Effects of ligand monolayers on catalytic nickel nanoparticles for synthesizing vertically aligned carbon nanofibers

ACS Applied Materials and Interfaces

Volumn 3, Issue 4, 2011, Pages 936-940

  Sarac, Mehmet F ^a   Wilson, Robert M ^a   Johnston Peck, Aaron C ^a   Wang, Junwei ^a   Pearce, Ryan ^a   Klein, Kate L ^b   Melechko, Anatoli V ^a   Tracy, Joseph B ^a  

^a North Carolina State University   (United States)

^b NATIONAL INSTITUTE OF STANDARDS AND TECHNOLOGY   (United States)

Author keywords

carbon nanofibers; catalyst; chemical vapor deposition; ligand; nanoparticles; nickel

Indexed keywords

CHEMICAL VAPOR; FACILE PREPARATION; GRAPHITIC SHELLS; LIGAND MONOLAYERS; LIGAND SHELLS; LIGAND-STABILIZED; MONODISPERSE; NI NANOPARTICLES; NICKEL NANOPARTICLES; SYNTHESIZING COMPLEX; VERTICALLY ALIGNED CARBON NANOFIBERS;

CARBON NANOFIBERS; CATALYSTS; FILM PREPARATION; FLOCCULATION; MONOLAYERS; NANOPARTICLES; NICKEL; PLASMA DEPOSITION; PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; VAPOR DEPOSITION;

LIGANDS;

EID: 84862833588     PISSN: 19448244     EISSN: 19448252     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/am101290v     Document Type: Article

References (48)

1. Talapin, D. V.; Lee, J. S.; Kovalenko, M. V.; Shevchenko, E. V. Chem. Rev. 2010, 110, 389-458
2. Lu, A. H.; Salabas, E. L.; Schüth, F. Angew. Chem., Int. Ed. 2007, 46, 1222-1244
3. Aiken, J. D.; Finke, R. G. J. Mol. Catal. A: Chem. 1999, 145, 1-44
4. De, M.; Ghosh, P. S.; Rotello, V. M. Adv. Mater. 2008, 20, 4225-4241
5. Merkulov, V. I.; Melechko, A. V.; Guillorn, M. A.; Simpson, M. L.; Lowndes, D. H.; Whealton, J. H.; Raridon, R. J. Appl. Phys. Lett. 2002, 80, 4816-4818
6. Zhong, Z. Y.; Chen, H. Y.; Tang, S. B.; Ding, J.; Lin, J. Y.; Tan, K. L. Chem. Phys. Lett. 2000, 330, 41-47
7. Merkulov, V. I.; Guillorn, M. A.; Lowndes, D. H.; Simpson, M. L.; Voelkl, E. Appl. Phys. Lett. 2001, 79, 1178-1180
8. Rider, A. E.; Levchenko, I.; Chan, K. K. F.; Tam, E.; Ostrikov, K. J. Nanopart. Res. 2008, 10, 249-254
9. Melechko, A. V.; Merkulov, V. I.; McKnight, T. E.; Guillorn, M. A.; Klein, K. L.; Lowndes, D. H.; Simpson, M. L. J. Appl. Phys. 2005, 97, 041301
10. Guillorn, M. A.; Yang, X.; Melechko, A. V.; Hensley, D. K.; Hale, M. D.; Merkulov, V. I.; Simpson, M. L.; Baylor, L. R.; Gardner, W. L.; Lowndes, D. H. J. Vac. Sci. Technol., B 2004, 22, 35-39
11. Ye, Q.; Cassell, A.; Liu, H.; Chao, K.-J.; Han, J.; Meyyappan, M. Nano Lett. 2004, 4, 1301-1305
12. Liu, J. W.; Kuo, Y. T.; Klabunde, K. J.; Rochford, C.; Wu, J.; Li, J. ACS Appl. Mater. Interfaces 2009, 1, 1645-1649
13. Guillorn, M. A.; McKnight, T. E.; Melechko, A.; Merkulov, V. I.; Britt, P. F.; Austin, D. W.; Lowndes, D. H.; Simpson, M. L. J. Appl. Phys. 2002, 91, 3824-3828
14. Fletcher, B. L.; Hullander, E. D.; Melechko, A. V.; McKnight, T. E.; Klein, K. L.; Hensley, D. K.; Morrell, J. L.; Simpson, M. L.; Doktycz, M. J. Nano Lett. 2004, 4, 1809-1814
15. Hyeon, T.; Lee, S. S.; Park, J.; Chung, Y.; Bin Na, H. J. Am. Chem. Soc. 2001, 123, 12798-12801
16. Sun, S. H.; Zeng, H.; Robinson, D. B.; Raoux, S.; Rice, P. M.; Wang, S. X.; Li, G. X. J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 273-279
17. Teng, X. W.; Yang, H. J. Mater. Chem. 2004, 14, 774-779
18. Woo, K.; Hong, J.; Choi, S.; Lee, H. W.; Ahn, J. P.; Kim, C. S.; Lee, S. W. Chem. Mater. 2004, 16, 2814-2818
19. Redl, F. X.; Black, C. T.; Papaefthymiou, G. C.; Sandstrom, R. L.; Yin, M.; Zeng, H.; Murray, C. B.; OBrien, S. P. J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 14583-14599
20. Park, J.; Lee, E.; Hwang, N. M.; Kang, M. S.; Kim, S. C.; Hwang, Y.; Park, J. G.; Noh, H. J.; Kini, J. Y.; Park, J. H. Angew. Chem., Int. Ed. 2005, 44, 2872-2877
21. Sun, S. H.; Murray, C. B. J. Appl. Phys. 1999, 85, 4325-4330
22. Puntes, V. F.; Zanchet, D.; Erdonmez, C. K.; Alivisatos, A. P. J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 12874-12880
23. Tracy, J. B.; Weiss, D. N.; Dinega, D. P.; Bawendi, M. G. Phys. Rev. B 2005, 72, 064404
24. Bao, Y.; An, W.; Turner, C. H.; Krishnan, K. M. Langmuir 2010, 26, 478-483
25. Park, J.; Kang, E.; Son, S. U.; Park, H. M.; Lee, M. K.; Kim, J.; Kim, K. W.; Noh, H. J.; Park, J. H.; Bae, C. J. Adv. Mater. 2005, 17, 429-434
26. Lee, I. S.; Lee, N.; Park, J.; Kim, B. H.; Yi, Y. W.; Kim, T.; Kim, T. K.; Lee, I. H.; Paik, S. R.; Hyeon, T. J. Am. Chem. Soc. 2006, 128, 10658-10659
27. Winnischofer, H.; Rocha, T. C. R.; Nunes, W. C.; Socolovsky, L. M.; Knobel, M.; Zanchet, D. ACS Nano 2008, 2, 1313-1319
28. Johnston-Peck, A. C.; Wang, J. W.; Tracy, J. B. ACS Nano 2009, 3, 1077-1084
29. Wang, J. W.; Johnston-Peck, A. C.; Tracy, J. B. Chem. Mater. 2009, 21, 4462-4467
30. Park, J.; Joo, J.; Kwon, S. G.; Jang, Y.; Hyeon, T. Angew. Chem., Int. Ed. 2007, 46, 4630-4660
31. Kim, J.; Rong, C. B.; Lee, Y.; Liu, J. P.; Sun, S. H. Chem. Mater. 2008, 20, 7242-7245
32. Seo, W. S.; Lee, J. H.; Sun, X. M.; Suzuki, Y.; Mann, D.; Liu, Z.; Terashima, M.; Yang, P. C.; McConnell, M. V.; Nishimura, D. G. Nat. Mater. 2006, 5, 971-976
33. Desvaux, C.; Amiens, C.; Fejes, P.; Renaud, P.; Respaud, M.; Lecante, P.; Snoeck, E.; Chaudret, B. Nat. Mater. 2005, 4, 750-753
34. Merkulov, V. I.; Lowndes, D. H.; Wei, Y. Y.; Eres, G.; Voelkl, E. Appl. Phys. Lett. 2000, 76, 3555-3557
35. Cui, H. T.; Yang, X. J.; Simpson, M. L.; Lowndes, D. H.; Varela, M. Appl. Phys. Lett. 2004, 84, 4077-4079
36. Denysenko, I.; Ostrikov, K. J. Phys. D: Appl. Phys. 2009, 42, 015208
37. Railsback, J. G.; Johnston-Peck, A. C.; Wang, J. W.; Tracy, J. B. ACS Nano 2010, 4, 1913-1920
38. Liu, S. H.; Gao, H. T.; Ye, E. Y.; Low, M.; Lim, S. H.; Zhang, S. Y.; Lieu, X. H.; Tripathy, S.; Tremel, W.; Han, M. Y. Chem. Commun. 2010, 46, 4749-4751
39. Lu, A. H.; Li, W. C.; Matoussevitch, N.; Spliethoff, B.; Bönnemann, H.; Schüth, F. Chem. Commun. 2005, 98-100
40. Helveg, S.; Loépez-Cartes, C.; Sehested, J.; Hansen, P. L.; Clausen, B. S.; Rostrup-Nielsen, J. R.; Abild-Pedersen, F.; Norskov, J. K. Nature 2004, 427, 426-429
41. Ichihashi, T.; Fujita, J.; Ishida, M.; Ochiai, Y. Phys. Rev. Lett. 2004, 92, 215702
42. Ichihashi, T.; Ishida, M.; Ochiai, Y.; Fujita, J. J. Vac. Sci. Technol., B 2004, 22, 3221-3223
43. Yang, X. J.; Guillorn, M. A.; Austin, D.; Melechko, A. V.; Cui, H. T.; Meyer, H. M.; Merkulov, V. I.; Caughman, J. B. O.; Lowndes, D. H.; Simpson, M. L. Nano Lett. 2003, 3, 1751-1755
44. Clearfield, R.; Railsback, J. G.; Pearce, R. C.; Hensley, D. K.; Fowlkes, J. D.; Fuentes-Cabrera, M.; Simpson, M. L.; Rack, P. D.; Melechko, A. V. Appl. Phys. Lett. 2010, 97, 253101
45. Cai, D.; Doughty, C. A.; Potocky, T. B.; Dufort, F. J.; Huang, Z.; Blair, D.; Kempa, K.; Ren, Z. F.; Chiles, T. C. Nanotechnology 2007, 18, 365101
46. Chhowalla, M.; Teo, K. B. K.; Ducati, C.; Rupesinghe, N. L.; Amaratunga, G. A. J.; Ferrari, A. C.; Roy, D.; Robertson, J.; Milne, W. I. J. Appl. Phys. 2001, 90, 5308-5317
47. Identification of certain commercial equipment, instruments, or materials in this paper does not imply recommendation or endorsement by the National Institute of Standards and Technology, nor does it imply that the products are necessarily the best available for the purpose.
48. Aliaga, C.; Park, J. Y.; Yamada, Y.; Lee, H. S.; Tsung, C. K.; Yang, P. D.; Somorjai, G. A. J. Phys. Chem. C 2009, 113, 6150-6155