Stabilization of [Ru(bpy)2(4,4′-(PO3H 2)bpy)]2+ on mesoporous TiO2 with atomic layer deposition of Al2O3

Chemistry of Materials

Volumn 25, Issue 1, 2013, Pages 3-5

  Hanson, Kenneth ^a   Losego, Mark D ^b   Kalanyan, Bercì ^b   Ashford, Dennis L ^a   Parsons, Gregory N ^b   Meyer, Thomas J ^a  

^a University of North Carolina at Chapel Hill   (United States)

^b North Carolina State University   (United States)

Author keywords

Al2O3; atomic layer deposition (ALD); dye sensitized; Stability; TiO2

Indexed keywords

DYE SENSITIZED; ELECTRON TRANSFER RATES; FUNCTIONALIZED; INTERFACIAL ELECTRON TRANSFER DYNAMICS; MESOPOROUS TIO; NANOCRYSTALLINE TIO; OH GROUP; PHOTO-STABILITY; RU(BPY); TIO;

ALUMINUM; CHROMOPHORES; CONVERGENCE OF NUMERICAL METHODS; DESORPTION; ELECTRON TRANSITIONS; PHOTOEXCITATION; PHOTOLYSIS; TITANIUM DIOXIDE;

ATOMIC LAYER DEPOSITION;

EID: 84872155982     PISSN: 08974756     EISSN: 15205002     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cm303172w     Document Type: Conference Paper

References (15)

1. Hagfeldt, A.; Boschloo, G.; Sun, L.; Kloo, L.; Pettersson, H. Chem. Rev. 2010, 110, 6595
2. Hanson, K.; Brennaman, M. K.; Luo, H.; Glasson, C. R. K.; Concepcion, J. J.; Song, W.; Meyer, T. J. ACS Appl. Mater. Interfaces 2012, 4, 1462
3. Hanson, K.; Brennaman, M. K.; Ito, A.; Luo, H.; Song, W.; Parker, K. A.; Ghosh, R.; Norris, M. R.; Glasson, C. R. K.; Concepcion, J. J.; Lopez, R.; Meyer, T. J. J. Phys. Chem. C 2012, 116, 14837
4. Peng, Q.; Lewis, J. S.; Hoertz, P. G.; Glass, J. T.; Parsons, G. N. J. Vac. Sci. Technol., A 2012, 30, 010803
5. Jur, J. S.; Parsons, G. N. ACS Appl. Mater. Interfaces 2011, 3, 299
6. Parsons, G. N.; George, S. M.; Knez, M. MRS Bull. 2011, 36, 865
7. Lin, C.; Tsai, F.-Y.; Lee, M.-H.; Lee, C.-H.; Tien, T.-C.; Wang, L.-P.; Tsai, S.-Y. J. Mater. Chem. 2009, 19, 2999
8. Hamann, T. W.; Farha, O. K.; Hupp, J. T. J. Phys. Chem. C 2008, 112, 19756
9. Antila, L. J.; Heikkilä, M. J.; Mäkinen, V.; Humalamäki, N.; Laitinen, M.; Linko, V.; Jalkanen, P.; Toppari, J.; Aumanen, V.; Kemell, M.; Myllyperkiö, P.; Honkala, K.; Häkkinen, H.; Leskelä, M.; Korppi-Tommola, J. E. I. J. Phys. Chem. C 2011, 115, 16720
10. Son, H.-J.; Wang, X.; Prasittichai, C.; Jeong, N. C.; Aaltonen, T.; Gordon, R. G.; Hupp, J. T. J. Am. Chem. Soc. 2012, 134, 9537
11. Prasittichai, C.; Hupp, J. T. J. Phys. Chem. Lett. 2010, 1, 1611
12. Goldstein, D. N.; McCormick, J. A.; George, S. M. J. Phys. Chem. C 2008, 112, 19530
13. Hanson, K.; Torelli, D. A.; Vannucci, A. K.; Brennaman, M. K.; Luo, H.; Alibabaei, L.; Song, W.; Ashford, D. L.; Norris, M. R.; Glasson, C. R. K.; Concepcion, J. J.; Meyer, T. J. Angew. Chem., Int. Ed. 2012, 51, 12782
14. Trammell, S. A.; Meyer, T. J. J. Phys. Chem. B 1999, 103, 104
15. Antila, L. J.; Heikkilä, M. J.; Aumanen, V.; Kemell, M.; Myllyperkiö, P.; Leskelä, M.; Korppi-Tommola, J. E. I. J. Phys. Chem. Lett. 2009, 1, 536