Comparative study of the microstructure of Bi 2Se 3 thin films grown on Si(111) and InP(111) substrates

Crystal Growth and Design

Volumn 12, Issue 4, 2012, Pages 1913-1918

  Tarakina, N V ^a   Schreyeck, S ^a   Borzenko, T ^a   Schumacher, C ^a   Karczewski, G ^a,b   Brunner, K ^a   Gould, C ^a   Buhmann, H ^a   Molenkamp, L W ^a  

^a UNIVERSITY OF WÜRZBURG   (Germany)

^b INSTITUTE OF PHYSICS   (Poland)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

COMPARATIVE STUDIES; CRYSTALLINE QUALITY; INP; INTERFACE LAYER; MICROSTRUCTURAL LEVELS; OVERALL QUALITY; SCANNING ELECTRON MICROSCOPIES (SEM); SHARP INTERFACE; SI (1 1 1); SI SUBSTRATES; TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPY (TEM);

INTERFACES (MATERIALS); MICROSTRUCTURE; MOLECULAR BEAM EPITAXY; SCANNING ELECTRON MICROSCOPY; SEMICONDUCTING SELENIUM COMPOUNDS; SILICON; THIN FILMS; TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPY;

SUBSTRATES;

EID: 84859386998     PISSN: 15287483     EISSN: 15287505     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cg201636g     Document Type: Article

References (28)

1. Al Bayaz, A.; Giani, A.; Al Khalfioui, M.; Foucaran, A.; Pascal-Delannoy, F.; Boyer, A. J. Cryst. Growth 2003, 258, 135-140
2. Sun, Z.; Liufu, S.; Chen, L. Dalton Transact. 2010, 39, 10883-10887
3. Kadel, K.; Kumari, L.; Li, W. Z.; Huang, J. Y.; Provencio, P. P. Nanoscale Res. Lett. 2011, 6, 57-1-57-7
4. Sun, Z.; Liufu, S.; Chen, X.; Chen, L. CrystEngComm 2010, 12, 2672-2674
5. Waters, J.; Crouch, D.; Raftery, J.; O'Brien, P. Chem. Mater. 2004, 16, 3289-3298
6. Watanabe, K.; Sato, N.; Miyaoko, S. J. Appl. Phys. 1983, 54, 1256-1260
7. Fu, L.; Kane, C. L.; Mele, E. J. Phys. Rev. Lett. 2007, 98, 106803-1-106803-4
8. Zhang, H.; Liu, C.-X.; Qi, X.-L.; Dai, X.; Fang, Z.; Zhang, S.-C. Nat. Phys. 2009, 5, 438-442
9. Li, H. D.; Wang, Z. Y.; Kan, X.; Guo, X.; He, H. T.; Wang, Z.; Wang, J. N.; Wong, T. L.; Wang, N.; Xie, M. H. New J. Phys. 2010, 12, 103038-1-103038-11
10. He, L.; Xiu, F.; Wang, Y.; Fedorov, A. V.; Huang, G.; Kou, X.; Lang, M.; Beyermann, W. P.; Zou, J.; Wang, K. L. J. Appl. Phys. 2011, 109, 103702-1-103702-6
11. Bansal, N.; Kim, Y. S.; Edrey, E.; Brahlek, M.; Horibe, Y.; Iida, K.; Tanimura, M.; Li, G.-H.; Feng, T.; Lee, H.-D.; Gustafsson, T.; Andrei, E.; Oh, S. Thin Solid Films 2011, 520, 224-229
12. Wang, Z. Y.; Li, H. D.; Guo, X.; Ho, W. K.; Xie, M. H. J. Cryst. Growth 2011, 334, 96-102
13. Wang, Z. Y.; Guo, X.; Li, H. D.; Wong, T. L.; Wang, N.; Xie, M. H. Appl. Phys. Lett. 2011, 99, 023112-1-023112-3
14. Chen, J.; Qin, H. J.; Yang, F.; Liu, J.; Guan, T.; Qu, F. M.; Zhang, G. H.; Shi, J. R.; Xie, X. C.; Yang, C. L.; Wu, K. H.; Li, Y. Q.; Lu, L. Phys. Rev. Lett. 2010, 105, 176602-1-176602-4
15. Zhang, G.; Qui, H.; Chen, J.; He, X.; Lu, L.; Li, Y.; Wu, K. Adv. Funct. Mater. 2011, 21, 2351-2355
16. Tabor, P.; Keenan, C.; Urazdhin, S.; Lederman, D. Appl. Phys. Lett. 2011, 99, 013111-1-013111-3
17. Richardella, A.; Zhang, D. M.; Lee, J. S.; Koser, A.; Rench, D. W.; Yeats, A. L.; Buckley, B. B.; Awschalom, D. D.; Samarth, N. Appl. Phys. Lett. 2011, 97, 262104-1-262104-3
18. Kou, X. F.; He, L.; Xiu, F. X.; Lang, M. R.; Liao, Z. M.; Wang, Y.; Fedorov, A. V.; Yu, X. X.; Tang, J. S.; Huang, G.; Jiang, X. W.; Zhu, J. F.; Zou, J.; Wang, K. L. Appl. Phys. Lett. 2011, 98, 242102-1-242102-3
19. Song, C.-L.; Wang, Y.-L.; Jiang, Y.-P.; Zhang, Y.; Chang, C.-Z.; Wang, L.; He, K.; Chen, X.; Jia, J.-F.; Wang, Y.; Fang, Z.; Dai, X.; Xie, C.-X.; Qi, X.-L.; Zhang, S.-Z.; Xue, Q.-K.; Ma, X. Appl. Phys. Lett. 2010, 97, 143118-1-143118-3
20. Nakajima, S. J. Phys. Chem. Solids 1963, 24, 479-485
21. Koma, A. J. Cryst. Growth 1999, 201-202, 236-241
22. Jaegermann, W.; Rudolph, R.; Klein, A.; Pettenkofer, C. Thin Solid Films 2000, 380, 276-281
23. Koma, A. Thin Solid Films 1992, 216, 72-76
24. Frangis, N.; Kuypers, S.; Manolikas, C.; Van Tendeloo, G.; Van Landuyt, J.; Amelinckx, S. J. Solid State Chem. 1990, 84, 314-334
25. Frangis, N.; Kuypers, S.; Manolikas, C.; Van Landuyt, J.; Amelinckx, S. Solid State Commun. 1989, 69, 817-819
26. Qui, X.; Burda, C.; Fu, R.; Pu, L.; Chen, H.; Zhu, J. J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 16276-16277
27. Dang, W.; Peng, H.; Li, H.; Wang, P.; Liu, Z. Nano Lett. 2010, 10, 2870-2876
28. Medlin, D. L.; Ramasse, Q. M.; Spataru, C. D.; Yang, N. Y. C. J. Appl. Phys. 2010, 108, 043517-1-043517-6