Inductively-coupled BCI 3/O 2 plasma etching of germanium

Journal of the Korean Physical Society

Volumn 55, Issue 5 PART 1, 2009, Pages 1799-1802

  Kim, T S ^a   Yang, H Y ^a   Kil, Y H ^a   Choi, S S ^a   Jeong, T S ^a   Kang, S ^a   Shim, K H ^a  

^a Chonbuk National University   (South Korea)

Author keywords

Etching; Ge; ICP; Plasma

Indexed keywords

EID: 73249152179     PISSN: 03744884     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.3938/jkps.55.1799     Document Type: Article

References (19)

1. U. Gnutzmann and K. Clausecker, Appl. Phys. 3, 9 (1974).
2. E. Kasper, H. Kibbel, H-J. Herzog and A. Gruhle, Jpn. J. Appl. Phys. 33, 2415 (1994).
3. T. N. T. Nguyen and N-E. Lee, J. Korean Phys. Soc. 51, 984 (2007).
4. Yong Deuk Ko, Hui-Gon Chun and Jinhan Choi, J. Korean Phys. Soc. 52, 1187 (2008).
5. M. Rahman, N. P. Johnson, M. A. Foad, A. R. Long, M. C. Holland and C. D. W. Wilkinson, Appl. Phys. Lett. 61, 2335 (1992).
6. K. L. Seaward and N. J. Moll, J. Vac. Sci. Technol. B 10, 46 (1992).
7. R. A. Barker, T. M. Mayer and R. H. Burton, Appl. Phys. Lett. 40, 583 (1982).
8. V. M, Donnelly, D. L. Flamm, C. W. Tu and D. E. Ibbottson, J. Electrochem. Soe. 129, 2533 (1982).
9. K. B. Jung, H. Cho, Y. B. Hahn, E. S. Lambers, S. Onishi, D. Johnson, A. T. Hurst, Jr., J. R. Childress, Y. D. Park and S. J. Pearton, J. Appl. Phys. 85, 4788(1999)
10. S. C. Mc Nevin, J. Vac. Sci. Technol. 134, 1203 (1986).
11. S. J. Pearton, U. K. Chakrabarti, W. S. Hobson and A. Perley, J. Electrochem. Soc. 137, 3188 (1990).
12. L. R. Harriott, H. Temkin, Y. L. Wang, R. A. Hamm and J. S. Weimer, J Vac. Sci. Teehnol. B 8, 1380 (1990).
13. L. Stafford, J. Margot, S. Delprat, M. Chaker and S. J. Pearton, J. Appl. Phys. 101, 083303 (2007).
14. Liudi Jiang, R. Cheung, R. Brown and A. Mount, J. Appl. Phys. 93, 1736 (2003).
15. F. A. Khan and I. Adesida, Appl. Phys. Lett. 75, 2268 (1999).
16. S. J. Pearton and F. Ren, J. Mater. Sci. 5, 1 (1994).
17. G. S. Oehrlein, T. D. Bestwick, P. L. Jones, M. A. Jaso and J. L. LindstrSrn, J. Electrochem. Soc. 138, 1443 (1991).
18. J. F. Moulder, W. F. Stickle, P. E. Sobol and K. D. Bomben, Handbook of X-ray Photoelectron Spectroscopy, edited by J. Chastain (Perkin-Elmer, 1992).
19. J. F. Watts and J. Wolstenholme, An Introduction to Surface Analysis by XPS and AES (John Wiley k. Sons Ltd, 2003).