Impact of nitrogen doping on electrical conduction in anatase TiO 2 thin films

Journal of Physical Chemistry C

Volumn 116, Issue 37, 2012, Pages 19625-19629

  Yu, Y P ^a,b   Liu, W ^c   Wu, S X ^a   Li, S W ^a  

^a SUN YAT SEN UNIVERSITY   (China)

^b SHANTOU UNIVERSITY   (China)

^c SHENZHEN UNIVERSITY   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ANATASE TIO; BAND CONDUCTION; DOPING LEVELS; ELECTRICAL CONDUCTION; ELECTRICAL MEASUREMENT; HOPPING CONDUCTION; NITROGEN-DOPING; P-TYPE; P-TYPE CONDUCTION; SELF-COMPENSATION EFFECTS; STRUCTURAL CHARACTER; STRUCTURAL CHARACTERIZATION; TRANSPORT BEHAVIOR; X RAY PHOTOEMISSION SPECTROSCOPY;

PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY; THIN FILMS; TITANIUM DIOXIDE; X RAY DIFFRACTION;

SEMICONDUCTOR DOPING;

EID: 84866658735     PISSN: 19327447     EISSN: 19327455     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp300024n     Document Type: Article

References (53)

1. Asahi, R.; Morikawa, T.; Ohwaki, T.; Aoki, K.; Taga, Y. Science 2001, 293, 269-271
2. Varley, J. B.; Janotti, A.; Van de Walle, C. G. Adv. Mater. 2011, 23, 2343-2347
3. Shevlin, S. A.; Woodley, S. M. J. Phys. Chem. C 2010, 114, 17333-17343
4. Katayama, M.; Ikesaka, S.; Kuwano, J.; Koinuma, H.; Matsumoto, Y. Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 132107
5. Takahashi, K. S.; Hwang, H. Y. Appl. Phys. Lett. 2008, 93, 082112
6. Di Valentin, C.; Finazzi, E.; Pacchioni, G.; Selloni, A.; Livraghi, S.; Paganini, M. C.; Giamello, E. Chem. Phys. 2007, 339, 44-56
7. Harb, M.; Sautet, P.; Raybaud, P. J. Phys. Chem. C 2011, 115, 19394-19404
8. Zhao, D.; Huang, X.; Tian, B.; Zhou, S.; Li, Y.; Du, Z. Appl. Phys. Lett. 2011, 98, 162107
9. Gao, H.; Zhou, J.; Dai, D.; Qu, Y. Chem. Eng. Technol. 2009, 32, 867-872
10. Rumaiz, A. K.; Woicik, J. C.; Cockayne, E.; Lin, H. Y.; Jaffari, G. H.; Shah, S. I. Appl. Phys. Lett. 2009, 95, 262111
11. Tsetseris, L. Phys. Rev. B 2010, 81, 165205
12. Bai, Y.; Chen, Q. Solid State Commun. 2008, 147, 169-171
13. Yang, K.; Wu, R.; Shen, L.; Feng, Y.; Dai, Y.; Huang, B. Phys. Rev. B 2010, 81, 125211
14. Yang, K.; Dai, Y.; Huang, B.; Myung-Hwan, W. Chem. Phys. Lett. 2009, 481, 99-102
15. Pomoni, K.; Vomvas, A.; Trapalis, Chr. J. Non-Cryst. Solids 2008, 354, 4448-4457
16. Pomoni, K.; Vomvas, A.; Trapalis, Chr. Thin Solid Films 2008, 516, 1271-1278
17. Furubayashi, Y.; Yamada, N.; Hirose, Y.; Yamamoto, Y.; Otani, M.; Hitosugi, T.; Shimada, T.; Hasegawa, T. J. Appl. Phys. 2007, 101, 093705
18. Poumellec, B.; Marucco, J. F.; Lagnel, F. Phys. Status Solidi (a) 1985, 89, 375-382
19. Breckenridge, R. G.; Hosler, W. R. Phys. Rev. 1953, 91, 793-802
20. Yildiz, A.; Lisesivdin, S. B.; Kasap, M.; Mardare, D. J. Non-Cryst. Solids 2008, 354, 4944-4947
21. Mardare, D.; Rusu, G. I. J. Non-Cryst. Solids 2010, 356, 1395-1399
22. Martin, N.; Besnard, A.; Sthal, F.; Vaz, F.; Nouveau, C. Appl. Phys. Lett. 2008, 93, 064102
23. Rothschild, A.; Komem, Y.; Levakov, A.; Ashkenasy, N.; Shapira, Y. Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 574-576
24. Dittrich, Th.; Weidmann, J.; Timoshenko, V. Yu.; Petrov, A. A.; Koch, F.; Lisachenko, M. G.; Lebedev, E. Mater. Sci. Eng., B 2000, 69-70, 489-493
25. Shalish, I.; Kronik, L.; Segal, G.; Shapira, Y.; Zamir, S.; Meyler, B.; Salzman, J. Phys. Rev. B 2000, 61, 15573-15576
26. Aaron Deskins, N.; Dupuis, M. Phys. Rev. B 2007, 75, 195212
27. Yildiz, A.; Iacomi, F.; Mardare, D. J. Appl. Phys. 2010, 108, 083701
28. Konenkamp, R. Phys. Rev. B 2000, 61, 11057-11064
29. Frank, A. J.; Kopidakis, N.; van de Lagemaat, J. Coordin. Chem. Rev. 2004, 248, 1165-1179
30. Bierwagen, O.; Ive, T.; Van de Walle, C. G.; Speck, J. S. Appl. Phys. Lett. 2008, 93, 242108
31. Chambers, S. A.; Cheung, S. H.; Shutthanandan, V.; Thevuthasan, S.; Bowman, M. K.; Joly, A. G. Chem. Phys. 2007, 339, 27-35
32. Matsui, H.; Tabata, H.; Hasuike, N.; Harima, H.; Mizobuchil, B. J. Appl. Phys. 2005, 97, 123511
33. Yu, Y. P.; Xing, X. J.; Xu, L. M.; Wu, S. X.; Li, S. W. J. Appl. Phys. 2009, 105, 123535
34. Cheung, S. H.; Nachimuthu, P.; Engelhard, M. H.; Wang, C. M.; Chambers, S. A. Surf. Sci. 2008, 602, 133-141
35. Li, G.-L.; Li, W.-X.; Li, C. Phys. Rev. B 2010, 82, 235109
36. Hendry, E.; Wang, F.; Shan, J.; Heinz, T. F.; Bonn, M. Phys. Rev. B 2004, 69, 081101(R)
37. Mattioli, G.; Filippone, F.; Alippi, P.; Amore Bonapasta, A. Phys. Rev. B 2008, 78, 241201(R)
38. Janotti, A.; Varley, J. B.; Rinke, P.; Umezawa, N.; Kresse, G.; Van de Walle, C. G. Phys. Rev. B 2010, 81, 085212
39. Nambu, A.; Graciani, J.; Rodriguez, J. A.; Wu, Q.; Fujita, E.; Sanz, J. F. J. Chem. Phys. 2006, 125, 094706
40. Batzill, M.; Morales, E. H.; Diebold, U. Phys. Rev. Lett. 2006, 96, 026103
41. Yang, K.; Dai, Y.; Huang, B. J. Phys. Chem. C 2007, 111, 12086-12090
42. Park, J.; Lee, J. Y.; Cho, J. H. J. Appl. Phys. 2006, 100, 113534
43. Yildiz, A.; Lisesivdin, S. B.; Kasap, M.; Mardare, D. J. Mater Sci: Mater. Electron. 2010, 21, 692-697
44. Subhayan, B.; Takayuki, N.; Faruk, H. M.; Takakazu, T. J. Phys.: Conf. Ser. 2008, 100, 082015
45. Rafol, S. B.; Wijewarnasuriya, P. S.; Sivananthan, S.; Faurie, J. P. J. Appl. Phys. 1993, 74, 1096-1099
46. Partain, L. D.; Lakshminarayana, M. R. J. Appl. Phys. 1976, 47, 1015-1022
47. Rijks, H. J.; Giling, L. J.; Bloem, J. J. Appl. Phys. 1981, 52, 472-475
48. Zhang, Y. Z.; Dai, P. H.; Sarachik, M. P. Phys. Rev. B 1992, 45, 6301-6304
49. Yu, P. Y.; Cardona, M. Fundamentals of Semiconductors, 3 rd ed.; Springer: New York, 2001; Chapter 5, pp 232-240.
50. Jeong, B. S.; Norton, D. P.; Budai, J. D. Solid-State Electron. 2003, 47, 2275-2278
51. Tang, H.; Prasad, K.; Sanjines, R.; Schmid, P. E.; Lévy, F. J. Appl. Phys. 1994, 75, 2042-2047
52. Bao, N. N.; Fan, H. M.; Ding, J.; Yi, J. B. J. Appl. Phys. 2011, 109, 07C302
53. Matsushita, A.; Shimoda, M.; Naka, T.; Yamada, Y. Jpn. J. Appl. Phys. 2011, 50, 025501