Mass and energy spectrometry of atmospheric pressure plasmas

Plasma Processes and Polymers

Volumn 7, Issue 2, 2010, Pages 92-101

  Alan Rees, J ^a   Seymour, David L ^a   Greenwood, Claire Louise ^a   Gonzalvo, Yolanda Aranda ^a   Lundie, David T ^a  

^a HIDEN ANALYTICAL LTD   (United Kingdom)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ACTIVE SPECIES; ATMOSPHERIC PLASMAS; ATMOSPHERIC PRESSURE PLASMAS; CHARACTERISATION; DIAGNOSTIC TECHNIQUES; HIGH QUALITY; LOW PRESSURE PLASMA; MATERIALS PROCESSING; OPTIMISATIONS;

PLASMA SOURCES;

ATMOSPHERIC PRESSURE;

EID: 77049119291     PISSN: 16128850     EISSN: 16128869     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/ppap.200900122     Document Type: Article

References (47)

1. J. W. Coburn, E. Kay, J. Vac. Sci. Technol. 1971, 8, 738.
2. G. Scoles, Atomic and Molecular Beam Methods, Vol.1, Oxford Press, New York 1988, Ch. 2.
3. [3a] E. L. Knuth, in: Engine Emissions: Pollution Formation and Measurement, G. S. Springer, D. J. Patterson, Eds., Plenum, New York 1973, pp. 319;
4. [3b] E. L. Knuth, Comb Flame 1995, 103, 171.
5. H. Singh, J. W. Coburn, D. B. Graves, J. Vac. Sci. Technol. 1999, A17, 2447.
6. H. F. Winters, J. W. Coburn, Surf. Sci. Rep. 1992, 14, 161.
7. A. Bhargava, P. R. Westmoreland, Comb. Flame 1998, 115, 456.
8. E. Stoffels, A. J. Flikweert, W. W. Stoffels, G. M. W. Kroesen, Plasma Sources Sci. Technol. 2002, 11, 383.
9. K. Hishimoto, L. Goldman, Plast. Reconstr. Surg. 1974, 53, 110.
10. L. S. Sharps, Z. Isaac, Pain Physician 2002, 5, 121.
11. V. J. Law, S. Daniels, J. F. Lawlor, Abstracts UK Technol. Plasma Wkshop, Manchester, UK. Dec. 2006.
12. th CBRAVIC, 2009.
13. J. C. van der Heide, H. L. Wilson, Mod. Plast. 1961, 5, 199.
14. J. Salge, Surf. Coat. Technol. 1996, 80, 1.
15. J. Van Durme, J. Dewulf, C. Leys, H. Van Langenhove, Appl. Catal. B Environ. 2007, 78, 324.
16. O. Nomura, Technocrat 1983, 16, 29.
17. K. Kunimori, M. Osumi, S. Kameoka, S. Ito, Catal. Lett. 1992, 16, 443.
18. H. Uyama, T. Nakamura, S. Tanaka, O. Matsumoto, Plasma Chem. Plasma Process. 1993, 13, 117.
19. K. Kunimori, T. Kuriyama, S. Ito, S. Kameoka, Jpn. J. Appl. Phys. 1994, 33, 4195.
20. T. Mizushima, K. Matsumoto, H. Ohkita, N. Kakuta, Plasma Chem. Plasma Process. 2007, 27, 1.
21. Y. Zhu, Z. Li, Y. Zhou, H. Wang, J. Nat. Gas Chem. 2005, 14, 1.
22. R. Marques, S. Da Costa, P. Da Costa, Appl. Catal. B Environ. 2008, 62, 50.
23. J. L. Walsh, J. J. Shi, M. G. Kong, Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 171501.
24. J. J. Shi, M. G. Kong, Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 201501.
25. N. Y. Cui, N. M. D. Brown, Appl. Surf. Sci. 2002, 189, 31.
26. S. Y. Moon, W. Choi, Appl. Phys. Lett. 2004, 84, 188.
27. M. G. Kong, X. T. Deng, IEEE Trans. Plasma Sci. 2003, 31, 7.
28. J. A. Rees, D. L. Seymour, C-L. Greenwood, A. Scott, Nucl. Inst. Methods 1998, B134, 73.
29. P. J. Hatton, B. W. L. Southward, J. Therm. Anal. Calorim. 2003, 72, 83.
30. P. Kae-Nune, J. Perrin, J. Jolly, Surf. Sci. 1996, 360, L495.
31. W. Schwarzenbach, A. Tserepi, J. Derouard, N. Sadegi, Jpn. J. Appl. Phys. 1997, 36, 644.
32. J. K. Olthoff, R. J. Van Brunt, S. B. Radovanov, J. A. Rees, R. Surowiec, J. Appl. Phys. 1994, 75, 115.
33. M. Zeuner, H. Neumann, J. Meichsner, Vacuum 1997, 48, 443.
34. S. Agarwal, G. W. W. Quax, M. C. M. van de Sanden, D. Maroudas, E. S. Aydil, J. Vac. Sci. Technol. 2004, A21, 71.
35. Y. Aranda-Gonzalvo, T. D. Whitmore, J. A. Rees, D. L. Seymour, E. Stoffels, J. Vac. Sci. Technol. 2006, A24, 550.
36. E. Stoffels, Y. Aranda-Gonzalvo, T. D. Whitmore, D. L. Seymour, J. A. Rees, Plasma Sources Sci. Technol. 2006, 15, 501.
37. E. Stoffels, Y. Aranda-Gonzalvo, T. D. Whitmore, D. L. Seymour, J. A. Rees, Plasma Sources Sci. Technol. 2007, 16, 549.
38. J. D. Skalny, J. Orszagh, S. Matejcik, N. J. Mason, J. A. Rees, Y. Aranda-Gonzalvo, T. D. Whitmore, Int. J. Mass Spectrom. 2008, 272, 12.
39. J. D. Skalny, J. Orszagh, S. Matejcik, N. J. Mason, J. A. Rees, Y. Aranda-Gonzalvo, T. D. Whitmore, Int. J. Mass Spectrom. 2008, 277, 210.
40. J. D. Skalny, J. Orszagh, N. J. Mason, J. A. Rees, Y. Aranda-Gonzalvo, T. D. Whitmore, J. Phys. D Appl. Phys. 2008, 41, 1.
41. L. A. Leuthold, E. Varesio, G. Hopfgartner, Spectrosc. Eur. 2006, 18, 2.
42. R. B. Cody, J. A. Laramee, H. D. Durst, Anal. Chem. 2005, 77, 2297.
43. J. T. Shelley, J. S. Wiley, G. C. Y. Chan, G. D. Schilling, S. J. Ray, G. M. Hieftje, J. Am. Soc. Mass Spectrom. 2008.
44. F. J. Andrade, W. C. Wetzel, G. C. Y. Chan, M. R. Webb, G. Gamez, S. J. Ray, G. M. Hieftje, J. Anal. At. Spectrom. 2006, 21, 1175.
45. th ICPIG Prague 2007, p. 820.
46. L. V. Ratcliffe, F. J. M. Rutten, D. A. Barrett, T. D. Whitmore, D. J. Seymour, C. L. Greenwood, Y. Aranda-Gonzalvo, S. Robinson, M. McCoustra, Anal. Chem. 2007, 79, 6094.
47. st G.E. Conf., Dallas, 2008.