On the monolayer adsorption of thiol-terminated dendritic oligothiophenes onto gold surfaces

Macromolecular Chemistry and Physics

Volumn 211, Issue 24, 2010, Pages 2562-2572

  Jiang, Guoqian ^a   Deng, Suxiang ^a   Baba, Akira ^b   Huang, Chengyu ^a   Advincula, Rigoberto C ^a  

^a University of Houston   (United States)

^b NIIGATA UNIVERSITY   (Japan)

Author keywords

dielectric properties; electrochemistry; films; self assembly; surfaces

Indexed keywords

ADSORPTION KINETICS; ALKYL CHAIN LENGTHS; AS-LIGANDS; AU SURFACES; CHARGE TRANSPORT PROPERTIES; COMPETITIVE ADSORPTION; DENDRON THIOLS; DENDRONS; DIELECTRIC CONSTANTS; DIFFERENTIAL METHODS; ELECTROCHEMICAL REDOX; ELECTRON TRANSFER; GOLD SURFACES; IN-SITU ADSORPTION; KINETICS MEASUREMENTS; MONOLAYER ADSORPTION; NON-LINEAR FIT; OLIGOTHIOPHENES; SEMICONDUCTOR NANOPARTICLES; SUBPHASES; SURFACE COVERAGES; SURFACE PLASMON RESONANCE SPECTROSCOPY; THIOL END GROUPS;

ADSORPTION; DENDRIMERS; DIELECTRIC PROPERTIES; ELECTROCHEMISTRY; ENERGY TRANSFER; GOLD; GOLD METALLURGY; ORGANIC POLYMERS; SELF ASSEMBLED MONOLAYERS; SELF ASSEMBLY; THIOPHENE; TRANSPORT PROPERTIES;

SURFACE PLASMON RESONANCE;

EID: 78650088740     PISSN: 10221352     EISSN: 15213935     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/macp.201000427     Document Type: Article

References (65)

1. J. Chen, M. A. Reed, A. M. Rawlett, J. M. Tour, Science 1999, 286, 550.
2. C. E. D. Chidsey, Science 1991, 251, 919.
3. K. L. Prime, G. M. Whitesides, Science 1991, 252, 1164.
4. P. E. Laibinis, G. M. Whitesides, J. Am. Chem. Soc. 1992, 114, 9022.
5. R. P. Janek, W. R. Fawcett, A. Ulman, Langmuir 1998, 14, 3011.
6. A. Ulman, Chem. Rev. 1996, 96, 1533.
7. J. C. Love, L. A. Estroff, J. K. Kriebel, R. G. Nuzzo, G. M. Whitesides, Chem. Rev. 2005, 105, 1103.
8. C. B. Gorman, R. L. Miller, K. Y. Chen, A. R. Bishop, R. T. Haasch, R. G. Nuzzo, Langmuir 1998, 14, 3312.
9. L. Zhang, F. Huo, Z. Wang, L. Wu, X. Zhang, S. Hoppener, L. Chi, H. Fuchs, J. Zhao, L. Niu, S. Dong, Langmuir 2000, 16, 3813.
10. Y. G. Jiang, Z. Q. Wang, X. Yu, F. Shi, H. P. Xu, X. Zhang, Langmuir. 2005, 2, 1986.
11. L. Zhang, B. Zou, D. Dong, F. W. Huo, X. Zhang, L. F. Chi, L. Jiang, Chem. Comm. 2001, 19, 1906.
12. M. Yang, E. M. W. Tsang, Y. A. Wang, X. G. Peng, H. Z. Yu, Langmuir 2005, 21, 1858.
13. N. Reitzel, D. R. Greve, K. Kjaer, P. B. Hows, M. Jayaraman, S. Savoy, R. D. McCullough, J. T. McDevitt, T. Bjornholm, J. Am. Chem. Soc. 2000, 122, 5788
14. M. H. Dishner, J. C. Hemminger, F. J. Feher, Langmuir 1996, 12, 6176.
15. R. Azumi, E. Mena-Osteritz, R. Boese, J. Benet-Buchholz, P. Bauerle, J. Mater. Chem. 2006, 16, 728.
16. I. Perepichka, D. Perepichka, H. Meng, F. Wudl, Adv. Mater. 2005, 17, 2281.
17. T. Muck, J. Fritz, V. Wagner, Appl. Phys. Lett. 2005, 86, 232101.
18. N. B. Zhitenev, A. Erbe, Z. Bao, Phys Rev. Lett. 2004, 92, 186805.
19. H. Ahn, J. E. Whitten, J. Phys. Chem. B 2003, 107, 6565.
20. H. L. Yan, G. Q. Shi, Nanotechnology 2006, 17, 13.
21. T. Matsuura, M. Nakajima, Y. Shimoyama, Jpn. J. Appl. Phys. 2001, 40, 6945.
22. Z. Q. Peng, S. J. Dong, Langmuir 2001, 17, 4904.
23. C. Majumder, H. Mizuseki, Y. Kawazoe, J. Chem. Phys. 2003, 118, 9809
24. M. Sierra, M. A. Herranz, S. Zhang, L. Sanchez, N. Martin, L. Echegoyen, Langmuir 2006, 22, 10619.
25. C. Xia, X. Fan, M.-K. Park, R. Advincula, Langmuir 2001, 17, 7893.
26. Y. Yokota, A. Miyazaki, K-i. Fukui, T. Enoki, K. Tamada, M. Hara, J. Phys. Chem. B 2006, 110, 20401.
27. R. Advincula, Dalton Trans. 2006, 23, 2778.
28. R. Georgiadis, K. P. Peterlinz, A. W. Peterson, J. Am. Chem. Soc. 2000, 122, 3166
29. R. Georgiadis, K. A. Peterlinz, J. R. Rahn, A. W. Peterson, J. H. Grassi, Langmuir 2000, 16, 6759.
30. F. S. Damos, R. C. S. Luz, L. T. Kubota, Langmuir 2005, 21, 602.
31. V. Chechik, H. Schonherr, G. J. Vancso, C. J. M. Stirling, Langmuir 1998, 14, 3003.
32. R. F. DeBono, G. D. Loucks, D. D. Manna, U. J. Krull, Can. J. Chem. 1996, 74, 677
33. J. Feder, I. Giaver, J. Colloid and Interface Science 1980, 78, 144.
34. L. S. Jung, C. T. Campbell, T. M. Chinowsky, M. N. Mar, S. S. Yee, Langmuir 1998, 14, 5636
35. R. J. Green, J. Davies, M. C. Davies, C. J. Roberts, S. J. B. Tendler, Biomaterials 1997, 18, 405
36. J. Feder, I. Giaver, J. Colloid and Interface Science 1980, 78, 144
37. R. F. DeBono, G. D. Loucks, D. D. Manna, U. J. Krull, Can. J. Chem. 1996, 74, 677.
38. W. Knoll, Curr. Opin. Colloid Interface Sci. 1996, 1, 137
39. W. Knoll, Annu. Rev. Phys. Chem. 1998, 49, 569
40. R. Advincula, E. Aust, W. Meyer, W. Knoll, Langmuir 1996, 12, 3536.
41. C. Xia, R. Advincula, A. Baba, W. Knoll, Langmuir 2002, 18, 3555.
42. A. Baba, M.-K. Park, R. Advincula, W. Knoll, Langmuir 2002, 18, 4648
43. A. Baba, W. Knoll, R. Advincula, Rev. Sci. Inst. 2006, 77, 064101
44. A. Baba, R. C. Advincula, W. Knoll, in Interface Science 2001, 11, 55.
45. P. Flükiger, H. P. Lüthi, S. Portmann, J. Weber, MOLEKEL 4.3, Center for Scientific Computing, Manno, Switzerland 2000-2002
46. M. J. Frisch, G. W. Trucks, H. B. Schlegel, G. E. Scuseria, M. A. Robb, J. R. Cheeseman, V. G. Zakrzewski, J. A. Montgomery, Jr., R. E. Stratmann, J. C. Burant, S. Dapprich, J. M. Millam, A. D. Daniels, K. N. Kudin, M. C. Strain, O. Farkas, J. Tomasi, V. Barone, M. Cossi, R. Cammi, B. Mennucci, C. Pomelli, C. Adamo, S. Clifford, J. Ochterski, G. A. Petersson, P. Y. Ayala, Q. Cui, K. Morokuma, D. K. Malick, A. D. Rabuck, K. Raghavachari, J. B. Foresman, J. Cioslowski, J. V. Ortiz, B. B. Stefanov, G. Liu, A. Liashenko, P. Piskorz, I. Komaromi, R. Gomperts, R. L. Martin, D. J. Fox, T. Keith, M. A. Al-Laham, C. Y. Peng, A. Nanayakkara, C. Gonzalez, M. Challacombe, P. M. W. Gill, B. G. Johnson, W. Chen, M. W. Wong, J. L. Andres, M. Head-Gordon, E. S. Replogle, J. A. Pople, Gaussian 98, Revision A.7 ed., Gaussian, Inc, Pittsburgh, PA 1998.
47. E. Kretschmann, Opt. Commun. 1972, 6, 185.
48. H. E. D. Bruijn, B. S. F. Altenburg, R. P. H. Kooyman, J. Greve, Opt. Commun. 1991, 82, 425.
49. K. A. Peterlinz, R. Georgiadis, Opt. Commun. 1996, 130, 260.
50. K. A. Peterlinz, R. Georgiadis, Langmuir 1996, 12, 4731.
51. K. A. Peterlinz, R. M. Georgiadis, T. M. Herne, M. J. Tarlov, J. Am. Chem. Soc. 1997, 119, 3401.
52. S. Yokokawa, K. Tamada, E. Ito, M. Hara, J. Phys. Chem. B 2003, 107, 3544.
53. D. S. Karpovich, G. J. Blanchard, Langmuir 1994, 10, 3315.
54. A. W. Peterson, L. K. Wolf, R. M. Georgiadis, J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 14601.
55. D. Hellberg, F. Scholz, F. Schubert, M. Lovric, D. Omanovic, V. A. Hernandez, R. Thede, J. Phys. Chem. B 2005, 109, 14715.
56. K. Balashev, A. Bois, J. E. Proust, Tz. Ivanova, I. Petkov, S. Masuda, I. Panaiotov, Langmuir 1997, 13, 5362.
57. J. I. Steinfeld, J. S. Francisco, W. L. Hase, Chemical Kinetics and Dynamics, Prentice Hall, Englewood Cliffs 1989, Chapter 2-4.
58. M. I. Viseu, A. M. Goncalves da Silva, S. M. B. Costa, Langmuir 2001, 17, 1529.
59. S. Egusa, T. Nakayama, N. Gemma, A. Miura, M. Azuma, Thin Solid Films 1989, 178, 165.
60. A. J. Bard, L. R. Faulkner, Electrochemical Methods. Fundamentals and Applications, Wiley, New York 1980.
61. M. D. Porter, T. B. Bright, D. L. Ailara, C. E. D. Chidsey, J. Am. Chem. Soc. 1987, 109, 3559.
62. W. B. Caldwell, K. Chen, C. A. Mirkin, S. J. Babinec, Langmuir. 1993, 9, 1945.
63. K. Nakano, T. Sato, M. Tazaki, M. Takagi, Langmuir 2000, 16, 2225.
64. G. Sauerbrey, Z. Phys. 1959, 155, 206.
65. H. Ahn, M. Kim, D. J. Sandman, J. E. Whitten, Langmuir 2003, 19, 5303.