Epitaxial growth of MgO and CoFe/MgO on Ge(00l) substrates by molecular beam epitaxy

Crystal Growth and Design

Volumn 10, Issue 3, 2010, Pages 1346-1350

  Jeon, Kun Rok ^a   Park, Chang Yup ^a   Shin, Sung Chul ^a  

^a Korea Advanced Institute of Science and Technology (KAIST)   (South Korea)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

FILM GROWTH; GERMANIUM; IRON COMPOUNDS; MOLECULAR BEAM EPITAXY; MOLECULAR BEAMS; SATURATION MAGNETIZATION;

EX SITU; LOW-GROWTH-TEMPERATURE; MATCHING PLANES; MGO FILMS; MOLECULAR-BEAM EPITAXY; SHARP INTERFACE; STRUCTURAL CHARACTERIZATION;

MAGNESIA;

EID: 77955168484     PISSN: 15287483     EISSN: 15287505     Source Type: Journal    
DOI: None     Document Type: Article

References (27)

1. Wolf, S. A.; Awschalom, D. D.; Buhrman, R. A; Daughton, J. M.; von Molńar, S.; Roukes, M. L.; Chtchelkanova, A. Y.; Treger, D. M. Science 2001, 294, 1488.
2. Awschalom, D. D.; Flatté, M. E. Nature Phys. 2007, 3, 153.
3. Zutić, I.; Fabian, J.; Das Sarma, S. Rev. Mod. Phys. 2004, 76, 323.
4. Zutić, I.; Fabian, J.; Erwin, S. C. Phys. Rev. Lett. 2006, 97, 026602.
5. Jedema, F. J.; Filip, A. T.; van Wees, B. J. Nature (London) 2001, 410, 345.
6. Jonker, B. T. Proc. IEEE 2003, 91, 727.
7. Rashiba, E. I. Phys. Rev. B. 2000, 62, R16267.
8. Fert, A.; Jaffrès, H. Phys. Rev. B 2001, 64, 184420.
9. Motsnyi, V. F.; De Boeck, J.; Das, J.; VanRoy, W.; Borghs, G.; Goovaerts, E.; Safarov, V. I. Appl. Phys. Lett. 2001, 81, 265.
10. van't Erve, O. M. J.; Kioseoglou, G.; Hanbicki, A. T.; Li, C. H.; Jonker, B. T.; Mallory, R.; Yasar, M.; Petrou, A. Appl. Phys. Lett. 2004, 84, 4334.
11. Jiang, X.; Wang, R.; Shelby, R. M.; Macfarlane, R. M.; Bank, S. R.; Harris, J. S.; Parkin, S. S. P. Phys. Rev. Lett. 2005, 94, 056601.
12. Bulter, W. H.; Zhang, X. G.; Schulthess, T. C.; MacLaren, J. M. Phys. Rev. B 2001, 63, 054416.
13. Mathon, J.; Umerski, A. Phys. Rev. B 2001, 63, 220403(R).
14. Hung, L. S.; Z heng, L. R.; Blanton, T. N. Appl. Phys. Lett. 1992, 50, 3129.
15. Boubeta, C. M.; Boubeta, C. M.; Costa-Krämer, J. L.; Cebollada, A. J. Phys.: Condens. Matter 2003, 15, R1123.
16. Boubeta, C. M.; Navarro, E.; Cebollada, A.; Briones, F.; Peiró, F.; Cornet, A. J. Cryst. Growth 2001, 226, 223.
17. Miao, G. X.; Chang, J. Y.; Veenhuizen, M. J.; Thei, K.; Seibt, M.; Eliers, G.; Münzenberg, M.; Moodera, J. S. Appl. Phys. Lett. 2008, 93, 142511.
18. Miao, G. X.; Park, Y. J.; Moodera, J. S.; Seibt, M.; Eliers, G.; Münzenberg, M. Phys. Rev. Lett. 2008, 100, 246803.
19. Patibandla, S.; Pramanik, S.; Bandyopadhyay; Tepper, G. C. J. Appl. Phys. 2006, 100, 044303.
20. Tasker, P. W.; Duffy, D. M. Surf. Sci. 1984, 137, 91.
21. Smith D. L. In Textbook of Thin Film Deposition Principles & Practice; McGraw-Hill: New York, NY, 1995; Chapter 5, pp 170771.
22. Loscutoff, P. W.; Bent, S. F. Annu. Rev. Phys. Chem. 2006, 57, 467.
23. Narayan, J.; Larson, B. C. J. Appl. Phys. 2003, 93, 278.
24. Mathews, J. W.; Blakeslee, A. E. J. Cryst. Growth 1974, 27, 188.
25. Subagyo, A.; Oka, H.; Eilers, G.; Sueoka, K.; Mukasa, K. Jpn. J. Appl. Phys. 2000, 39, 3777.
26. Michelin, F.; Ressier, L.; Degauque, J.; Baulés, P.; Fert, A. R.; Peyrade, J. P.; Bobo, J. F. J. Appl. Phys. 2002, 92, 7337.
27. Ji, C.-X.; Lu, F.; Chang, Y. A.; Yang, J. J.; Rzchowski, M. S. Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 022504.