Agglomeration effects of thin metal catalyst on graphene film synthesized by chemical vapor deposition

Electronic Materials Letters

Volumn 7, Issue 3, 2011, Pages 261-264

  Kim, Eunho ^a   Lee, Wan Gyu ^b   Jung, Jongwan ^a  

^a Sejong University   (South Korea)

^b National Nano Fab Center (NNFC)   (South Korea)

Author keywords

agglomeration; catalyst; CVD; few layer graphene; graphene

Indexed keywords

AGGLOMERATION EFFECTS; CATALYST FILM; CO CATALYSTS; FEW-LAYER GRAPHENE; NONUNIFORMITY; THICKNESS UNIFORMITY; THIN METALS;

AGGLOMERATION; CATALYSTS; CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; COBALT; DISSOLUTION;

GRAPHENE;

EID: 80054098543     PISSN: 17388090     EISSN: 20936788     Source Type: Journal    
DOI: 10.1007/s13391-011-0915-z     Document Type: Article

References (22)

1. K. S. Novoselov, A. K. Geim, S. V. Morozov, D. Jiang, Y. Zhang, S. V. Dubonos, I. V. Grigorieva and A. A. Firsov, Science306, 666 (2004).
2. A. K. Geim and K. S. Novoselov, Nature Mater. 6, 183 (2007).
3. A. K. Geim, Science324, 1530 (2009).
4. C. Lee, X. D. Wei, J. W. Kysar, and J. Hone, Science321, 385 (2008).
5. A. A. Balandin, S. Ghosh, W. Z. Bao, I. Calizo, D. Teweldebrhan, F. Miao, and C. N. Lau, Nano Lett. 8, 902 (2008).
6. K. Kim, Y. Zhao, H. Jang, S. Lee, J. Kim, K. Kim, J. Ahn, P. Kim, J. Choi, and B. Hong, Nature457, 706 (2009).
7. B. J. Lee, H. Y. Yu, and G. H. Jeong, Nanoscale. Res. Lett. 5, 1768 (2010).
8. S. W. Lee, S. J. Park, E. E. B. Campbell, and Y. W. Park, Nat. Comm. 2, 1 (2011).
9. C. Berger, Z. Song, T. Li, X. Li, A. Y. Ogbazghi, R. Feng, Z. Dai, A. N. Marchenkov, E. H. Conrad, P. N. First, and W. A. de Heer, J. Phys. Chem. B108, 19912 (2004).
10. C. Berger, Z. Song, X. Li, X. Wu, N. Brown C., C. Naud, D. Mayou, T. Li, J. Hass, A. N. Marchenkov, E. H. Conrad, P. N. First and W. A. de Heer, Science312, 1191 (2006).
11. H. C. Schniepp, J-L Li, M. J. McAllister, H. Sai, M. Herrera-Alonso, D. H. Adamson, R. K. Prud'homme, R. Car, D. A. Saville, and I. A. Aksay, J. Phys. Chem. B110, 8535 (2006).
12. X. Li, X. Wang, L. Zhang, S. Lee, and H. Dai, Science319, 1229 (2008).
13. A. Reina, X. Jia, J. Ho, D. Nezich, H. Son, V. Bulovic, M. S. Dresselhaus, and J. Kong, Nano Lett. 9, 30 (2009).
14. S. Bae, H. Kim, Y. Lee, X. Xu, J. Park, Y. Zheng, J. Balakrishnan, T. Lei, H. Kim, Y. Song, Y. Kim, K. Kim, B. Özyilmaz, J. Ahn, B. Hong, and S. Iijima, Nature Nanotech. 5, 574 (2010).
15. A. Reina, S. Thiele, X. Jia, S. Bhaviripudi, M. S. Dresselhaus, J. A. Schaefer, and J. Kong, Nano Res. 2, 509 (2009).
16. S. Chae, F. Günes, K. Kim, E. Kim, G. Han, S. Kim, H. Shin, S. Yoon, J. Choi, M. Park, C. Yang, D. Pribat, and Y. Lee, Adv. Mater. 21, 2328 (2009).
17. E. Kim, H. An, H, Jang, W. Cho, N. Lee, W. Lee, and J. Jung, Chem. Vap. Deposition. 17, 9 (2011).
18. E. Jiran and C. V. Thompson, J. Electron. Mater. 19, 1153 (1990).
19. J. J. Rha and J. K. Park, J. Appl. Phys. 82, 1608 (1997).
20. D. J. Srolovitz and S. A. Safran, J. Appl. Phys. 60, 247 (1986).
21. M. Castriota, E. Cazzanelli, D. Pacilè, L. Papagno, Ç. O. Girit, J. C. Meyer, A. Zettl, M. Giarola, and G. Mariotto, Diam. Relat. Mater. 19, 608 (2010).
22. A. C. Ferrari, J. C. Meyer, V. Scardaci, C. Casiraghi, M. Lazzeri, F. Mauri, S. Piscanec, D. Jiang, K. S. Novoselov, S. Roth, and A. K. Geim, Phys. Rev. Lett. 97, 187401 (2006).