Effect of VI/II gas ratio on the epitaxial growth of ZnO films by metalorganic chemical vapor deposition

Japanese Journal of Applied Physics

Volumn 50, Issue 10 PART 1, 2011, Pages

  Choi, Yong Seok ^a   Hwang, Dae Kue ^a,b   Kwon, Bong Joon ^a,c   Kang, Jang Won ^a   Cho, Yong Hoon ^a,c   Park, Seong Ju ^a  

^a Gwangju Institute of Science and Technology (GIST)   (South Korea)

^b Daegu Gyeongbuk Institute of Science and Technology   (South Korea)

^c Korea Advanced Institute of Science and Technology (KAIST)   (South Korea)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EXCITONIC EMISSION; FLAT TERRACES; FREE-EXCITON EMISSIONS; GAS RATIO; LONGITUDINAL OPTICAL PHONONS; LOW TEMPERATURE PHOTOLUMINESCENCE; NEUTRAL DONOR; OPTICAL QUALITIES; ROOT MEAN SQUARE ROUGHNESS; ZNO; ZNO FILMS;

ATOMIC FORCE MICROSCOPY; EPITAXIAL FILMS; EPITAXIAL GROWTH; EXCITONS; FILM GROWTH; METALLIC FILMS; PHOTOLUMINESCENCE; ZINC OXIDE;

METALLORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION;

EID: 80054880642     PISSN: 00214922     EISSN: 13474065     Source Type: Journal    
DOI: 10.1143/JJAP.50.105502     Document Type: Article

References (23)

1. D. C. Look: Mater. Sci. Eng. B 80 (2001) 383.
2. Z. K. Tang, G. K. L. Wong, P. Yu, M. Kawasaki, A. Ohtomo, H. Koinuma, and Y. Segawa: Appl. Phys. Lett. 72 (1998) 3270.
3. D. K. Hwang, M. S. Oh, J. H. Lim, and S. J. Park: J. Phys. D 40 (2007) R387.
4. Y. S. Choi, J. W. Kang, D. K. Hwang, and S. J. Park: IEEE Trans. Electron Devices 57 (2010) 26.
5. A. Tsukazaki, A. Ohtomo, T. Onuma, M. Ohtani, T. Makino, M. Sumiya, K. Ohtani, S. F. Chichibu, S. Fuke, Y. Segawa, H. Ohno, H. Koinuma, and M. Kawasaki: Nat. Mater. 4 (2005) 42.
6. A. Tsukazaki, M. Kubota, A. Ohtomo, T. Onuma, K. Ohtani, H. Ohno, S. F. Chichibu, and M. Kawasaki: Jpn. J. Appl. Phys. 44 (2005) L643.
7. J. H. Lim, C. K. Kang, K. K. Kim, I. K. Park, D. K. Hwang, and S. J. Park: Adv. Mater. 18 (2006) 2720.
8. Y. R. Ryu, T.-S. Lee, J. A. Lubguban, H. W. White, B.-J. Kim, Y.-S. Park, and C.-J. Youn: Appl. Phys. Lett. 88 (2006) 241108.
9. W. Z. Xu, Z. Z. Ye, Y. J. Zeng, L. P. Zhu, B. H. Zhao, L. Jiang, J. G. Lu, H. P. He, and S. B. Zhang: Appl. Phys. Lett. 88 (2006) 173506.
10. J. Z. Zhao, H. W. Liang, J. C. Sun, J. M. Bian, Q. J. Feng, L. Z. Hu, H. Q. Zhang, X. P. Liang, Y. M. Luo, and G. T. Du: J. Phys. D 41 (2008) 195110.
11. X. Dong, B. L. Zhang, X. P. Li, W. Zhao, X. C. Xia, H. C. Zhu, and G. T. Du: J. Phys. D 40 (2007) 7298.
12. J. C. Sun, J. Z. Zhao, H. W. Liang, J. M. Bian, L. Z. Hu, H. Q. Zhang, X. P. Liang, W. F. Liu, and G. T. Du: Appl. Phys. Lett. 90 (2007) 121128.
13. Jong H. Na, M. Kitamura, M. Arita, and Y. Arakawa: Appl. Phys. Lett. 95 (2009) 253303.
14. J. B. You, X. W. Zhang, S. G. Zhang, J. X. Wang, Z. G. Yin, H. R. Tan, W. J. Zhang, P. K. Chu, B. Cui, A. M. Wowchak, A. M. Dabiran, and P. P. Chow: Appl. Phys. Lett. 96 (2010) 201102.
15. S. Yoshizawa, K. Nishimura, and T. Sakurai: J. Phys.: Conf. Ser. 100 (2008) 082052.
16. J. Sun, T. Yang, G. Du, H. Liang, J. Bian, and L. Hu: Appl. Surf. Sci. 253 (2006) 2066.
17. L. Wang, Y. Pu, Y. F. Chen, C. L. Mo, W. Q. Fang, C. B. Xiong, J. N. Dai, and F. Y. Jiang: J. Cryst. Growth 284 (2005) 459.
18. N. Fujimura, T. Nishihara, S. Goto, J. Xu, and T. Ito: J. Cryst. Growth 130 (1993) 269.
19. S. Heinze, A. Krtschila, J. Bläsinga, T. Hempela, P. Veita, A. Dadgara, J. Christena, and A. Krost: J. Cryst. Growth 308 (2007) 170.
20. W. Jo, S. J. Kim, and D. Y. Kim: Acta Mater. 53 (2005) 4185.
21. T. E. Murphy, S. Walavalkar, and J. D. Phillips: Appl. Phys. Lett. 85 (2004) 6338.
22. C. Klingshirn: Phys. Status Solidi B 71 (1975) 547.
23. Y. H. Cho, J. Y. Kim, H. S. Kwack, B. J. Kwon, L. S. Dang, H. J. Ko, and T. Yao: Appl. Phys. Lett. 89 (2006) 201903.