Wetting properties of polycrystalline TiO2 surfaces: A scaling approach to the roughness factors

Langmuir

Volumn 26, Issue 20, 2010, Pages 15875-15882

  Borras, Ana ^a   González Elipe, Agustín R ^a  

^a INSTITUTO DE CIENCIA DE MATERIALES DE SEVILLA   (Spain)

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ANATASE FILMS; ANATASE SURFACES; ANATASE TIO; CHARACTERISTIC PARAMETER; CRYSTALLINE DOMAINS; DYNAMIC SCALING THEORY; HYDROPHILIZATION; HYDROPHOBIC CHARACTER; MICROWAVE PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITIONS; POLYCRYSTALLINE; POLYCRYSTALLINE THIN FILM; ROUGHNESS FACTOR; SURFACE HETEROGENEITIES; SURFACE STATE; TIO; UV INDUCED; UV PHOTONS; WATER CONTACT ANGLE; WETTING ANGLE; WETTING PROPERTY;

ATOMIC FORCE MICROSCOPY; CONTACT ANGLE; DEPOSITION; PLASMA DEPOSITION; PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; SURFACE PROPERTIES; TEXTURES; THIN FILMS; TITANIUM DIOXIDE; WETTING;

SURFACE ROUGHNESS;

EID: 77957924046     PISSN: 07437463     EISSN: 15205827     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/la101975e     Document Type: Article

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