Plasma-liquid interactions at atmospheric pressure for nanomaterials synthesis and surface engineering

Plasma Processes and Polymers

Volumn 9, Issue 11-12, 2012, Pages 1074-1085

  Mariotti, Davide ^a   Patel, Jenish ^a   Švrček, Vladimir ^b   Maguire, Paul ^a  

^a UNIVERSITY OF ULSTER   (United Kingdom)

^b NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY AIST   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

FUNCTIONAL PROPERTIES; FUNCTIONALIZATIONS; LIQUID CHEMISTRY; MICROPLASMA DEVICES; NANO-MANUFACTURING; NON EQUILIBRIUM; PLASMA-INDUCED; SCIENTIFIC STUDIES; SOLUTION CHEMISTRY; SURFACE ENGINEERING;

ATMOSPHERIC PRESSURE; NANOSTRUCTURED MATERIALS;

LIQUIDS;

EID: 84872289148     PISSN: 16128850     EISSN: 16128869     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/ppap.201200007     Document Type: Article

References (75)

1. D. L. Bayliss, J. L. Walsh, G. Shama, F. Iza, M. G. Kong, New. J. Phys. 2009, 11, 115024.
2. D. Mariotti, R. M. Sankaran, J. Phys. D Appl. Phys. 2010, 43, 323001.
3. T. Belmonte, G. Arnoult, G. Henrion, T. Gries, J. Phys. D Appl. Phys. 2011, 44, 363001.
4. T. Nozaki, A. Gutsol, J. Phys. D Appl. Phys. 2011, 44, 270301.
5. K. Ostrikov, J. Phys. D Appl. Phys. 2011, 44, 174003.
6. K. Ostrikov, U. Cvelbar, A. B. Murphy, J. Phys. D Appl. Phys. 2011, 44, 174001.
7. D. Mariotti, R. M. Sankaran, J. Phys. D Appl. Phys. 2011, 44, 174023.
8. A. von Keudell, et al., Plasma Processes and Polymers, published on-line.
9. T. Desmet, R. Morent, N. De Geyter, C. Leys, E. Schacht, P. Dubruel, Biomacromolecules 2009, 10, 2351.
10. F. Fanelli, G. Di Renzo, F. Fracassi, R. D'Agostino, Plasma Process. Polym. 2009, 6, S503.
11. G. Da Ponte, E. Sardella, F. Fanelli, R. D'Agostino, P. Favia, Eur. Phys. J. Appl. Phys. 2011, 56, 24023.
12. D. Pappas, J. Vac. Sci. Technol. A 2011, 29, 020801.
13. F. Fanelli, R. D'Agostino, F. Fracassi, Plasma Process. Polym. 2011, 8, 932.
14. F. Iza, G. J. Kim, S. M. Lee, J. K. Lee, J. L. Walsh, Y. T. Zhang, M. G. Kong, Plasma Process. Polym. 2008, 5, 322.
15. W.-H. Chiang, R. M. Sankaran, Nat. Mater. 2009, 8, 882.
16. J. G. Eden, S.-J. Park, C. M. Herring, J. M. Bulson, J. Phys. D Appl. Phys. 2011, 44, 224011.
17. D. Mariotti, A. C. Bose, K. Ostrikov, IEEE Trans. Plasma Sci. 2009, 37, 1027.
18. I. Levchenko, K. Ostrikov, D. Mariotti, V. Švrček, Carbon 2009, 47, 2379.
19. A. J. Wagner, D. Mariotti, K. J. Yurchenko, T. K. Das, Phys. Rev. E 2009, 80, 065401 (R).
20. Q. Y. Nie, Z. Cao, C. S. Ren, D. Z. Wang, M. G. Kong, New. J. Phys. 2009, 11, 115015.
21. K. Tachibana, Pure Appl. Chem. 2010, 82, 1189.
22. P. Bruggeman, C. Leys, J. Phys. D Appl. Phys. 2009, 42, 053001.
23. D. O'Connell, L. J. Cox, W. B. Hyland, S. J. McMahon, S. Reuter, W. G. Graham, T. Gans, F. J. Currell, Appl. Phys. Lett. 2011, 98, 043701.
24. N. Skoro, D. Maric, G. Malovic, W. G. Graham, Z. Lj, Petrovic, Phys. Rev. E 2011, 84, 055401 (R).
25. S. Schneider, J.-W. Lackmann, D. Ellerweg, B. Denis, F. Narberhaus, J. E. Bandow, J. Benedikt, Plasma Process. Polym., published on-line.
26. K. Baba, T. Kaneko, R. Hatakeyama, Appl. Phys. Exp. 2009, 2, 035006.
27. A. R. Denaro, A. Hickling, J. Electrochem. Soc. 1958, 105, 265.
28. A. Hickling, M. D. Ingram, J. Electroanal. Chem. 1964, 8, 65.
29. K. Furuya, Y. Hirowatari, T. Ishioka, A. Harata, Chem. Lett. 2007, 36, 1088.
30. V. Švrček, D. Mariotti, M. Kondo, Appl. Phys. Lett. 2010, 97, 161502.
31. J. McKenna, J. Patel, S. Mitra, N. Soin, V. Švrček, P. Maguire, D. Mariotti, Eur. Phys. J. Appl. Phys. 2011, 56, 24020.
32. S. W. Lee, D. Liang, X. P. A. Gao, R. M. Sankaran, Adv. Funct. Mater. 2011, 21, 2155.
33. D. Mariotti, V. Švrček, J. W. J. Hamilton, M. Schmidt, M. Kondo, Adv. Funct. Mater. published on-line.
34. F.-C. Chang, C. Richmonds, R. M. Sankarana, J. Vac. Sci. Technol. A 2010, 28, L5.
35. S. Bhattacharyya, D. Staack, E. A. Vitol, R. Singhal, A. Fridman, G. Friedman, Y. Gogotsi, Adv. Mater. 2009, 21, 4039.
36. M. G. Kong, M. Keidar, K. Ostrikov, J. Phys. D Appl. Phys. 2011, 44, 174018.
37. S. Cheruthazhekatt, M. Cernak, P. Slavicek, J. Havel, J. Appl. Biomed. 2010, 8, 55.
38. G. B. McCombs, M. L. Darby, Int. J. Dent. Hyg. 2010, 8, 10.
39. H. V. Lee, G. Y. Park, Y. S. Seo, Y. H. Im, S. B. Shim, H. J. Lee, J. Phys. D Appl. Phys. 2011, 44, 053001.
40. B. C. Ibanescu, O. May, A. Monney, M. Allan, Phys. Chem. Chem. Phys. 2007, 9, 3163.
41. E. Krishnakumar, V. S. Prabhudesai, N. B. Ram, J. Phys. Conf. Ser. 2007, 88, 012073.
42. B. Abel, U. Buck, A. L. Sobolewski, W. Domcke, Phys. Chem. Chem. Phys. 2012, 14, 22.
43. K. R. Siefermann, Y. Liu, E. Lugovoy, O. Link, M. Faubel, U. Buck, B. Winter, B. Abel, Nat. Chem. 2010, 2, 274.
44. T. Horioa, H. Shena, S. Adachia, T. Suzuki, Chem. Phys. Lett. 2012, 535, 12.
45. F. Buchner, T. Schultz, A. Lübcke, Phys. Chem. Chem. Phys. 2012, 14, 5837.
46. J. Patel, C. P. Kelsey, L. Němcová, W. G. Graham, D. Mariotti, 30th International Conference on Phenomena in Ionized Gases, 28 Aug-2 Sep. 2011, Belfast, UK.
47. G. Peng, U. Tisch, O. Adams, M. Hakim, N. Shehada, Y. Y. Broza, S. Billan, R. Abdah-Bortnyak, A. Kuten, H. Haick, Nat. Nanotechnol. 2009, 4, 669.
48. G. von Maltzahn, J.-H. Park, K. Y. Lin, N. Singh, C. Schwöppe, R. Mesters, W. E. Berdel, E. Ruoslahti, M. J. Sailor, S. N. Bhatia, Nat. Mater. 2011, 10, 545.
49. D.-K. Lim, K.-S. Jeon, J.-H. Hwang, H. Kim, S. Kwon, Y. D. Suh, J.-M. Nam, Nat. Nanotechnol. 2011, 6, 452.
50. D. D. S. Fung, L. Qiao, W. C. H. Choy, C. Wang, W. E. I. Sha, F. Xie, S. He, J. Mater. Chem. 2011, 21, 16349.
51. F.-C. Chang, C. Richmonds, R. M. Sankaran, J. Vac. Sci. Technol. A 2010, 28, L5.
52. H. Furusho, K. Kitano, S. Hamaguchi, Y. Nagasaki, Chem. Mater. 2009, 21, 3526.
53. S. Link, M. A. El-Sayed, J. Phys. Chem. B 1999, 103, 8410.
54. M. A. Garcia, J. Phys. D Appl. Phys. 2011, 44, 283001.
55. M. Grzelczak, J. Pérez-Juste, P. Mulvaney, L. M. Liz-Marzán, Chem. Soc. Rev. 2008, 37, 1783.
56. Q. Yuanab, X. Wang, Nanoscale 2010, 2, 2328.
57. V. Kochergin, L. Neely, C.-Y. Jao, H. D. Robinson, Appl. Phys. Lett. 2011, 98, 133305.
58. M. Li, S. Johnson, H. Guo, E. Dujardin, S. Mann, Adv. Funct. Mater. 2011, 21, 851.
59. J.-K. Lung, J.-C. Huang, D.-C. Tien, C.-Y. Liao, K.-H. Tseng, T.-T. Tsung, W.-S. Kao, T.-H. Tsai, C.-S. Jwo, H.-M. Lin, L. Stobinski, J. Alloys Compd. 2007, 434-435, 655.
60. H. Adaniya, B. Rudek, T. Osipov, D. J. Haxton, T. Weber, T. N. Rescigno, C. W. McCurdy, A. Belkacem, Phys. Rev. Lett. 2009, 103, 233201.
61. N. B. Ram, V. S. Prabhudesai, P. Rawat, G. Aravind, E. Krishnakumar, J. Phys. Conf. Ser. 2008, 115, 012006.
62. B. H. Milosavljevic, O. I. Micic, J. Phys. Chem. 1978, 82, 1359.
63. A. A. Joshi, B. R. Locke, P. Arce, W. C. Finney, J. Hazard. Mater. 1995, 41, 3.
64. M. J. Kirkpatrick, B. R. Locke, Ind. Eng. Chem. Res. 2006, 45, 2138.
65. M. Sahni, B. R. Locke, Ind. Eng. Chem. Res. 2006, 45, 5819.
66. S. Kanazawa, H. Kawano, S. Watanabe, T. Furuki, S. Akamine, R. Ichiki, T. Ohkubo, M. Kocik, J. Mizeraczyk, Plasma Sources Sci. Technol. 2011, 20, 034010.
67. V. Švrček, T. Yamanari, D. Mariotti, K. Matsubara, M. Kondo, Appl. Phys. Lett. 2012, 100, 223904.
68. V. Švrček, D. Mariotti, M. Kondo, Opt. Exp. 2009, 17, 520.
69. M. W. Wolkin, J. Jorne, P. M. Fauchet, G. Allan, C. Delerue, Phys. Rev. Lett. 1999, 82, 197.
70. D. Timmerman, I. Izeddin, P. Stallinga, I. N. Yassievich, T. Gregorkiewicz, Nat. Photon. 2008, 21, 105.
71. W. D. A. M. de Boer, D. Timmerman, D. Dohnalová, I. N. Yassievich, H. Zhang, W. J. Buma, T. Gregorkiewicz, Nat. Nanotechnol. 2010, 5, 878.
72. M. C. Beard, K. P. Knutsen, P. Yu, J. M. Luther, Q. Song, W. K. Metzger, R. J. Ellingson, A. J. Nozik, Nano Lett. 2007, 8, 2506.
73. C.-Y. Liu, Z. Holman, U. Kortshagen, Nano Lett. 2009, 9, 449.
74. V. Švrcek, A. Slaoui, J.-C. Muller, J. Appl. Phys. 2004, 95, 3158.
75. V. Švrcek, D. Mariotti, T. Yamanari, K. Matsubara, M. Kondo, Jpn J. Appl. Phys. (in press).