG POLYTECHNIC UNIVERSITY (Hong Kong)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CHARACTERIZATION; DOPING (ADDITIVES); FLAT PANEL DISPLAYS; LIGHTING; LUMINESCENCE; METAL IONS; PHOSPHORS; PHYSICAL VAPOR DEPOSITION; TRANSITION METAL COMPOUNDS; TRANSITION METALS;

LUMINESCENCE EFFICIENCIES; LUMINESCENT CHARACTERISTICS; LUMINESCENT MATERIAL; LUMINESCENT THIN FILMS; OPTOELECTRONIC APPLICATIONS; PHYSICAL VAPOUR DEPOSITION; SOLID STATE LIGHTING; STRUCTURAL CHARACTERIZATION;

THIN FILMS;

EID: 84896062753 PISSN: 20507534 EISSN: 20507526 Source Type: Journal
DOI: 10.1039/c3tc31024h Document Type: Article

Times cited : (112)

References (76)

1
- 0004121205
- Taylor & Francis, London
- W. M. Yen, S. Shionoya and H. Yamamoto, Phosphor Handbook, Taylor & Francis, London, 2007
- (2007) Phosphor Handbook
- Yen, W.M.¹ Shionoya, S.² Yamamoto, H.³

2
- 78650488762
- C. M. Zhang P. M. Ma C. X. Li G. G. Li S. S. Huang D. M. Yang M. M. Shang X. J. Kang J. Lin J. Mater. Chem. 2011 21 717
- (2011) J. Mater. Chem. , vol.21 , pp. 717
- Zhang, C.M.¹ Ma, P.M.² Li, C.X.³ Li, G.G.⁴ Huang, S.S.⁵ Yang, D.M.⁶ Shang, M.M.⁷ Kang, X.J.⁸ Lin, J.⁹

3
- 77649096724
- F. Wang Y. Han C. S. Lim Y. H. Lu J. Wang J. Xu Y. H. Chen C. Zhang M. H. Hong X. G. Liu Nature 2010 463 1061
- (2010) Nature , vol.463 , pp. 1061
- Wang, F.¹ Han, Y.² Lim, C.S.³ Lu, Y.H.⁴ Wang, J.⁵ Xu, J.⁶ Chen, Y.H.⁷ Zhang, C.⁸ Hong, M.H.⁹ Liu, X.G.¹⁰

4
- 84867400677
- S. J. Zeng M. K. Tsang C. F. Chan K. L. Wong J. H. Hao Biomaterials 2012 33 9232
- (2012) Biomaterials , vol.33 , pp. 9232
- Zeng, S.J.¹ Tsang, M.K.² Chan, C.F.³ Wong, K.L.⁴ Hao, J.H.⁵

5
- 61849097301
- C. H. Dong F. C. J. M. van Veggel ACS Nano 2009 3 123
- (2009) ACS Nano , vol.3 , pp. 123
- Dong, C.H.¹ Van Veggel, F.C.J.M.²

6
- 80053999834
- H. T. Wong F. Vetrone R. Naccache H. L. W. Chan J. H. Hao J. A. Capobianco J. Mater. Chem. 2011 21 16589
- (2011) J. Mater. Chem. , vol.21 , pp. 16589
- Wong, H.T.¹ Vetrone, F.² Naccache, R.³ Chan, H.L.W.⁴ Hao, J.H.⁵ Capobianco, J.A.⁶

7
- 77950393684
- Z. L. Wang J. H. Hao H. L. W. Chan J. Mater. Chem. 2010 20 3178
- (2010) J. Mater. Chem. , vol.20 , pp. 3178
- Wang, Z.L.¹ Hao, J.H.² Chan, H.L.W.³

8
- 79959890888
- D. T. Tu L. Q. Liu Q. Ju H. M. Zhu R. F. Li X. Y. Chen Angew. Chem., Int. Ed. 2011 50 6306
- (2011) Angew. Chem., Int. Ed. , vol.50 , pp. 6306
- Tu, D.T.¹ Liu, L.Q.² Ju, Q.³ Zhu, H.M.⁴ Li, R.F.⁵ Chen, X.Y.⁶

9
- 70349756984
- Y. R. Jung Y. W. Jung K. S. Sohn J. Electrochem. Soc. 2009 156 J321
- (2009) J. Electrochem. Soc. , vol.156 , pp. 321
- Jung, Y.R.¹ Jung, Y.W.² Sohn, K.S.³

10
- 24644484942
- Z. Zhou T. Komori T. Ayukawa H. Yukawa M. Morinaga A. Koizumi Y. Takeda Appl. Phys. Lett. 2005 87 091109
- (2005) Appl. Phys. Lett. , vol.87 , pp. 091109
- Zhou, Z.¹ Komori, T.² Ayukawa, T.³ Yukawa, H.⁴ Morinaga, M.⁵ Koizumi, A.⁶ Takeda, Y.⁷

11
- 84872708109
- Y. Yang Y. P. Li L. Jin X. Y. Ma D. R. Yang Appl. Phys. Lett. 2013 102 021108
- (2013) Appl. Phys. Lett. , vol.102 , pp. 021108
- Yang, Y.¹ Li, Y.P.² Jin, L.³ Ma, X.Y.⁴ Yang, D.R.⁵

12
- 84857802792
- A. Guille A. Pereira G. Breton A. Bensalah-Ledoux B. Moine J. Appl. Phys. 2012 111 043104
- (2012) J. Appl. Phys. , vol.111 , pp. 043104
- Guille, A.¹ Pereira, A.² Breton, G.³ Bensalah-Ledoux, A.⁴ Moine, B.⁵

13
- 0033702133
- H. X. Zhang C. H. Kam Y. Zhou X. Q. Han S. Buddhudu Y. L. Lam C. Y. Chan Thin Solid Films 2000 370 50
- (2000) Thin Solid Films , vol.370 , pp. 50
- Zhang, H.X.¹ Kam, C.H.² Zhou, Y.³ Han, X.Q.⁴ Buddhudu, S.⁵ Lam, Y.L.⁶ Chan, C.Y.⁷

14
- 0032561606
- K. G. Cho D. Kumar P. H. Holloway R. K. Singh Appl. Phys. Lett. 1998 73 3058
- (1998) Appl. Phys. Lett. , vol.73 , pp. 3058
- Cho, K.G.¹ Kumar, D.² Holloway, P.H.³ Singh, R.K.⁴

15
- 34547375113
- K. Y. Ko Y. K. Lee Y. R. Do Y. D. Huh J. Appl. Phys. 2007 102 013509
- (2007) J. Appl. Phys. , vol.102 , pp. 013509
- Ko, K.Y.¹ Lee, Y.K.² Do, Y.R.³ Huh, Y.D.⁴

16
- 70350455916
- H. K. Yang J. W. Chung B. K. Moon B. C. Choi J. H. Jeong K. H. Kim J. Phys. D: Appl. Phys. 2009 42 085411
- (2009) J. Phys. D: Appl. Phys. , vol.42 , pp. 085411
- Yang, H.K.¹ Chung, J.W.² Moon, B.K.³ Choi, B.C.⁴ Jeong, J.H.⁵ Kim, K.H.⁶

17
- 84878101514
- Y. Zhang J. H. Hao J. Appl. Phys. 2013 113 184112
- (2013) J. Appl. Phys. , vol.113 , pp. 184112
- Zhang, Y.¹ Hao, J.H.²

18
- 28544448397
- J. S. Bae S. S. Yi J. H. Kim K. S. Shim B. K. Moon J. H. Jeong Y. S. Kim Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 2005 82 369
- (2005) Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. , vol.82 , pp. 369
- Bae, J.S.¹ Yi, S.S.² Kim, J.H.³ Shim, K.S.⁴ Moon, B.K.⁵ Jeong, J.H.⁶ Kim, Y.S.⁷

19
- 80755163195
- X. Wang F. Xu Z. M. Jiang L. L. Zheng Z. Q. Ma R. Xu B. Yu M. Z. Li F. Lu Thin Solid Films 2011 520 747
- (2011) Thin Solid Films , vol.520 , pp. 747
- Wang, X.¹ Xu, F.² Jiang, Z.M.³ Zheng, L.L.⁴ Ma, Z.Q.⁵ Xu, R.⁶ Yu, B.⁷ Li, M.Z.⁸ Lu, F.⁹

20
- 84864548222
- Q. Luo L. S. Wang H. Z. Guo K. Q. Lin Y. Chen G. H. Yue D. L. Peng Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 2012 108 239
- (2012) Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. , vol.108 , pp. 239
- Luo, Q.¹ Wang, L.S.² Guo, H.Z.³ Lin, K.Q.⁴ Chen, Y.⁵ Yue, G.H.⁶ Peng, D.L.⁷

21
- 84655168067
- B. Angadi R. Kumar D. H. Park J. W. Choi W. K. Choi Nucl. Instrum. Methods Phys. Res., Sect. B 2012 272 305
- (2012) Nucl. Instrum. Methods Phys. Res., Sect. B , vol.272 , pp. 305
- Angadi, B.¹ Kumar, R.² Park, D.H.³ Choi, J.W.⁴ Choi, W.K.⁵

22
- 0039782258
- J. H. Hao M. Cocivera Appl. Phys. Lett. 2001 79 740
- (2001) Appl. Phys. Lett. , vol.79 , pp. 740
- Hao, J.H.¹ Cocivera, M.²

23
- 0035426879
- J. H. Hao S. A. Studenikin M. Cocivera J. Lumin. 2001 93 313
- (2001) J. Lumin. , vol.93 , pp. 313
- Hao, J.H.¹ Studenikin, S.A.² Cocivera, M.³

24
- 9744246806
- J. H. Hao J. Gao Appl. Phys. Lett. 2004 85 3720
- (2004) Appl. Phys. Lett. , vol.85 , pp. 3720
- Hao, J.H.¹ Gao, J.²

25
- 70149098902
- W. C. Wang H. W. Zheng Y. F. Liu Z. H. Li T. Zhang W. F. Zhang J. Phys. D: Appl. Phys. 2009 42 105411
- (2009) J. Phys. D: Appl. Phys. , vol.42 , pp. 105411
- Wang, W.C.¹ Zheng, H.W.² Liu, Y.F.³ Li, Z.H.⁴ Zhang, T.⁵ Zhang, W.F.⁶

26
- 43049094432
- K. B. Ruan X. M. Chen T. Liang G. H. Wu D. H. Bao J. Appl. Phys. 2008 103 086104
- (2008) J. Appl. Phys. , vol.103 , pp. 086104
- Ruan, K.B.¹ Chen, X.M.² Liang, T.³ Wu, G.H.⁴ Bao, D.H.⁵

27
- 81855166899
- M. T. Tsai J. M. Wu Y. F. Lu H. C. Chang Thin Solid Films 2011 520 1027
- (2011) Thin Solid Films , vol.520 , pp. 1027
- Tsai, M.T.¹ Wu, J.M.² Lu, Y.F.³ Chang, H.C.⁴

28
- 63049112698
- F. Wang X. G. Liu Chem. Soc. Rev. 2009 38 976
- (2009) Chem. Soc. Rev. , vol.38 , pp. 976
- Wang, F.¹ Liu, X.G.²

29
- 84862572946
- Z. L. Wang J. H. Hao H. L. W. Chan W. T. Wong K. L. Wong Small 2012 8 1863
- (2012) Small , vol.8 , pp. 1863
- Wang, Z.L.¹ Hao, J.H.² Chan, H.L.W.³ Wong, W.T.⁴ Wong, K.L.⁵

30
- 78650846034
- J. W. Wang J. H. Hao P. A. Tanner Opt. Lett. 2010 35 3922
- (2010) Opt. Lett. , vol.35 , pp. 3922
- Wang, J.W.¹ Hao, J.H.² Tanner, P.A.³

31
- 42649144470
- F. Wang X. G. Liu J. Am. Chem. Soc. 2008 130 5642
- (2008) J. Am. Chem. Soc. , vol.130 , pp. 5642
- Wang, F.¹ Liu, X.G.²

32
- 84863134319
- G. G. Li M. M. Shang D. L. Geng D. M. Yang C. Peng Z. Y. Cheng J. Lin CrystEngComm 2012 14 2100
- (2012) CrystEngComm , vol.14 , pp. 2100
- Li, G.G.¹ Shang, M.M.² Geng, D.L.³ Yang, D.M.⁴ Peng, C.⁵ Cheng, Z.Y.⁶ Lin, J.⁷

33
- 0035390836
- A. Polman Phys. B 2001 300 78
- (2001) Phys. B , vol.300 , pp. 78
- Polman, A.¹

34
- 77955361030
- Y. S. Liu D. T. Tu H. M. Zhu R. F. Li W. Q. Luo X. Y. Chen Adv. Mater. 2010 22 3266
- (2010) Adv. Mater. , vol.22 , pp. 3266
- Liu, Y.S.¹ Tu, D.T.² Zhu, H.M.³ Li, R.F.⁴ Luo, W.Q.⁵ Chen, X.Y.⁶

35
- 84872381082
- D. T. Tu Y. S. Liu H. M. Zhu L. Q. Liu R. F. Li X. Y. Chen Angew. Chem., Int. Ed. 2013 52 1128
- (2013) Angew. Chem., Int. Ed. , vol.52 , pp. 1128
- Tu, D.T.¹ Liu, Y.S.² Zhu, H.M.³ Liu, L.Q.⁴ Li, R.F.⁵ Chen, X.Y.⁶

36
- 3242710224
- K. Kömpe H. Borchert J. Storz A. Lobo S. Adam T. Möller M. Haase Angew. Chem., Int. Ed. 2003 42 5513
- (2003) Angew. Chem., Int. Ed. , vol.42 , pp. 5513
- Kömpe, K.¹ Borchert, H.² Storz, J.³ Lobo, A.⁴ Adam, S.⁵ Möller, T.⁶ Haase, M.⁷

37
- 66749161503
- V. Wood J. E. Halpert M. J. Panzer M. G. Bawendi V. Bulovic Nano Lett. 2009 9 2367
- (2009) Nano Lett. , vol.9 , pp. 2367
- Wood, V.¹ Halpert, J.E.² Panzer, M.J.³ Bawendi, M.G.⁴ Bulovic, V.⁵

38
- 84859149191
- Y. Zhang G. Y. Gao H. L. W. Chan J. Y. Dai Y. Wang J. H. Hao Adv. Mater. 2012 24 1729
- (2012) Adv. Mater. , vol.24 , pp. 1729
- Zhang, Y.¹ Gao, G.Y.² Chan, H.L.W.³ Dai, J.Y.⁴ Wang, Y.⁵ Hao, J.H.⁶

39
- 67650495713
- S. F. Zhou N. Jiang B. T. Wu J. H. Hao J. R. Qiu Adv. Funct. Mater. 2009 19 2081
- (2009) Adv. Funct. Mater. , vol.19 , pp. 2081
- Zhou, S.F.¹ Jiang, N.² Wu, B.T.³ Hao, J.H.⁴ Qiu, J.R.⁵

40
- 34147184460
- A. Shalav B. S. Richards M. A. Green Sol. Energy Mater. Sol. Cells 2007 91 829
- (2007) Sol. Energy Mater. Sol. Cells , vol.91 , pp. 829
- Shalav, A.¹ Richards, B.S.² Green, M.A.³

41
- 79960192707
- G. J. Ding F. Gao G. H. Wu D. H. Bao J. Appl. Phys. 2011 109 123101
- (2011) J. Appl. Phys. , vol.109 , pp. 123101
- Ding, G.J.¹ Gao, F.² Wu, G.H.³ Bao, D.H.⁴

42
- 79851479865
- Y. Zhang J. H. Hao C. L. Mak X. H. Wei Opt. Express 2011 19 1824
- (2011) Opt. Express , vol.19 , pp. 1824
- Zhang, Y.¹ Hao, J.H.² Mak, C.L.³ Wei, X.H.⁴

43
- 67650727578
- H. T. Wong H. L. W. Chan J. H. Hao Appl. Phys. Lett. 2009 95 022512
- (2009) Appl. Phys. Lett. , vol.95 , pp. 022512
- Wong, H.T.¹ Chan, H.L.W.² Hao, J.H.³

44
- 0000905861
- H. X. Zhang C. H. Kam Y. Zhou X. Q. Han S. Buddhudu Q. Xiang Y. L. Lam Y. C. Chan Appl. Phys. Lett. 2000 77 609
- (2000) Appl. Phys. Lett. , vol.77 , pp. 609
- Zhang, H.X.¹ Kam, C.H.² Zhou, Y.³ Han, X.Q.⁴ Buddhudu, S.⁵ Xiang, Q.⁶ Lam, Y.L.⁷ Chan, Y.C.⁸

45
- 28844468448
- T. Ohnishi M. Lippmaa T. Yamamoto S. Meguro H. Koinuma Appl. Phys. Lett. 2005 87 241919
- (2005) Appl. Phys. Lett. , vol.87 , pp. 241919
- Ohnishi, T.¹ Lippmaa, M.² Yamamoto, T.³ Meguro, S.⁴ Koinuma, H.⁵

46
- 0035914905
- S. D. Bu M. K. Lee C. B. Eom W. Tian X. Q. Pan Appl. Phys. Lett. 2001 79 3482
- (2001) Appl. Phys. Lett. , vol.79 , pp. 3482
- Bu, S.D.¹ Lee, M.K.² Eom, C.B.³ Tian, W.⁴ Pan, X.Q.⁵

47
- 4244101024
- R. A. McKee F. J. Walker M. F. Chisholm Phys. Rev. Lett. 1998 81 3014
- (1998) Phys. Rev. Lett. , vol.81 , pp. 3014
- McKee, R.A.¹ Walker, F.J.² Chisholm, M.F.³

48
- 43949116897
- Z. F. Liu Y. X. Li Thin Solid Films 2008 516 5557
- (2008) Thin Solid Films , vol.516 , pp. 5557
- Liu, Z.F.¹ Li, Y.X.²

49
- 1642475230
- C. H. Ahn K. M. Rabe J. M. Triscone Science 2004 303 488
- (2004) Science , vol.303 , pp. 488
- Ahn, C.H.¹ Rabe, K.M.² Triscone, J.M.³

50
- 79960237897
- J. H. Hao Y. Zhang X. H. Wei Angew. Chem., Int. Ed. 2011 50 6876
- (2011) Angew. Chem., Int. Ed. , vol.50 , pp. 6876
- Hao, J.H.¹ Zhang, Y.² Wei, X.H.³

51
- 0001162210
- A. L. Patterson Phys. Rev. 1939 56 978
- (1939) Phys. Rev. , vol.56 , pp. 978
- Patterson, A.L.¹

52
- 41849136195
- D. S. Zang K. Y. Ko H. K. Park D. H. Yoon Y. R. Do J. Electrochem. Soc. 2008 155 5 J111
- (2008) J. Electrochem. Soc. , vol.155 , Issue.5 , pp. 111
- Zang, D.S.¹ Ko, K.Y.² Park, H.K.³ Yoon, D.H.⁴ Do, Y.R.⁵

53
- 18344398083
- J. Lin D. U. Sänger M. Menning K. Bärner Thin Solid Films 2000 360 39
- (2000) Thin Solid Films , vol.360 , pp. 39
- Lin, J.¹ Sänger, D.U.² Menning, M.³ Bärner, K.⁴

54
- 0038297205
- J. H. Hao J. Gao M. Cocivera Appl. Phys. Lett. 2003 82 2778
- (2003) Appl. Phys. Lett. , vol.82 , pp. 2778
- Hao, J.H.¹ Gao, J.² Cocivera, M.³

55
- 4444298166
- J. H. Hao Z. D. Lou I. Renaud M. Cocivera Thin Solid Films 2004 467 182
- (2004) Thin Solid Films , vol.467 , pp. 182
- Hao, J.H.¹ Lou, Z.D.² Renaud, I.³ Cocivera, M.⁴

56
- 0035943823
- D. S. Lee A. J. Steckl Appl. Phys. Lett. 2001 79 1962
- (2001) Appl. Phys. Lett. , vol.79 , pp. 1962
- Lee, D.S.¹ Steckl, A.J.²

57
- 33846198724
- S. A. M. Lima M. R. Davolos W. G. Quirino C. Legnani M. Cremona Appl. Phys. Lett. 2007 90 023503
- (2007) Appl. Phys. Lett. , vol.90 , pp. 023503
- Lima, S.A.M.¹ Davolos, M.R.² Quirino, W.G.³ Legnani, C.⁴ Cremona, M.⁵

58
- 70349781902
- H. Takashima K. Shimada N. Miura T. Katsumata Y. Inaguma K. Ueda M. Itoh Adv. Mater. 2009 21 3699
- (2009) Adv. Mater. , vol.21 , pp. 3699
- Takashima, H.¹ Shimada, K.² Miura, N.³ Katsumata, T.⁴ Inaguma, Y.⁵ Ueda, K.⁶ Itoh, M.⁷

59
- 0000619425
- K. M. Wang B. R. Shi N. Cue Y. Y. Zhu R. F. Xiao F. Lu W. Li Y. G. Liu Appl. Phys. Lett. 1998 73 1020
- (1998) Appl. Phys. Lett. , vol.73 , pp. 1020
- Wang, K.M.¹ Shi, B.R.² Cue, N.³ Zhu, Y.Y.⁴ Xiao, R.F.⁵ Lu, F.⁶ Li, W.⁷ Liu, Y.G.⁸

60
- 18744400273
- O. P. Y. Moll J. Perriere E. Millon R. M. Defourneau D. Defourneau J. Appl. Phys. 2002 92 4885
- (2002) J. Appl. Phys. , vol.92 , pp. 4885
- Moll, O.P.Y.¹ Perriere, J.² Millon, E.³ Defourneau, R.M.⁴ Defourneau, D.⁵

61
- 70349777768
- H. A. Höppe Angew. Chem., Int. Ed. 2009 48 3572
- (2009) Angew. Chem., Int. Ed. , vol.48 , pp. 3572
- Höppe, H.A.¹

62
- 69249085282
- B. M. van der Ende L. Aarts A. Meijerink Adv. Mater. 2009 21 3073
- (2009) Adv. Mater. , vol.21 , pp. 3073
- Van Der Ende, B.M.¹ Aarts, L.² Meijerink, A.³

63
- 84876554571
- M. K. Lau J. H. Hao J. Nanomater. 2013 2013 587036
- (2013) J. Nanomater. , vol.2013 , pp. 587036
- Lau, M.K.¹ Hao, J.H.²

64
- 73849120255
- F. Gao G. H. Wu H. Zhou D. H. Bao J. Appl. Phys. 2009 106 126104
- (2009) J. Appl. Phys. , vol.106 , pp. 126104
- Gao, F.¹ Wu, G.H.² Zhou, H.³ Bao, D.H.⁴

65
- 79952147719
- F. Gao G. J. Ding H. Zhou G. H. Wu N. Qin D. H. Bao J. Appl. Phys. 2011 109 043106
- (2011) J. Appl. Phys. , vol.109 , pp. 043106
- Gao, F.¹ Ding, G.J.² Zhou, H.³ Wu, G.H.⁴ Qin, N.⁵ Bao, D.H.⁶

66
- 78649909382
- Z. L. Wang Nano Today 2010 5 540
- (2010) Nano Today , vol.5 , pp. 540
- Wang, Z.L.¹

67
- 79955988180
- S. S. Yi J. S. Bae B. K. Moon J. H. Jeong J. C. Park I. W. Kim Appl. Phys. Lett. 2002 81 3344
- (2002) Appl. Phys. Lett. , vol.81 , pp. 3344
- Yi, S.S.¹ Bae, J.S.² Moon, B.K.³ Jeong, J.H.⁴ Park, J.C.⁵ Kim, I.W.⁶

68
- 1242287940
- S. S. Yi J. S. Bae K. S. Shim J. H. Jeong J. C. Park P. H. Holloway Appl. Phys. Lett. 2004 84 353
- (2004) Appl. Phys. Lett. , vol.84 , pp. 353
- Yi, S.S.¹ Bae, J.S.² Shim, K.S.³ Jeong, J.H.⁴ Park, J.C.⁵ Holloway, P.H.⁶

69
- 84871713840
- S. B. Qian Y. Q. Ma Z. X. Dai G. H. Zheng D. Zou G. Li M. Z. Wu Mater. Res. Bull. 2013 48 521
- (2013) Mater. Res. Bull. , vol.48 , pp. 521
- Qian, S.B.¹ Ma, Y.Q.² Dai, Z.X.³ Zheng, G.H.⁴ Zou, D.⁵ Li, G.⁶ Wu, M.Z.⁷

70
- 33644933614
- D. Kan T. Terashima R. Kanda A. Masuno K. Tanaka S. Chu H. Kan A. Ishizumi Y. Kanemitsu Y. Shimakawa M. Takano Nat. Mater. 2005 4 816
- (2005) Nat. Mater. , vol.4 , pp. 816
- Kan, D.¹ Terashima, T.² Kanda, R.³ Masuno, A.⁴ Tanaka, K.⁵ Chu, S.⁶ Kan, H.⁷ Ishizumi, A.⁸ Kanemitsu, Y.⁹ Shimakawa, Y.¹⁰ Takano, M.¹¹

71
- 61349095275
- W. Wang C. G. Jiang M. R. shen L. Fang F. G. Zheng X. L. Wu J. C. Shen Appl. Phys. Lett. 2009 94 081904
- (2009) Appl. Phys. Lett. , vol.94 , pp. 081904
- Wang, W.¹ Jiang, C.G.² Shen, M.R.³ Fang, L.⁴ Zheng, F.G.⁵ Wu, X.L.⁶ Shen, J.C.⁷

72
- 0034840350
- M. B. Korzenski P. Lecoeur B. Mercey B. Raveau Chem. Mater. 2001 13 1545
- (2001) Chem. Mater. , vol.13 , pp. 1545
- Korzenski, M.B.¹ Lecoeur, P.² Mercey, B.³ Raveau, B.⁴

73
- 51149220122
- I. Schnitzer E. Yablonovitch C. Caneau T. J. Gmitter A. Scherer Appl. Phys. Lett. 1993 63 2174
- (1993) Appl. Phys. Lett. , vol.63 , pp. 2174
- Schnitzer, I.¹ Yablonovitch, E.² Caneau, C.³ Gmitter, T.J.⁴ Scherer, A.⁵

74
- 33845449539
- S. Möller S. R. Forrest J. Appl. Phys. 2002 91 3324
- (2002) J. Appl. Phys. , vol.91 , pp. 3324
- Möller, S.¹ Forrest, S.R.²

75
- 42149193162
- K. Y. Ko Y. K. Lee H. K. Park Y. C. Kim Y. R. Do Opt. Express 2008 16 5689
- (2008) Opt. Express , vol.16 , pp. 5689
- Ko, K.Y.¹ Lee, Y.K.² Park, H.K.³ Kim, Y.C.⁴ Do, Y.R.⁵

76
- 81855228675
- Z. Wu X. L. Tian Y. M. Jia X. J. Tian A. X. Xie Y. H. Zhang H. S. Luo Appl. Phys. Lett. 2011 99 212503
- (2011) Appl. Phys. Lett. , vol.99 , pp. 212503
- Wu, Z.¹ Tian, X.L.² Jia, Y.M.³ Tian, X.J.⁴ Xie, A.X.⁵ Zhang, Y.H.⁶ Luo, H.S.⁷

* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.