-
2
-
-
49149122329
-
-
C. Oliveira, J. A. Souza Corrêa, M. P. Gomes, B. N. Sismanoglu, J. Amorim, Appl. Phys. Lett. 2008, 93, 041503.
-
(2008)
Appl. Phys. Lett.
, vol.93
, pp. 041503
-
-
Oliveira, C.1
Souza Corrêa, J.A.2
Gomes, M.P.3
Sismanoglu, B.N.4
Amorim, J.5
-
3
-
-
47549097725
-
-
X. Zhang, M. Li, R. Zhou, K. Feng, S. Yang, Appl. Phys. Lett. 2008, 93, 021502.
-
(2008)
Appl. Phys. Lett.
, vol.93
, pp. 021502
-
-
Zhang, X.1
Li, M.2
Zhou, R.3
Feng, K.4
Yang, S.5
-
4
-
-
45749102852
-
-
T. L. Ni, F. Ding, X. D. Zhu, X. H. Wen, H. Y. Zhou, Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 241503.
-
(2008)
Appl. Phys. Lett.
, vol.92
, pp. 241503
-
-
Ni, T.L.1
Ding, F.2
Zhu, X.D.3
Wen, X.H.4
Zhou, H.Y.5
-
5
-
-
40049093562
-
-
X. P. Lu, Z. H. Jiang, Q. Xiong, Z. Y. Tang, X. W. Hu, Y. Pan, Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 081502.
-
(2008)
Appl. Phys. Lett.
, vol.92
, pp. 081502
-
-
Lu, X.P.1
Jiang, Z.H.2
Xiong, Q.3
Tang, Z.Y.4
Hu, X.W.5
Pan, Y.6
-
6
-
-
9744238070
-
-
I. E. Kieft, E. P. van der Laan, E. Stoffels, New J. Phys. 2004, 6, 149.
-
(2004)
New J. Phys.
, vol.6
, pp. 149
-
-
Kieft, I.E.1
Van Der Laan, E.P.2
Stoffels, E.3
-
7
-
-
35248891455
-
-
D. B. Kim, J. K. Rhee, B. Gweon, S. Y. Moon, W. Choe, Appl. Phys. Lett. 2007, 91, 151502.
-
(2007)
Appl. Phys. Lett.
, vol.91
, pp. 151502
-
-
Kim, D.B.1
Rhee, J.K.2
Gweon, B.3
Moon, S.Y.4
Choe, W.5
-
8
-
-
33746888298
-
-
N. Puac, Z. L. J. Petrovic, G. Malovic, A. Dordevic, S. Zivkovic, Z. Giba, D. Grubisic, J. Phys. D: Appl. Phys. 2006, 39, 3514.
-
(2006)
J. Phys. D: Appl. Phys.
, vol.39
, pp. 3514
-
-
Puac, N.1
Petrovic, Z.L.J.2
Malovic, G.3
Dordevic, A.4
Zivkovic, S.5
Giba, Z.6
Grubisic, D.7
-
9
-
-
44849138711
-
-
G. Li, H.-P. Li, L-Y. Wang, S. Wang, H.-X. Zhao, W.-T. Sun, X.-H. Xing, C.-Y. Bao, Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 221504.
-
(2008)
Appl. Phys. Lett.
, vol.92
, pp. 221504
-
-
Li, G.1
Li, H.-P.2
Wang, L.-Y.3
Wang, S.4
Zhao, H.-X.5
Sun, W.-T.6
Xing, X.-H.7
Bao, C.-Y.8
-
10
-
-
7244242196
-
-
E. Raymond, R. J. Sladek, E. Stoffels, R. Walraven, P. J. A. Tielbeek, R. A. Koolhoven, IEEE Trans. Plasma Sci. 2004, 32, 1540.
-
(2004)
IEEE Trans. Plasma Sci.
, vol.32
, pp. 1540
-
-
Raymond, E.1
Sladek, R.J.2
Stoffels, E.3
Walraven, R.4
Tielbeek, P.J.A.5
Koolhoven, R.A.6
-
11
-
-
33847103119
-
-
S. Perni, G. Shama, J. L. Hobman, P. A. Lund, C. J. Kershaw, G. A. Hidalgo-Arroyo, C. W. Penn, X. T. Deng, J. L. Walsh, M. G. Kong, Appl. Phys. Lett. 2007, 90, 073902.
-
(2007)
Appl. Phys. Lett.
, vol.90
, pp. 073902
-
-
Perni, S.1
Shama, G.2
Hobman, J.L.3
Lund, P.A.4
Kershaw, C.J.5
Hidalgo-Arroyo, G.A.6
Penn, C.W.7
Deng, X.T.8
Walsh, J.L.9
Kong, M.G.10
-
12
-
-
33747499516
-
-
T. Sato, T. Miyahara, A. Doi, S. Ochiai, T. Urayama, T. Nakatani, Appl. Phys. Lett. 2006, 89, 073902.
-
(2006)
Appl. Phys. Lett.
, vol.89
, pp. 073902
-
-
Sato, T.1
Miyahara, T.2
Doi, A.3
Ochiai, S.4
Urayama, T.5
Nakatani, T.6
-
13
-
-
45749102465
-
-
J. F. Kolb, A. A. H. Mohamed, R. O. Price, R. J. Swanson, A. Bowman, R. L. Chiavarini, M. Stacey, K. H. Schoenbach, Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 241501.
-
(2008)
Appl. Phys. Lett.
, vol.92
, pp. 241501
-
-
Kolb, J.F.1
Mohamed, A.A.H.2
Price, R.O.3
Swanson, R.J.4
Bowman, A.5
Chiavarini, R.L.6
Stacey, M.7
Schoenbach, K.H.8
-
14
-
-
34547254485
-
-
H. S. Uhm, J. P. Lim, S. Z. Li, Appl. Phys. Lett. 2007, 90, 261501.
-
(2007)
Appl. Phys. Lett.
, vol.90
, pp. 261501
-
-
Uhm, H.S.1
Lim, J.P.2
Li, S.Z.3
-
15
-
-
28344438482
-
-
X. T. Deng, J. J. Shi, G. Shama, M. G. Kong, Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 153901.
-
(2005)
Appl. Phys. Lett.
, vol.87
, pp. 153901
-
-
Deng, X.T.1
Shi, J.J.2
Shama, G.3
Kong, M.G.4
-
16
-
-
0000127319
-
-
H. W. Herrmann, I. Henins, J. Park, G. S. Selwyn, Phys. Plasmas 1999, 6, 2284.
-
(1999)
Phys. Plasmas
, vol.6
, pp. 2284
-
-
Herrmann, H.W.1
Henins, I.2
Park, J.3
Selwyn, G.S.4
-
17
-
-
34247186912
-
-
X. T. Deng, J. J. Shi, M. G. Kong, J. Appl. Phys. 2007, 101, 074701.
-
(2007)
J. Appl. Phys.
, vol.101
, pp. 074701
-
-
Deng, X.T.1
Shi, J.J.2
Kong, M.G.3
-
18
-
-
33846060754
-
-
X. T. Deng, J. J. Shi, H. L. Chen, M. G. Kong, Appl Phys. Lett. 2007, 90, 013903.
-
(2007)
Appl Phys. Lett.
, vol.90
, pp. 013903
-
-
Deng, X.T.1
Shi, J.J.2
Chen, H.L.3
Kong, M.G.4
-
19
-
-
24644453488
-
-
S. Forster, C. Mohr, W. Viol, Surf. Coat. Technol. 2005, 200, 827.
-
(2005)
Surf. Coat. Technol.
, vol.200
, pp. 827
-
-
Forster, S.1
Mohr, C.2
Viol, W.3
-
20
-
-
18844424704
-
-
M. Teschke, J. Kedzierski, E. G. Finantu-Dinu, D. Korzec, J. Engemann, IEEE Trans. Plasma Sci. 2005, 33, 310.
-
(2005)
IEEE Trans. Plasma Sci.
, vol.33
, pp. 310
-
-
Teschke, M.1
Kedzierski, J.2
Finantu-Dinu, E.G.3
Korzec, D.4
Engemann, J.5
-
23
-
-
0032306958
-
-
A. Schutze, J. Y. Jeong, S. E. Babayan, J. Park, G. S. Selwyn, R. F. Hicks, IEEE Trans. Plasma Sci. 1998, 26, 1685.
-
(1998)
IEEE Trans. Plasma Sci.
, vol.26
, pp. 1685
-
-
Schutze, A.1
Jeong, J.Y.2
Babayan, S.E.3
Park, J.4
Selwyn, G.S.5
Hicks, R.F.6
-
24
-
-
33747100627
-
-
D. B. Kim, J. K. Rhee, S. Y. Moon, W. Choe, Appl. Phys. Lett. 2006, 89, 061502.
-
(2006)
Appl. Phys. Lett.
, vol.89
, pp. 061502
-
-
Kim, D.B.1
Rhee, J.K.2
Moon, S.Y.3
Choe, W.4
-
25
-
-
42349085395
-
-
X. P. Lu, Z. H. Jiang, Q. Xiong, Z. Y. Tang, Y. Pan, Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 151504.
-
(2008)
Appl. Phys. Lett.
, vol.92
, pp. 151504
-
-
Lu, X.P.1
Jiang, Z.H.2
Xiong, Q.3
Tang, Z.Y.4
Pan, Y.5
-
26
-
-
33646431187
-
-
J. L. Walsh, J. J. Shi, M. G. Kong, Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 171501.
-
(2006)
Appl. Phys. Lett.
, vol.88
, pp. 171501
-
-
Walsh, J.L.1
Shi, J.J.2
Kong, M.G.3
-
28
-
-
0038281457
-
-
M. H. Guerra-Mutis, C. V. Pelaez U, R. Cabanzo H, Plasma Sources Sci. Technol. 2003, 12, 165.
-
(2003)
Plasma Sources Sci. Technol.
, vol.12
, pp. 165
-
-
Guerra-Mutis, M.H.1
Pelaez, C.V.2
Cabanzo, U.R.3
-
29
-
-
33947696131
-
-
G. Fridman, A. Shereshevsky, M. M. Jost, A. D. Brooks, A. Fridman, A. Gutsol, V. Vasilets, G. Friedman, Plasma Chem. Plasma Process. 2007, 27, 163.
-
(2007)
Plasma Chem. Plasma Process.
, vol.27
, pp. 163
-
-
Fridman, G.1
Shereshevsky, A.2
Jost, M.M.3
Brooks, A.D.4
Fridman, A.5
Gutsol, A.6
Vasilets, V.7
Friedman, G.8
-
31
-
-
0037415648
-
-
S. Y. Moon, W. Choe, Spectrochim. Acta, Part B 2003, 58, 249.
-
(2003)
Spectrochim. Acta, Part B
, vol.58
, pp. 249
-
-
Moon, S.Y.1
Choe, W.2
-
32
-
-
33747850804
-
-
J. Goree, B. Liu, D. Drake, E. Stoffels, IEEE Trans. Plasma Sci. 2006, 34, 1317.
-
(2006)
IEEE Trans. Plasma Sci.
, vol.34
, pp. 1317
-
-
Goree, J.1
Liu, B.2
Drake, D.3
Stoffels, E.4
-
33
-
-
54149098367
-
-
G. Park, H. Lee, G. Kim, J. K. Lee, Plasma Process. Polym. 2008, 5, 569.
-
(2008)
Plasma Process. Polym.
, vol.5
, pp. 569
-
-
Park, G.1
Lee, H.2
Kim, G.3
Lee, J.K.4
-
34
-
-
0031819192
-
-
S. Hury, D. R. Vidal, F. Desor, J. Pelletier, T. Lagarde, Lett. Appl. Microbiol. 1998, 26, 417.
-
(1998)
Lett. Appl. Microbiol.
, vol.26
, pp. 417
-
-
Hury, S.1
Vidal, D.R.2
Desor, F.3
Pelletier, J.4
Lagarde, T.5
-
35
-
-
53349118411
-
-
K.-D. Weltmann, R. Brandenburg, T. von Woedtke, J. Ehlbeck, R. Foest, M. Stieber, E. Kindel, J. Phys. D: Appl Phys. 2008, 41, 194008.
-
(2008)
J. Phys. D: Appl Phys.
, vol.41
, pp. 194008
-
-
Weltmann, K.-D.1
Brandenburg, R.2
Von Woedtke, T.3
Ehlbeck, J.4
Foest, R.5
Stieber, M.6
Kindel, E.7
-
36
-
-
64349091096
-
-
S. J. Kim, T. H. Chung, S. H. Bae, S. H. Leem, Appl. Phys. Lett. 2009, 94, 141502.
-
(2009)
Appl. Phys. Lett.
, vol.94
, pp. 141502
-
-
Kim, S.J.1
Chung, T.H.2
Bae, S.H.3
Leem, S.H.4
|