Study of the electrodeposition of Cu2O thin films from DMSO solution

Journal of the Electrochemical Society

Volumn 160, Issue 1, 2013, Pages

  Riveros, G ^a   Garmendia, A ^a   Ramirez D ^a   Tejos, M ^a   Grez, P ^b   Gomez H ^b   Dalchiele, E A ^c  

^a UNIVERSIDAD DE VALPARAÍSO   (Chile)

^b PONTIFICIA UNIVERSIDAD CATÓLICA DE VALPARAÍSO   (Chile)

^c INSTITUTO DE FÍSICA   (Uruguay)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

DOPING LEVELS; GLOBULAR MORPHOLOGY; OPERATION TEMPERATURE; P TYPE SEMICONDUCTOR;

CYCLIC VOLTAMMETRY; ELECTRODEPOSITION; THIN FILMS;

SEMICONDUCTOR DOPING;

EID: 84875966820     PISSN: 00134651     EISSN: 19457111     Source Type: Journal    
DOI: 10.1149/2.029302jes     Document Type: Article

References (42)

1. A. D. Compaan, Sol. Energy Mater. Sol. Cells, 90, 2170 (2006).
2. A. Bosio, N. Romeo, S. Mazzamuto, and V. Canevari, Prog. Cryst. Growth Charact. Mater., 52, 247 (2006).
3. C. G. Granqvist, Sol. Energy Mater. Sol. Cells, 91, 1529 (2007).
4. A. N. Banerjee and K. K. Chattopadhyay, Prog. Cryst. Growth Charact. Mater., 50, 52 (2005).
5. H. Kawazoe, M. Yasukawa, H. Hyodo, M.Kurita, H.Yanagi, and H.Hosono, Nature, 389, 939 (1997).
6. J. Tate, M. K. Jayaraj, A. D. Draeseke, T. Ulbrich, A. W. Sleight, K. A. Vanaja, R. Nagarajan, J. F. Wager, and R. L. Hoffman, Thin Solid Films, 411, 119 (2002).
7. G. Thomas, Nature, 389, 907 (1997).
8. M. Nolan, Thin Solid Films, 516, 8130 (2008).
9. M. Tapiero, J. P. Zielinger, and C. Noguet, Phys. Status Solidi A, 12, 517 (1972).
10. C. Noguet, M. Tapiero, and J. P. Zielinger, Phys. Status Solidi A, 24, 565 (1974).
11. W. Wang, D. Wu, Q. Zhang, L. Wang, and M. Tao, J. Appl. Phys., 107, 123717 (2010).
12. T. Mahalingam, J. S. P. Chitra, J. P. Chu, S. Velumani, and P. J. Sebastian, Sol. Energy Mater. Sol. Cells, 88, 209 (2005).
13. W. Septina, S. Ikeda, M. A. Khan, T. Hirai, T. Harada, M. Matsumura, and L. M. Peter, Electrochim. Acta, 56, 4882 (2011).
14. T. D. Golden, M. G. Shumsky, Y. C. Zhou, R. A. VanderWerf, R. A. VanLeeuwen, and J. A. Switzer, Chem. Mater., 8, 2499 (1996).
15. P. E. de Jongh, D. Vanmaekelbergh, and J. J. Kelly, Chem. Mater., 11, 3512 (1999).
16. V. Georgieva and M. Ristov, Sol. Energy Mater. Sol. Cells, 73, 67 (2002).
17. Z. Xi, H. Zeng, N. Liao, L. Shi, H. Huang, S. Guo, N. Wang, D. Jin, and L. Wang, Thin Solid Films, 520, 2708 (2012).
18. F. Sun, Y. P. Guo, Y. M. Tian, J. D. Zhang, X. T. Lv, M. G. Li, Y. H. Zheng, and Z. C. Wang, J. Cryst. Growth, 310, 318 (2008).
19. M. J. Siegfried and K. S. Choi, Adv. Mater., 16, 1743 (2004).
20. J. H. Zhong, G. R. Li, Z. L. Wang, Y. N. Ou, and Y. X. Tong, Inorg. Chem., 50, 757 (2011).
21. Y. C. Mao, J. T. He, X. F. Sun, W. Li, X. H. Lu, J. Y. Gan, Z. Q. Liu, L. Gong, J. Chen, P. Liu, and Y. X. Tong, Electrochim. Acta, 62, 1 (2012).
22. Y. C. Zhai, H. Q. Fan, Q. Li, and W. Yan, Appl. Surf. Sci., 258, 3232 (2012).
23. D. Gal and G. Hodes, J. Electrochem. Soc., 147, 1825 (2000).
24. R. Henriquez, H. Gomez, G. Riveros, J. F. Guillemoles, M. Froment, and D. Lincot, Electrochem Solid-State Lett., 7, C75 (2004).
25. R. Henriquez, H. Gomez, G. Riveros, J. F. Guillemoles, A. Froment, and A. Lincot, J. Phys. Chem. B, 108, 13191 (2004).
26. D. Gal, G. Hodes, D. Hariskos, D. Braunger, and H. W. Schock, Appl. Phys. Lett., 73, 3135 (1998).
27. X. S. Peng, G. W. Meng, J. Zhang, X. R. Wang, L. X. Zhao, Y. W. Wang, and L. D. Zhang, Mater. Res. Bull., 37, 1369 (2002).
28. D. S. Xu, Y. J. Xu, D. P. Chen, G. L. Guo, L. L. Gui, and Y. Q. Tang, Chem. Phys. Lett., 325, 340 (2000).
29. D. Gal, G. Hodes, D. Lincot, and H. W. Schock, Thin Solid Films, 361, 79 (2000).
30. R. Jayakrishnan and G. Hodes, Thin Solid Films, 440, 19 (2003).
31. Q. T. Wang, G. Z. Wang, B. Xu, J. S. Jie, X. H. Han, G. P. Li, Q. S. Li, and J. G. Hou, Mater. Lett., 59, 1378 (2005).
32. M. Tortosa, M. Mollar, and B. Mari, J. Cryst. Growth, 304, 97 (2007).
33. K. E. R. Brown and K. S. Choi, Chem. Commun., 3311 (2006).
34. A. Foll, M. Le Démezet, and J. Courtot-Coupez, J. Electroanal. Chem. Interfacial Electrochem., 35, 41 (1972).
35. M. E. Ortiz, L. J. Nunez-Vergara, and J. A. Squella, J. Electroanal. Chem., 519, 46 (2002).
36. H. Gomez, G. Riveros, D. Ramirez, R. Henriquez, R. Schrebler, R. Marotti, and E. Dalchiele, J. Solid State Electrochem., 16, 197 (2012).
37. B. D. Cullity, Elements of X-ray diffraction, p. xii, Addison-Wesley Pub. Co., Reading, Mass. (1978).
38. M. Sreemany and S. Sen, Mater. Chem. Phys., 83, 169 (2004).
39. B. P. Rai, Sol. Cells, 25, 265 (1988).
40. F. Caballero-Briones, J. M. Artes, I. Diez-Perez, P. Gorostiza, and F. Sanz, J. Phys. Chem. C, 113, 1028 (2009).
41. A. Paracchino, J. C. Brauer, J. E. Moser, E. Thimsen, and M. Graetzel, J. Phys. Chem. C, 116, 7341 (2012).
42. Y. M. Lu, C. Y. Chen, and M. H. Lin, Thin Solid Films, 480, 482 (2005).