Plasma agriculture

Journal of the Korean Physical Society

Volumn 60, Issue 6, 2012, Pages 937-943

  Ito, Masafumi ^a   Ohta, Takayuki ^a   Hori, Masaru ^b  

^a MEIJO UNIVERSITY   (Japan)

^b NAGOYA UNIVERSITY   (Japan)

Author keywords

Disinfection; Inactivation; Microorganism; Plasma agriculture

Indexed keywords

EID: 84859941725     PISSN: 03744884     EISSN: 19768524     Source Type: Journal    
DOI: 10.3938/jkps.60.937     Document Type: Article

References (48)

1. T. Rundberget, I. Skaar and A. Flaaoeyen, Int. J. Food Microbiol. 90, 181 (2004).
2. P. Kinay, M. F. Mansour, F. M. Gabler, D. A. Margosan and J. L. Smilanick, Crop Prot. 26, 647 (2007).
3. Illuminating Engineering Society, IES Lightning Handbook: The standard lighting guide, 2nd ed. (Illuminating Engineering Society, New York, 1952).
4. S. S. Block, Disinfection, Sterilization and Preservation, 5th ed. (Lippincott Williams & Wilkins, Philadelphia, 2001).
5. V. J. Critzer, K. Kelly-Winterberg, S. L. South and D. A. Golden, J. Food Prot. 70, 2290 (2007).
6. S. Perni, D. W. Liu, G. Shama and M. G. Kong, J. Food Prot. 71, 302 (2008).
7. S. Perni, G. Shama and M. G. Kong, J. Food Prot. 71, 1619 (2008).
8. P. Basaran, N. Basaran-Akgul and L. Oksuz, Food Microbiol. 25, 626 (2008).
9. M. Selcuk, L. Oksuz and P. Basaran, Bioresour. Technol. 99, 5104 (2008).
10. E. Noriega, G. Shama, A. Laca, M. Dáz and M. G. Kong, Food Microbiol. 28, 1293 (2011).
11. B. Kim, H. Yun, S. Jung, Y. Jung, H. Jung, W. Choe and C. Jo, Food Microbiol. 28, 9 (2011).
12. H. P. Song, B. Kim, J. H. Choe, S. Jung, S. Y. Moon, W. Choe and C. Jo, Food Microbiol. 26, 432 (2009).
13. H. Yun, B. Kim, S. Jung, Z. A. Kruk, D. B. Kim, W. Choe and C. Jo, Food Control 21, 1182 (2010).
14. A. Schwabedissen, P. Lacinski, X. Chen and J. Engemann, Contrib. Plasma Phys. 47, 551 (2007).
15. A. S. Chiper, W. Chen, O. Mejlholm, P. Dalgaard and E. Stamate, Plasma Sources Sci. Technol. 20, 025008 (2011).
16. S. Iseki, T. Ohta, A. Aomatsu, M. Ito, H. Kano, Y. Higashijima and M. Hori, Appl. Phys. Lett. 96, 153704 (2010).
17. M. Iwasaki, H. Inui, Y. Matsudaira, H. Kano, N. Yoshida, M. Ito and M. Hori, Appl. Phys. Lett. 92, 081503 (2008).
18. F. Jia, N. Sumi, K. Ishikawa, H. Kano, H. Inui, J. Kularatne, K. Takeda, H. Kondo, M. Sekine, A. Kono and M. Hori, Appl. Phys. Express 4, 026101 (2011).
19. A. Fridman, Plasma Chemistry (Cambridge University Press, New York, 2008).
20. X. Deng, J. Shi and M. G. Kong, IEEE Trans. Plasma Sci. 34, 1310 (2006).
21. M. Moisan, J. Barbeau, S. Moreau, J. Pelletier, M. Tabrizian and L'H. Yahia, Int. J. Pharm. 226, 1 (2001).
22. M. Laroussi, Plasma Processes Polym. 2, 391 (2005).
23. K.-K. Wintenberg, A. Hodge, T. C. Montie, L. Deleanu, D. Sherman, J. R. Roth, P. Tsai and L. Wadsworth, J. Vac. Sci. Technol., A 17, 1539 (1999).
24. J. Opretzka, J. Benedikt, P. Awakowicz, J. Wunderlich and A. von Keudell, J. Phys. D: Appl. Phys. 40, 2826 (2007).
25. P. Levif, J. Séguin, M. Moisan and J. Barbeau, Plasma Processes Polym. 8, 617 (2011).
26. A. Helmke, D. Hoffmeister, F. Berge, S. Emmert, P. Laspe, N. Mertens, W. Vioel and K.-D. Weltmann, Plasma Processes Polym. 8, 278 (2011).
27. R. Burlica, R. G. Grim, K. -Y. Shih, D. Balkwill and B. R. Locke, Plasma Processes Polym. 7, 640 (2010).
28. A. von Keudell et al., Plasma Processes Polym. 7, 327 (2010).
29. K. Oehmigen, M. Hähnel, R. Brandenburg, Ch. Wilke, K.-D. Weltmann and Th. von Woedtke, Plasma Processes Polym. 7, 250 (2010).
30. M. Hähnel, Th. von Woedtke and K.-D. Weltmann, Plasma Processes Polym. 7, 244 (2010).
31. H. Yasuda, T. Miura, H. Kurita, K. Takashima and A. Mizuno, Plasma Processes Polym. 7, 301 (2010).
32. S. Ikawa, K. Kitano and S. Hamaguchi, Plasma Processes Polym. 7, 33 (2010).
33. S. J. Kim, T. H. Chung, S. H. Bae and S. H. Leem, Plasma Processes Polym. 6, 676 (2009).
34. A. Ricard, C. Canal, S. Villeger and J. Durand, Plasma Processes Polym. 5, 867 (2008).
35. K. Kutasi, B. Saoudi, C. D. Pintassilgo, J. Loureiro and M. Moisan, Plasma Processes Polym. 5, 840 (2008).
36. Y. Zhao, A. Ogino and M. Nagatsu, Appl. Phys. Lett. 98, 191501 (2011).
37. D. Wang, D. Zhao, K. Feng, X. Zhang, D. Liu and S. Yang, Appl. Phys. Lett. 98, 161501 (2011).
38. Y. C. Hong, H. J. Park, B. J. Lee, W.-S. Kang and H. S. Uhm, Phys. Plasmas 17, 053502 (2010).
39. E. Martines et al., New J. Phys. 11, 115014 (2009).
40. G. E. Morfill, M. G. Kong and J. L. Zimmermann, New J. Phys. 11, 115011 (2009).
41. A. Majumdar, R. K. Singh, G. J. Palm and R. Hippler, J. Appl. Phys. 106, 084701 (2009).
42. S. J. Kim, T. H. Chung, S. H. Bae and S. H. Leem, Appl. Phys. Lett. 94, 141502 (2009).
43. B. Eliasson, M. Hirth and U. Kogelschatz, J. Phys. D: Appl. Phys. 20, 1421 (1987).
44. I. A. Kossyi, A. Yu Kostinsky, A. A. Matveyev and V. P. Silakov, Plasma Sources Sci. Technol. 1, 207 (1992).
45. S. Takashima, M. Hori, T. Goto, A. Kono, M. Ito and K. Yoneda, Appl. Phys. Lett. 75, 3929 (1999).
46. H. Nagai, S. Takashima, M. Hiramatsu, M. Hori and T. Goto, J. Appl. Phys. 91, 2615 (2002).
47. T. Ohta, M. Ito, Y. Tachibana, S. Taneda, S. Takashima, M. Hori, H. Kano and S. Den, Appl. Phys. Lett. 90, 251502 (2007).
48. Y. Katrib, S. T. Martin, H. M. Hung, Y. Rudich, H. Zhang, J. G. Slowik, P. Davidovits, J. T. Jayne and D. R. Worsnop, J. Phys. Chem. A 108, 6686 (2004).