Hierarchical nanostructures by sequential self-assembly of styrene-dimethylsiloxane block copolymers of different periods

Advanced Materials

Volumn 23, Issue 5, 2011, Pages 634-639

  Son, Jeong Gon ^a   Hannon, Adam F ^a   Gotrik, Kevin W ^a   Alexander Katz, Alfredo ^a   Ross, Caroline A ^a  

^a Massachusetts Institute of Technology Cambridge   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CONVENTIONAL LITHOGRAPHY; DIMETHYLSILOXANE; HIERARCHICAL NANOSTRUCTURES; HIERARCHICAL PROCESS; MICRON SCALE; SELF-ASSEMBLED; SIMPLE METHOD; TEMPLATED;

BLOCK COPOLYMERS; COPOLYMERIZATION; MICROCHANNELS; SELF ASSEMBLY;

STYRENE;

BAYSILON; DIMETICONE; NANOMATERIAL; POLYSTYRENE DERIVATIVE;

ARTICLE; CHEMISTRY; METHODOLOGY; NANOTECHNOLOGY; OXIDATION REDUCTION REACTION; POLYMERIZATION; PRINTING;

DIMETHYLPOLYSILOXANES; NANOSTRUCTURES; NANOTECHNOLOGY; OXIDATION-REDUCTION; POLYMERIZATION; POLYSTYRENES; PRINTING;

EID: 79952595830     PISSN: 09359648     EISSN: 15214095     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adma.201002999     Document Type: Article

References (44)

1. L. Leibler, Macromolecules 1980, 13, 1602.
2. F. S. Bates, G. H. Fredrickson, Annu. Rev. Phys. Chem. 1990, 41, 525.
3. M. Park, C. Harrison, P. M. Chaikin, R. A. Register, D. H. Adamson, Science 1997, 276, 1401.
4. J. Y. Cheng, C. A. Ross, H.I. Smith, E. L. Thomas, Adv. Mater. 2006, 18, 2505.
5. M. Lazzari, M. A. Lopes-Quintela, Adv. Mater. 2003, 15, 1583.
6. J. Y. Cheng, A. M. Mayes, C. A. Ross, Nat. Mater. 2004, 3, 823.
7. R. A. Segalman, H. Yokoyama, E. J. Kramer, Adv. Mater. 2001, 13, 1152.
8. C. B. Tang, E. M. Lennon, G. H. Fredrickson, E. J. Kramer, C. J. Hawker, Science 2008, 322, 429.
9. V. P. Chuang, J. Gwyther, R. A. Mickiewicz, I. Manners, C. A. Ross, Nano Lett. 2009, 9, 4364.
10. S. Park, D. H. Lee, J. Xu, B. Kim, S. W. Hong, U. Jeong, T. Xu, T. P. Russell, Science 2009, 323, 1030.
11. E. Sivaniah, Y. Hayashi, M. Iino, T. Hashimoto, K. Fukunaga, Macromolecules 2003, 36, 5894.
12. J. G. Son, X. Bulliard, H. Kang, P. F. Nealey, K. Char, Adv. Mater. 2008, 20, 3643.
13. Y. Fink, A. M. Urbas, M. G. Bawendi, J. D. Joannopoulos, E. L. Thomas, J. Lightwave Tech. 1999, 17, 1963.
14. J. J. Chiu, B. J. Kim, E. J. Kramer, D. J. Pine, J. Am. Chem. Soc. 2005, 127, 5036.
15. J. G. Son, W. K. Bae, H. Kang, P. F. Nealey, K. Char, ACS Nano 2009, 3, 3927.
16. Y. S. Jung, C. A. Ross, Nano Lett. 2007, 7, 2046.
17. Y. S. Jung, C. A. Ross, Adv. Mater. 2009, 21, 2540.
18. Y. S. Jung, C. A. Ross, Small 2009, 5, 1654.
19. Y. S. Jung, J. B. Chang, E. Verploegen, K. K. Berggren, C. A. Ross, Nano Lett. 2010, 10, 1000.
20. S.-J. Jeong, J. E. Kim, H.-S. Moon, B. H. Kim, S. M. Kim, J. B. Kim, S. O. Kim, Nano Lett. 2009, 9, 2300
21. S. H. Park, D. O. Shin, B. H. Kim, D. K. Yoon, K. Kim, S. Y. Lee, S.-H. Oh, S.-W. Choi, S. C. Jeon, S. O. Kim, Soft Matter 2010, 6, 120.
22. S.-J. Jeong, H.-S. Moon, J. Shin, B. H. Kim, D. O. Shin, J. Y. Kim, Y.-H. Lee, J. U. Kim, S. O. Kim, Nano Lett. 2010, 10, 3500.
23. S.-J. Jeong, H.-S. Moon, B. H. Kim, J. Y. Kim, J. Yu, S. Lee, M. G. Lee, H. Y. Choi, S. O. Kim, ACS Nano 2010, 4, 5181.
24. S. O. Kim, H. H. Solak, M. P. Stoykovich, N. J. Ferrier, J. J. de Pablo, P. F. Nealey, Nature 2003, 424, 411.
25. M. P. Stoykovich, M. Muller, S. O. Kim, H. H. Solak, E. W. Edwards, J. J. de Pablo, P. F. Nealey, Science 2005, 308, 1442.
26. J. K. W. Yang, Jung, Y. S.J.-B., Chang, R.A. Mickiewicz, A. Alexander-Katz, C. A. Ross, K. K. Berggren, Nat. Nanotechnol. 2010, 5, 256.
27. R. Ruiz, H. Kang, F. A. Detcheverry, E. Dobisz, D. S. Kercher, T. R. Albrecht, J. J. de Pablo, P. F. Nealey, Science 2008, 321, 936.
28. I. Bita, J. K. W. Yang, Y. S. Jung, C. A. Ross, E. L. Thomas, K. K. Berggren, Science 2008, 321, 939.
29. S. Xiao, X. M. Yang, S. Park, D. Weller, T. P. Russell, Adv. Mater. 2009, 21, 2516.
30. M. P. Stoykovich, H. Kang, K. Daoulas, G. Liu, C.-C. Liu, J. J. de Pablo, M. Muller, P. F. Nealey, ACS Nano 2007, 1, 168.
31. S. O. Kim, B. H. Kim, D. Meng, D. O. Shin, C. M. Koo, H. H. Solak, Q. Wang, Adv. Mater. 2007, 19, 3271.
32. R. Ruiz, R. L. Sandstrom, C. T. Black, Adv. Mater. 2007, 19, 587.
33. S. M. Park, P. Ravindran, Y.-H. La, G. S. W. Craig, N. J. Ferrier, P. F. Nealey, Langmuir 2007, 23, 9037.
34. J. Bang, S. H. Kim, E. Drockenmuller, M. J. Misner, T. P. Russell, C. J. Hawker, J. Am. Chem. Soc. 2006, 128, 7622.
35. J. K. Bosworth, M. Y. Paik, R. Ruiz, E. L. Schwartz, J. Q. Huang, A. W. Ko, D. M. Smilges, C. T. Black, C. K. Ober, ACS Nano 2008, 2, 1396.
36. J. Brandrup, E. H. Immergut, E. A. Grulke, A. Abe, D. R. Bloch, Polymer Handbook, 4th ed., John Wiley & Sons, 2005.
37. M. S. Turner, J.-F. Joanny, Macromolecules 1992, 25, 6681.
38. Y. Tsori, D. Andelman, Macromolecules 2003, 36, 8560.
39. H.-C. Kim, C. T. Rettner, L. Sundström, Nanotechnology 2008, 19, 235301.
40. G. H. Fredrickson, The Equilibrium Theory of Inhomogeneous Polymers, Oxford University Press: Oxford, England 2006.
41. A. Alexander-Katz, G. H. Fredrickson, Macromolecules 2007, 40, 4075.
42. M. Y. Paik, J. K. Bosworth, D.-M. Smilges, E. L. Schwartz, X. Andre, C. K. Ober, Macromolecules 2010, 43, 4253.
43. E. W. Edwards, M. F. Montague, H. H. Solak, C. J. Hawker, P. F. Nealey, Adv. Mater. 2004, 16, 1315.
44. J. Finders, M. Dusa, B. Vleeming, B. Hepp, M. Maenhoudt, S. Cheng, T. Vandeweyer, in Double patterning lithography for 32 nm: critical dimensions uniformity and overlay control considerations, Symposium on Advanced Lithography, San Jose, CA, Feb 24 - 29, 2008, SPIE-Society of Photoptical Instrumentation Engineers, Bellingham, WA, 2008.