-
1
-
-
53649090065
-
-
0003-6951,. 10.1063/1.2998582
-
Z. L. Wang, H. L. W. Chan, H. L. Li, and J. H. Hao, Appl. Phys. Lett. 0003-6951 93, 141106 (2008). 10.1063/1.2998582
-
(2008)
Appl. Phys. Lett.
, vol.93
, pp. 141106
-
-
Wang, Z.L.1
Chan, H.L.W.2
Li, H.L.3
Hao, J.H.4
-
2
-
-
58149293972
-
-
1530-6984,. 10.1021/nl802223f
-
M. Nyk, R. Kumar, T. Y. Ohulchanskyy, E. J. Bergey, and P. N. Prasad, Nano Lett. 1530-6984 8, 3834 (2008). 10.1021/nl802223f
-
(2008)
Nano Lett.
, vol.8
, pp. 3834
-
-
Nyk, M.1
Kumar, R.2
Ohulchanskyy, T.Y.3
Bergey, E.J.4
Prasad, P.N.5
-
3
-
-
57949109008
-
-
1932-7447.
-
D. Q. Chen, Y. S. Wang, Y. L. Yu, and P. Huang, J. Phys. Chem. C 1932-7447 112, 18943 (2008).
-
(2008)
J. Phys. Chem. C
, vol.112
, pp. 18943
-
-
Chen, D.Q.1
Wang, Y.S.2
Yu, Y.L.3
Huang, P.4
-
4
-
-
41449117237
-
-
0002-7863,. 10.1021/ja076151k
-
Z. G. Chen, H. L. Chen, H. Hu, M. X. Yu, F. Y. Li, Q. Zhang, Z. G. Zhou, T. Yi, and C. H. Huang, J. Am. Chem. Soc. 0002-7863 130, 3023 (2008). 10.1021/ja076151k
-
(2008)
J. Am. Chem. Soc.
, vol.130
, pp. 3023
-
-
Chen, Z.G.1
Chen, H.L.2
Hu, H.3
Yu, M.X.4
Li, F.Y.5
Zhang, Q.6
Zhou, Z.G.7
Yi, T.8
Huang, C.H.9
-
5
-
-
0033613824
-
-
0036-8075,. 10.1126/science.283.5402.663
-
R. T. Wegh, H. Donker, K. D. Oskam, and A. Meijerink, Science 0036-8075 283, 663 (1999). 10.1126/science.283.5402.663
-
(1999)
Science
, vol.283
, pp. 663
-
-
Wegh, R.T.1
Donker, H.2
Oskam, K.D.3
Meijerink, A.4
-
6
-
-
47749097156
-
-
0897-4756,. 10.1021/cm800279h
-
C. X. Li, J. Yang, P. P. Yang, H. Z. Lian, and J. Lin, Chem. Mater. 0897-4756 20, 4317 (2008). 10.1021/cm800279h
-
(2008)
Chem. Mater.
, vol.20
, pp. 4317
-
-
Li, C.X.1
Yang, J.2
Yang, P.P.3
Lian, H.Z.4
Lin, J.5
-
7
-
-
33745604293
-
-
0897-4756,. 10.1021/cm052299w
-
F. Evanics, P. R. Diamente, F. C. J. M. van Veggel, G. J. Stanisz, and R. S. Prosser, Chem. Mater. 0897-4756 18, 2499 (2006). 10.1021/cm052299w
-
(2006)
Chem. Mater.
, vol.18
, pp. 2499
-
-
Evanics, F.1
Diamente, P.R.2
Van Veggel, F.C.J.M.3
Stanisz, G.J.4
Prosser, R.S.5
-
8
-
-
67650710047
-
-
JCPDS Card No. 12-0788.
-
JCPDS Card No. 12-0788.
-
-
-
-
9
-
-
33644937666
-
-
1536-125X,. 10.1109/TNANO.2006.869670
-
X. P. Fan, D. B. Pi, F. Wang, J. R. Qiu, and M. Q. Wang, IEEE Trans. Nanotechnol. 1536-125X 5, 123 (2006). 10.1109/TNANO.2006.869670
-
(2006)
IEEE Trans. Nanotechnol.
, vol.5
, pp. 123
-
-
Fan, X.P.1
Pi, D.B.2
Wang, F.3
Qiu, J.R.4
Wang, M.Q.5
-
10
-
-
0035890736
-
-
0021-8979,. 10.1063/1.1412567
-
J. H. Hao, S. A. Studenikin, and M. Cocivera, J. Appl. Phys. 0021-8979 90, 5064 (2001). 10.1063/1.1412567
-
(2001)
J. Appl. Phys.
, vol.90
, pp. 5064
-
-
Hao, J.H.1
Studenikin, S.A.2
Cocivera, M.3
-
11
-
-
34249849132
-
-
1533-4880.
-
Z. L. Wang, G. Z. Li, Z. W. Quan, D. Y. Kong, X. M. Liu, M. Yu, and J. Lin, J. Nanosci. Nanotechnol. 1533-4880 7, 602 (2007).
-
(2007)
J. Nanosci. Nanotechnol.
, vol.7
, pp. 602
-
-
Wang, Z.L.1
Li, G.Z.2
Quan, Z.W.3
Kong, D.Y.4
Liu, X.M.5
Yu, M.6
Lin, J.7
-
14
-
-
44649190388
-
-
0021-8979,. 10.1063/1.2931024
-
L. G. Jacobsohn, B. L. Bennett, R. E. Muenchausen, S. C. Tornga, J. D. Thompson, O. Ugurlu, D. W. Cooke, and A. L. L. Sharma, J. Appl. Phys. 0021-8979 103, 104303 (2008). 10.1063/1.2931024
-
(2008)
J. Appl. Phys.
, vol.103
, pp. 104303
-
-
Jacobsohn, L.G.1
Bennett, B.L.2
Muenchausen, R.E.3
Tornga, S.C.4
Thompson, J.D.5
Ugurlu, O.6
Cooke, D.W.7
Sharma, A.L.L.8
-
15
-
-
1442348876
-
-
0003-2700,. 10.1021/ac034920m
-
H. H. Yang, S. Q. Zhang, X. L. Chen, Z. X. Zhuang, J. G. Xu, and X. R. Wang, Anal. Chem. 0003-2700 76, 1316 (2004). 10.1021/ac034920m
-
(2004)
Anal. Chem.
, vol.76
, pp. 1316
-
-
Yang, H.H.1
Zhang, S.Q.2
Chen, X.L.3
Zhuang, Z.X.4
Xu, J.G.5
Wang, X.R.6
-
16
-
-
2042505688
-
-
0959-9428,. 10.1039/b315103d
-
H. C. Lu, G. S. Yi, S. Y. Zhao, D. P. Chen, L. H. Guo, and J. Cheng, J. Mater. Chem. 0959-9428 14, 1336 (2004). 10.1039/b315103d
-
(2004)
J. Mater. Chem.
, vol.14
, pp. 1336
-
-
Lu, H.C.1
Yi, G.S.2
Zhao, S.Y.3
Chen, D.P.4
Guo, L.H.5
Cheng, J.6
-
17
-
-
33947502537
-
-
0957-4484,. 10.1088/0957-4484/18/5/055102
-
D. Dosev, M. Nichkova, R. K. Dumas, S. J. Gee, B. D. Hammock, K. Liu, and I. M. Kennedy, Nanotechnology 0957-4484 18, 055102 (2007). 10.1088/0957-4484/ 18/5/055102
-
(2007)
Nanotechnology
, vol.18
, pp. 055102
-
-
Dosev, D.1
Nichkova, M.2
Dumas, R.K.3
Gee, S.J.4
Hammock, B.D.5
Liu, K.6
Kennedy, I.M.7
|