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Volumn 5, Issue 7, 2012, Pages 7872-7877

Nickel oxide functionalized silicon for efficient photo-oxidation of water

(12) Sun, Ke a Park, Namseok a Sun, Zhelin a Zhou, Jigang b Wang, Jian b Pang, Xiaolu c Shen, Shaohua d Noh, Sun Young e Jing, Yi a Jin, Sungho e Yu, Paul K L a Wang, Deli a,e,f

a UNIVERSITY OF CALIFORNIA (United States)

b CANADIAN LIGHT SOURCE INC (Canada)

c UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY BEIJING (China)

d XI'AN JIAOTONG UNIVERSITY (China)

e UNIVERSITY OF CALIFORNIA (United States)

f UNIVERSITY OF CALIFORNIA (United States)

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FUNCTIONALIZED; N TYPE SILICON; NEUTRAL PH; ONSET POTENTIAL; OVERPOTENTIAL; OXYGEN EVOLUTION; PHOTO-ELECTRODES; PHOTO-VOLTAGE; PHOTOANODE; PHOTOELECTRODE; PROTECTION LAYERS; WATER OXIDATION;

OXIDATION; OXYGEN; SILICON; SOL-GEL PROCESS; THIN FILMS;

NICKEL OXIDE;

CATALYST; COST-BENEFIT ANALYSIS; ELECTRODE; FILM; NICKEL; OXIDE; OXYGEN; PH; PHOTOOXIDATION; SILICON; SOLAR POWER; THERMODYNAMICS;

EID: 84863084936 PISSN: 17545692 EISSN: 17545706 Source Type: Journal
DOI: 10.1039/c2ee21708b Document Type: Article

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